四十八烷基氢氧化铵 | 137044-24-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 中文名称: 四十八烷基氢氧化铵
• 英文名称: Tetraoctadecylammonium hydroxide
• 英文别名: tetraoctadecylazanium;hydroxide
• CAS: 137044-24-7
• 化学式: C72H149NO
• 分子量: 1045.0
• InChiKey: HNRXDBMBQAOWFV-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 闪点：
  11 °C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  26.67
• 重原子数：
  74
• 可旋转键数：
  68
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 危险品标志：
  T,F

文献信息

• Preparation of 4,5-dihydro-pyrazolo[3,4-c]pyrid-2-ones
  申请人：Zhao Rulin

  公开号：US20060069085A1

  公开（公告）日：2006-03-30

  A novel process and intermediates thereof for making 4,5-dihydro-pyrazolo[3,4-c]pyrid-2-ones of the type shown below, as well as the corresponding pyrazoles, from appropriate phenyl hydrazines is described. These compounds can be useful as factor Xa inhibitors.

  描述了一种制备下列类型的4,5-二氢吡唑并[3,4-c]吡啶-2-酮的新工艺和中间体，以及相应的吡唑的方法，该方法使用适当的苯基肼。这些化合物可以作为因子Xa抑制剂有用。
• Preparation of N-aryl pyridones
  申请人：Zhang Huiping

  公开号：US20060069260A1

  公开（公告）日：2006-03-30

  A novel process and intermediates thereof for making N-aryl pyridones of the type shown below from appropriate pyridinolates is described. These compounds are useful as intermediates for the synthesis of clinical candidates.

  本文介绍了一种从适当的吡啶醇盐制备下列类型的N-芳基吡啶酮的新工艺和中间体。这些化合物可用作合成临床候选药物的中间体。
• Hochreaktive, flüssige uretdiongruppenhaltige Polyurethansysteme, die bei niedriger Temperatur härtbar sind
  申请人：Degussa AG

  公开号：EP1522547A1

  公开（公告）日：2005-04-13

  Die Erfindung betrifft hochreaktive, flüssige uretdiongruppenhaltige Polyurethanzusammensetzungen, die bei niedrigen Einbrenntemperaturen aushärten, ein Verfahren zur Herstellung sowie deren Verwendung zur Herstellung von Kunststoffen, insbesondere Lackbeschichtungen und Klebstoffen.

  本发明涉及在低烘烤温度下固化的含脲二酮基团的高活性液态聚氨酯组合物、其生产工艺以及在塑料生产中的应用，特别是漆涂层和粘合剂。
• Uretdiongruppenhaltige Polyurethanzusammensetzungen, welche bei niedriger Temperatur härtbar sind
  申请人：Degussa AG

  公开号：EP1522548A1

  公开（公告）日：2005-04-13

  Die Erfindung betrifft uretdiongruppenhaltige Polyurethanzusammensetzungen, insbesondere für Polyurethan-Pulverlack- und Klebstoffzusammensetzungen, welche bei niedriger Temperatur härtbar sind, ein Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung.

  本发明涉及含有脲二酮基团的聚氨酯组合物，特别是可在低温下固化的聚氨酯粉末涂料和粘合剂组合物，以及其制备工艺和用途。
• Photosensitive composition and method for forming pattern using the same
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP1612602A2

  公开（公告）日：2006-01-04

  A positive working photosensitive composition which is useful in the manufacturing step of a semiconductor such as IC, the manufacture of a circuit board such as liquid crystals and thermal heads, and other fabrication steps and has an excellent resolution and line edge roughness, and a method for forming a pattern using the same, are provided, which are a photosensitive composition containing (A) a resin having a repeating unit having a specific group, whose solubility in an alkaline developer increases by the action of an acid, and a method for forming a pattern using the same.

  本发明提供了一种可用于集成电路等半导体的制造步骤、液晶和热敏头等电路板的制造以及其他制造步骤，并具有出色的分辨率和线边粗糙度的正向工作光敏组合物，以及使用该组合物形成图案的方法，该组合物是一种光敏组合物，其中含有(A)具有特定基团的重复单元的树脂，其在碱性显影剂中的溶解度在酸的作用下会增加，以及使用该组合物形成图案的方法。