tetramethylammonium trifluoroacetate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: tetramethylammonium trifluoroacetate
• 英文别名: tetramethylazanium;2,2,2-trifluoroacetate
• 化学式: C₂F₃O₂*C₄H₁₂N
• 分子量: 187.162
• InChiKey: LROATHSBUUYETB-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.38
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  40.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-溴-6-甲氧基萘-1-腈 、 tetramethylammonium trifluoroacetate 生成 1-氰基-6-甲氧基-5-(三氟甲基)萘
  参考文献：
  名称：

  DAVIDSON, ROBERT I.

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  N,N-二甲基甲酰胺二甲基缩醛 、 三氟乙酸 生成 tetramethylammonium trifluoroacetate
  参考文献：
  名称：

  Gloede,J.; Costisella,B., Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1971, vol. 313, p. 277 - 286

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Synthesis and Structure of New Pt(IV) Perfluorocarboxylate Complexes and Their Reactivity with Respect to Alkanes and Cycloalkanes
  作者：I. P. Stolyarov、N. V. Cherkashina、A. V. Churakov、A. V. Naumkin、A. B. Kornev、A. V. Chernyak、V. M. Martynenko

  DOI：10.1134/s0036023619010200

  日期：2019.1

  New Pt(IV) perfluorocarboxylate complexes of the composition [Pt(RFCOO)4]n and M2[Pt(RFCOO)6] (RF = CF3, C2F5; M = Li, Na, K, Rb, Cs, NMe4) have been synthesized and studied. These complexes are strong oxidizing agents capable of oxidizing alkanes in trifluoroacetic acid under mild conditions to form trifluoroacetic acid esters and acting as catalysts for the oxidative trifluoroacetoxylation of alkanes

  组成为[Pt（R F COO）4 ] n和M 2 [Pt（R F COO）6 ]的新Pt（IV）全氟羧酸盐络合物（R F = CF 3，C 2 F 5； M = Li，Na， K，Rb，Cs，NMe 4）已被合成和研究。这些络合物是强氧化剂，能够在温和条件下氧化三氟乙酸中的烷烃以形成三氟乙酸酯，并充当烷烃，环烷烃和骨架化合物的三氟乙氧基化的催化剂。它们也可以用作合成各种氧化态的铂的其他全氟羧酸盐络合物的起始化合物。通过X射线衍射确定了（NMe 4）2 [Pt（CF 3 COO）6 ]·6CF 3 COOH的结构。
• Enantiospecific Synthesis and Pharmacological Evaluation of a Series of Super-Potent, Conformationally Restricted 5-HT_2A/2C Receptor Agonists
  作者：James J. Chambers、Deborah M. Kurrasch-Orbaugh、Matthew A. Parker、David E. Nichols

  DOI：10.1021/jm000491y

  日期：2001.3.1

  D- or L-alanyl chloride, followed by ketone reduction and N-deprotection. The enantiomers demonstrated modest stereoselectivity at the two receptors. Several general trends within these classes of new compounds were observed during their pharmacological investigation. For most pairs of optical isomers tested, the R-enantiomers of the compounds containing heterocycle 7 bound with only slightly higher

  配体对5-HT（2A）或5-HT（2C）激动剂结合位点的亲和力通过修饰典型的致幻性苯丙胺（如4b（DOB））中的2,5-氧取代基来增强。相对于母体2，5-二甲氧基化合物，构象柔性的2，5-二甲氧基取代基限制为稠合的二氢呋喃环通常导致效力增加。这些芳基烷基胺的纯对映体是通过对映体特异性合成得到的，该合成涉及用N-三氟乙酰基保护的D-或L-丙氨酰氯对杂环核7进行酰化，然后进行酮还原和N-脱保护。对映异构体在两个受体上显示适度的立体选择性。在它们的药理研究过程中，观察到了这些新化合物类别中的一些一般趋势。对于大多数测试的光学异构体对，在5-HT（2A）和5-HT（2C）受体上，含杂环7的化合物的R-对映体仅比其S-对映体具有更高的亲和力。同样，功能研究表明，与S-对映体相比，R-对映体通常显示出更高的效价。这些芳基烷基胺的二氢呋喃环的芳香化进一步增加了亲和力和效力。仅有少数化合物是完全激动剂，其
• Silicon compound, silicon-containing compound, composition for forming resits underlayer film containing the same and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2657240A1

  公开（公告）日：2013-10-30

  The invention provides a silicon compound represented by the following general formula (A-1) or (A-2), wherein, R represents a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R1 and R2 represent an acid labile group, R3 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms, k represents an integer of 1 or 2, m represents an integer of 0, 1, or 2, and n represents an integer of 0 or 1. There can be provided a resist underlayer film that can be applied not only to a resist pattern formed by a hydrophilic organic compound obtained in negative development but also to a resist pattern composed of a hydrophobic compound obtained in conventional positive development.

  该发明提供了一个由以下一般式（A-1）或（A-2）表示的硅化合物，其中，R代表具有1至6个碳原子的碳氢基团，R1和R2代表酸敏感基团，R3代表氢原子或具有1至30个碳原子的一价有机基团，k代表1或2的整数，m代表0、1或2的整数，n代表0或1的整数。可以提供一种抗蚀底层膜，不仅可应用于由负显影获得的亲水有机化合物形成的抗蚀图案，还可应用于由传统正显影获得的疏水化合物组成的抗蚀图案。
• RENIN INHIBITORS
  申请人：Baldwin Jonh J.

  公开号：US20100179109A1

  公开（公告）日：2010-07-15

  Disclosed are compounds of Formula (I) wherein the R, R 1 , R 2 , R 3 , X, Y, A, Q, E, and G are defined herein. These compounds bind to aspartic proteases to inhibit their activity and are useful in the treatment or amelioration of diseases associated with aspartic protease activity. Also disclosed are methods of use of the compounds of Formula I for ameliorating or treating aspartic protease related disorders in a subject in need thereof.

  本发明揭示了式(I)的化合物，其中R、R1、R2、R3、X、Y、A、Q、E和G在此定义。这些化合物与天冬氨酸蛋白酶结合以抑制它们的活性，并可用于治疗或改善与天冬氨酸蛋白酶活性相关的疾病。本发明还揭示了使用式(I)的化合物的方法，用于改善或治疗需要这种治疗的患者的天冬氨酸蛋白酶相关疾病。
• COMPOSITION HAVING REFRACTIVE INDEX SENSITIVELY CHANGEABLE BY RADIATION AND METHOD FOR FORMING REFRACTIVE INDEX PATTERN
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1235104A1

  公开（公告）日：2002-08-28

  A radiation sensitive refractive index changing composition comprising (A) a decomposable compound, (B) a non-decomposable compound having a lower refractive index than the decomposable compound (A), (C) a radiation sensitive decomposer and (D) a stabilizer. By exposing the composition to radiation through a pattern mask, the above components (C) and (A) of an exposed portion are decomposed and a refractive index difference is made between the exposed portion and unexposed portion, thereby forming a pattern having different refractive indices.

  一种对辐射敏感的折射率变化组合物，包括：（A）可分解化合物；（B）折射率低于可分解化合物（A）的不可分解化合物；（C）对辐射敏感的分解剂；以及（D）稳定剂。通过图案掩膜将组合物暴露在辐射下，暴露部分的上述成分（C）和（A）被分解，暴露部分和未暴露部分之间产生折射率差，从而形成具有不同折射率的图案。