4-tert-butyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑啉类
• 英文名称: 4-tert-butyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole
• 化学式: C₇H₁₃NO
• 分子量: 127.186
• InChiKey: QEMGMKHRBKOVHA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  21.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  苯膦酰二氯 、 4-tert-butyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole 在 正丁基锂 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 为溶剂， 反应 3.5h， 以59%的产率得到bis((S)-2-isocyano-3,3-dimethylbutyl)phenylphosphonate
  参考文献：
  名称：

  [铜（菲咯啉）（双异腈）] +-可见光介导的原子转移自由基加成和烯丙基化反应的络合物

  摘要：

  合成了一系列杂合[Cu（菲咯啉）（双异腈）] +-配合物，并对其结构，光谱和电化学性质进行了研究。新的铜（I）配合物被用作可见光介导的原子转移自由基加成（ATRA）中的光氧化还原催化剂。特别地，由于[Cu（dpp）（binc）] BF 4（6a-BF 4）（dpp = 2,9-二苯基-1,10-菲咯啉； binc =双（2-异氰基苯基）苯基膦酸酯）被证明具有高活性与常用的[Cu（dap）2 ] Cl（1-Cl）（dap = 2,9-di（p-茴香基）-1,10-菲咯啉）。此外，该催化剂可用于在温和的可见光光氧化还原条件下与三甲基烯丙基硅烷进行烯丙基化反应。

  DOI：

  10.1021/acscatal.5b01071

文献信息

• [EN] CATALYTICS ASYMMETRIC ACTIVATION OF UNACTIVATED C-H BONDS, AND COMPOUNDS RELATED THERETO<br/>[FR] ACTIVATION CATALYTIQUE ASYMETRIQUE DE LIAISONS C-H INACTIVEES ET COMPOSES ASSOCIES
  申请人：UNIV BRANDEIS

  公开号：WO2006026053A1

  公开（公告）日：2006-03-09

  One aspect of the present invention is directed in part to catalytic and stereoselective functionalization of unactivated C-H bonds of simple organic substrates. The compounds and methods provided herein allow one to control the stereochemistry in a C-H activation step, activate substrates containing α-hydrogens next to the directing group, and remove a directing group under mild conditions. One aspect of the present invention relates to a transition-metal-catalyzed method for selective and asymmetric oxidation of carbons located in a β- or Ϝ-position relative to an auxiliary. Another aspect of the invention relates to the enantiomerically-enriched substrates and the enantiomerically-enriched products formed via said method. In certain embodiments, oxazoline and oxazinone directing groups are used. In addition, the Boc protecting group has been identified as a directing group which does not necessitate removal.

  本发明的一个方面部分涉及简单有机底物中未活化C-H键的催化和对映选择性官能团化。本发明提供的化合物和方法允许在C-H活化步骤中控制立体化学，活化含有邻近导向基团的α-氢的底物，并在温和条件下移除导向基团。本发明的另一方面涉及一种过渡金属催化的方法，用于选择性和非对称氧化位于辅助基团β-或Ϝ-位置上的碳。发明的另一个方面涉及通过所述方法形成的对映体富集的底物和对映体富集的产品。在某些实施例中，使用了恶唑啉和恶嗪酮导向基团。此外，Boc保护基团被识别为不需要移除的导向基团。
• RESIST UNDERLAYER FILM COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20180284615A1

  公开（公告）日：2018-10-04

  Provided is a resist underlayer film composition which is excellent in resistance to a basic hydrogen peroxide aqueous solution, in gap-filling and planarization characteristics, and in dry etching characteristic, wherein the resist underlayer film composition is used for a multilayer resist method, comprising: (A1) a polymer (1A) comprising one, or two or more, of a repeating unit represented by following general formula (1); (A2) one, or two or more, of a polyphenol compound having a formula weight of 2,000 or less and not having a 3,4-dihydroxy phenyl group; and (B) an organic solvent.

  提供了一种抗碱性过氧化氢水溶液、填孔和平坦化特性以及干法蚀刻特性优异的抗蚀底层膜组合物，该抗蚀底层膜组合物用于多层光刻方法，包括：（A1）聚合物（1A），其包括由以下通式（1）表示的重复单元中的一个或两个或多个；（A2）一种或两种或多种分子量不超过2000且不具有3,4-二羟基苯基的多酚化合物；和（B）有机溶剂。
• Resist underlayer film composition, patterning process, and method for forming resist underlayer film
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US10241412B2

  公开（公告）日：2019-03-26

  Provided is a resist underlayer film composition which is excellent in resistance to a basic hydrogen peroxide aqueous solution, in gap-filling and planarization characteristics, and in dry etching characteristic, wherein the resist underlayer film composition is used for a multilayer resist method, comprising: (A1) a polymer (1A) comprising one, or two or more, of a repeating unit represented by following general formula (1); (A2) one, or two or more, of a polyphenol compound having a formula weight of 2,000 or less and not having a 3,4-dihydroxy phenyl group; and (B) an organic solvent.

  本发明提供了一种抗蚀剂底层薄膜组合物，该组合物具有优异的抗碱性过氧化氢水溶液性能、间隙填充和平面化特性以及干蚀刻特性，其中该抗蚀剂底层薄膜组合物用于多层抗蚀剂方法，该抗蚀剂底层薄膜组合物包括：(A1) 聚合物 (1A)，包括一个或两个或两个以上由以下通式 (1) 代表的重复单元；(A2) 一个或两个或两个以上的多酚化合物，其式重为 2,000 或以下，且不具有 3,4- 二羟基苯基；以及 (B) 有机溶剂。
• Photosensitive compositions and applications thereof
  申请人：PROMERUS, LLC

  公开号：US11537045B2

  公开（公告）日：2022-12-27

  The present invention relates to photosensitive compositions containing polynorbornene (PNB) polymers and certain additives that are useful for forming microelectronic and/or optoelectronic devices and assemblies thereof, and more specifically to compositions encompassing PNBs and certain multifunctional crosslinking agents, and two or more phenolic compounds which are resistant to thermo-oxidative chain degradation and exhibit improved mechanical properties.

  本发明涉及含有聚降冰片烯（PNB）聚合物和某些添加剂的光敏组合物，这些组合物可用于形成微电子和/或光电器件及其组件，更具体地说，本发明涉及包含 PNB 和某些多功能交联剂以及两种或两种以上酚类化合物的组合物，这些组合物可抗热氧化链降解，并具有更好的机械性能。
• 3-BICYCLOARYL-2-AMINOMETHYL BICYCLOALKANES AS SEROTONINE REUPTAKE INHIBITORS
  申请人：ELI LILLY AND COMPANY LIMITED

  公开号：EP1171416A1

  公开（公告）日：2002-01-16