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2-methoxy-2-(4-methoxyphenyl)-1-phenylethanone

中文名称
——
中文别名
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英文名称
2-methoxy-2-(4-methoxyphenyl)-1-phenylethanone
英文别名
——
2-methoxy-2-(4-methoxyphenyl)-1-phenylethanone化学式
CAS
——
化学式
C16H16O3
mdl
——
分子量
256.301
InChiKey
NFDQFTHNTOFIMN-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.2
  • 重原子数:
    19
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.19
  • 拓扑面积:
    35.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

反应信息

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文献信息

  • A visible-light-induced chemoselective radical/oxidative addition domino process to access α-chloro and α-alkoxy aryl ketones
    作者:Teng-fei Niu、Ding-yun Jiang、Si-yuan Li、Bang-qing Ni、Liang Wang
    DOI:10.1039/c6cc07272k
    日期:——
    A visible-light-induced radical-triggered chemoselective domino process to access [small alpha],[small alpha]-di-functionalized ketones under mild conditions has been developed. This protocol provides a direct approach to synthesize [small alpha]-chloro or [small alpha]-alkoxy aryl ketones based...
    已经开发了可见光诱导的自由基触发的化学选择性多米诺过程,以在温和的条件下接近[α],[α]-双官能团的小酮。该协议提供了一种直接的方法来合成基于...的[小α]-氯或[小α]-烷氧基芳基酮。
  • 可见光促进重氮盐、炔烃和醇串联加成羰基化反应
    申请人:江南大学
    公开号:CN106496009A
    公开(公告)日:2017-03-15
    本发明目的是一种在中性条件下,通过可见光促进下四氟硼酸重氮盐、炔和醇串联加成反应,氧化生成α‑烷氧基化芳基酮类化合物。
  • PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, FILM-LIKE ADHESIVE, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER, SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
    申请人:Hitachi Chemical Company, Ltd.
    公开号:EP2135910A1
    公开(公告)日:2009-12-23
    The photosensitive adhesive composition of the invention comprises (A) an alkali-soluble resin, (B) an epoxy resin, (C) a radiation-polymerizable compound and (D) a photoinitiator, wherein the (D) photoinitiator contains at least (D1) a photoinitiator that exhibits a function which promotes polymerization and/or curing reaction of the epoxy resin by exposure to radiation.
    本发明的光敏粘合剂组合物包括 (A) 碱溶性树脂、(B) 环氧树脂、(C) 可辐射聚合的化合物和 (D) 光引发剂,其中 (D) 光引发剂至少包含 (D1) 光引发剂,该光引发剂具有通过暴露于辐射促进环氧树脂聚合和/或固化反应的功能。
  • PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, AND FILM ADHESIVE, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION
    申请人:Hitachi Chemical Company, Ltd.
    公开号:EP2319893A1
    公开(公告)日:2011-05-11
    There is provided a photosensitive adhesive composition having a lowest melt viscosity at 20°C to 200°C after pattern formation of 30,000 Pa·s or lower.
    本发明提供了一种光敏粘合剂组合物,在 20°C 至 200°C 温度范围内,图案形成后的最低熔融粘度为 30,000 Pa-s 或更低。
  • Photosensitive adhesive composition, and film adhesive, adhesive sheet, adhesive pattern, semiconductor wafer with adhesive layer and semiconductor device using the photosensitive adhesive composition
    申请人:Hitachi Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP2366751A2
    公开(公告)日:2011-09-21
    There is provided a photosensitive adhesive composition having a lowest melt viscosity at 20°C to 200°C after pattern formation of 30,000 Pa·s or lower.
    本发明提供了一种光敏粘合剂组合物,在 20°C 至 200°C 温度范围内,图案形成后的最低熔融粘度为 30,000 Pa-s 或更低。
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