potassium p-chlorophenylpropionate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 苯丙酸
• 英文名称: potassium p-chlorophenylpropionate
• 英文别名: Potassium;2-(4-chlorophenyl)propanoate
• 化学式: C₉H₈ClO₂*K
• 分子量: 222.713
• InChiKey: YGASEXHWNCLQHO-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.8
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.22
• 拓扑面积：
  40.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  对氯肉桂酸 在 sodium hydroxide 、 溴 、 溶剂黄146 作用下， 以 甲醇 、 (2S)-N-methyl-1-phenylpropan-2-amine hydrate 为溶剂， 生成 potassium p-chlorophenylpropionate 、 对氯苯丙炔酸
  参考文献：
  名称：

  Base precursor for heat-developable photosensitive material

  摘要：

  揭示了一种用于热可发展感光材料的基础前体。该前体由一种由通式（I）或（II）表示的化合物组成：（R--C.tbd.C--CO.sub.2 H).sub.x.B（I）R--C.tbd.C--CO.sub.2 H).sub.2.B.sub.y（II）。通式中的取代基在规范中有定义。使用这种新颖的基础前体可以获得一种在常温下非常稳定且在80摄氏度或更高温度下平稳分解以释放碱性成分的材料。

  公开号：

  US04560763A1

文献信息

• A base precursor for heat-developable photosensitive material
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP0123937A1

  公开（公告）日：1984-11-07

  A base precursor for heat-developable photosensitive material is disclosed. The precursor is comprised of a compound represented by general formula (1) or (II): The substituents within the genral formulae are dfined within the specification. The use of this novel base precur- sur makes it possible to obtain a material which is very stable at normal temperatures and which smoothly decomposes under heating at 80°C or higher in order to release a basic constituent.

  本发明公开了一种用于热显影感光材料的基质前体。该前体由通式 (1) 或 (II) 所代表的化合物组成： 通式中的取代基在说明书中作了规定。使用这种新型基前体可以获得一种在常温下非常稳定的材料，这种材料在 80°C 或更高温度下加热时会顺利分解，从而释放出一种基本成分。
• US4560763A
  申请人：——

  公开号：US4560763A

  公开（公告）日：1985-12-24
• Base precursor for heat-developable photosensitive material
  申请人：Fuji Photo Film Co., Ltd.

  公开号：US04560763A1

  公开（公告）日：1985-12-24

  A base precursor for heat-developable photosensitive material is disclosed. The precursor is comprised of a compound represented by general formula (I) or (II): (R--C.tbd.C--CO.sub.2 H).sub.x.B (I) R--C.tbd.C--CO.sub.2 H).sub.2.B.sub.y (II) The substituents within the general formulae are defined within the specification. The use of this novel base precursor makes it possible to obtain a material which is very stable at normal temperatures and which smoothly decomposes under heating at 80.degree. C. or higher in order to release a basic constituent.

  揭示了一种用于热可发展感光材料的基础前体。该前体由一种由通式（I）或（II）表示的化合物组成：（R--C.tbd.C--CO.sub.2 H).sub.x.B（I）R--C.tbd.C--CO.sub.2 H).sub.2.B.sub.y（II）。通式中的取代基在规范中有定义。使用这种新颖的基础前体可以获得一种在常温下非常稳定且在80摄氏度或更高温度下平稳分解以释放碱性成分的材料。