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十六甲基-1,15-二羟基八硅氧烷 | 4938-87-8

中文名称
十六甲基-1,15-二羟基八硅氧烷
中文别名
——
英文名称
1,1,3,3,5,5,7,7,9,9,11,11,13,13,15,15-hexadecamethyloctasiloxane-1,15-diol
英文别名
α,ω-Dihydroxy-hexadecamethyl-octasiloxan;Hexadecamethyloctasiloxane-1,15-diol;hydroxy-[[[[[[[hydroxy(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilane
十六甲基-1,15-二羟基八硅氧烷化学式
CAS
4938-87-8
化学式
C16H50O9Si8
mdl
——
分子量
611.252
InChiKey
OFVDHUJHDSEERV-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    430.3±28.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    0.988±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.7
  • 重原子数:
    33
  • 可旋转键数:
    14
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    105
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    9

SDS

SDS:4d7a11d1f5cef109e8287f40872ddc94
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上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    十六甲基-1,15-二羟基八硅氧烷tetrabutoxytitanium 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 生成 Tetrakis-(15-hydroxy-hexadecamethyl-octasiloxanyloxy)-titan
    参考文献:
    名称:
    Condensation of?,?-dihydroxypolydimethylsiloxanes with tetrabutoxytitanium
    摘要:
    DOI:
    10.1007/bf01083801
  • 作为产物:
    描述:
    六甲基环三硅氧烷吡啶 、 palladium on activated charcoal 、 碳酸氢钠 作用下, 以 1,4-二氧六环 、 aq. phosphate buffer 、 乙醚N,N-二甲基甲酰胺甲苯乙腈 为溶剂, 反应 127.17h, 生成 十六甲基-1,15-二羟基八硅氧烷
    参考文献:
    名称:
    官能化硅氧烷低聚物的端基直接嵌段共聚或液晶自组装行为
    摘要:
    用氢键脲基嘧啶酮 (UPy) 基序末端官能化的单分散低聚二甲基硅氧烷在其芳族端基和二甲基硅氧烷中间嵌段之间发生相分离,形成域间距 <5 nm 的有序纳米结构。这些定义明确的低聚物的自组装行为类似于高聚合度 (N)-高嵌段相互作用参数 (χ) 线性二嵌段共聚物的自组装行为,尽管它们的尺寸很小。具体而言,随着分子体积分数的不对称性增加,相形态从层状到六边形再到体心立方。混合具有不同分子量的分子以提供 >1.13 的分散性会导致无序,这表明分子单分散性对于超小有序相分离的重要性。相比之下,用 O-苄基化 UPy 衍生物末端官能化的低聚二甲基硅氧烷自组装成层状纳米结构,而不管体积分数如何,因为端基强烈偏好聚集在平面几何形状中。因此,这些分子表现出更经典的液晶自组装行为,其中层状双层厚度由硅氧烷中间嵌段决定。这里的层状纳米结构耐受分子多分散性。我们展示了高 χ-低 N 嵌段分子中端基的重要性,其中我们的
    DOI:
    10.1021/jacs.6b02172
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文献信息

  • Hydrogenolysis of Polysilanes Catalyzed by Low‐Valent Nickel Complexes
    作者:Bruno Pribanic、Monica Trincado、Frederik Eiler、Matthias Vogt、Aleix Comas‐Vives、Hansjörg Grützmacher
    DOI:10.1002/anie.201907525
    日期:2020.9
    is very unselective, leading to multiple side products. Herein, we describe a new catalytic hydrogenation of oligo‐ and polysilanes that is highly selective and proceeds under mild conditions. New lowvalent nickel hydride complexes are used as catalysts and secondary silanes, RR′SiH2, are obtained as products in high purity.
    在Si-Si键形成下有机硅烷(R x SiH 4- x)的脱氢反应是引起广泛研究的导致低聚硅烷或聚硅烷的过程。对逆反应的研究很少。迄今为止,Si-Si键的氢解需要非常苛刻的条件,并且非常无选择性,导致产生多种副产物。在这里,我们描述了一种新的低聚硅烷和聚硅烷的催化加氢方法,该方法具有很高的选择性,并在温和的条件下进行。新型低价氢化镍配合物用作催化剂,仲硅烷RR'SiH 2作为高纯度产品获得。
  • Synthesis and Self-Assembly of Discrete Dimethylsiloxane–Lactic Acid Diblock Co-oligomers: The Dononacontamer and Its Shorter Homologues
    作者:Bas van Genabeek、Bas F. M. de Waal、Mark M. J. Gosens、Louis M. Pitet、Anja R. A. Palmans、E. W. Meijer
    DOI:10.1021/jacs.6b00629
    日期:2016.3.30
    still have a molecular weight dispersity. Here, we describe the synthesis and properties of a series of discrete length diblock co-oligomers, based on oligo-dimethylsiloxane (oDMS) and oligo-lactic acid (oLA), diblock co-oligomers with highly noncompatible blocks. By utilizing an iterative synthetic protocol, co-oligomers with molar masses up to 6901 Da, ultralow molar mass dispersities (Đ ≤ 1.00002)
    大多数对嵌段共聚物相行为的理论和计算描述描述了完美和均匀聚合物的链系综。相比之下,对嵌段共聚物的实验研究总是使用具有分散分子组成的材料。尽管大多数聚合物是所谓的单分散,但它们仍然具有分子量分散性。在这里,我们描述了一系列基于低聚二甲基硅氧烷 (oDMS) 和低聚乳酸 (oLA)、具有高度不相容嵌段的双嵌段共聚低聚物的合成和性质。通过使用迭代合成方案,可以合成和表征摩尔质量高达 6901 Da、超低摩尔质量分散度 (Đ ≤ 1.00002) 和对共聚低聚物组成的独特控制的共聚低聚物。这种特定的嵌段共聚低聚物需要为 oDMS 结构开发一种新的发散策略,通过这种策略,最多 59 个 Si 原子的双和单取代 oDMS 衍生物都可用。两个模块的不兼容使得模块变得越长,最终耦合的要求就越高。这些优化的合成程序允许获得数克数量的大多数嵌段共聚低聚物,有助于详细研究嵌段共聚物相分离的下限。如 DSC、SAXS
  • Synthesis of bis[organocyclotri(tetrapenta)siloxy]polydimethylsiloxanes
    作者:K. A. Andrianov、A. I. Chernyavskii、N. N. Makarova
    DOI:10.1007/bf00950997
    日期:1979.8
  • Synthesis and properties of ?, ?-dihydroxydimethylsiloxanes
    作者:K. A. Andrianov、V. V. Astakhin、V. K. Pyzhov
    DOI:10.1007/bf00911383
    日期:1962.12
  • MELIKSETYAN, R. P.;XANANASHVILI, L. M.;TSOMAYA, N. I.;ERITSYAN, M. L.;BEJ+, XIMIYA I XIM. TEXNOL.,(1987) N 4, 181-188
    作者:MELIKSETYAN, R. P.、XANANASHVILI, L. M.、TSOMAYA, N. I.、ERITSYAN, M. L.、BEJ+
    DOI:——
    日期:——
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