抗氧剂 CA | 35641-51-1

• 物质功能分类: 催化剂及助剂 - 抗氧剂
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 三苯基化合物
• 中文名称: 抗氧剂 CA
• 中文别名: 1,1,1-三(2-甲基-4-羟基-5-特丁基苯基)丁烷；1,1,1-三(5-叔丁基-4-羟基-2-甲基苯基)丁烷；1,1,1-三[5-(叔丁基)-4-羟基-2-甲基苯基]丁烷；1,1,3-三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基)丁烷；抗氧剂CA；1,1,1-三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基)丁烷；1,1,1-三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁苯基)丁烷
• 英文名称: 1,1,1-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)-butane
• 英文别名: tris(2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl)butane；1,1,1-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane；Tris(5-tert-butyl-4-hydroxy-o-tolyl)butane；4-[1,1-bis(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-2-tert-butyl-5-methylphenol
• CAS: 35641-51-1
• 化学式: C₃₇H₅₂O₃
• 分子量: 544.818
• InChiKey: FCDMUZZVRLCTLQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 稳定性/保质期：
  本品的毒性非常轻微。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  12
• 重原子数：
  40
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.51
• 拓扑面积：
  60.7
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  3

制备方法与用途

制备方法

1. 烷基化反应：将间甲酚（12.5份）和异丁烯（12份），在三氧化二铝和浓硫酸催化下，于310～320℃进行烷基化反应，生成6-叔丁基间甲酚。随后经过中和、蒸馏精制。
2. 缩合反应：将丁烯醛（2.3份）与制得的6-叔丁基间甲酚，在浓硫酸催化下，于75～85℃进行缩合反应。产物经过滤后加入22份甲苯，并在加热回流条件下溶解完全。随后结晶、冷却、过滤、烘干，即得到成品。

合成制备方法

1. 烷基化反应：将间甲酚（12.5份）与异丁烯（12份），在三氧化二铝和浓硫酸催化下，于310～320℃进行烷基化反应，生成6-叔丁基间甲酚。随后经过中和、蒸馏精制。
2. 缩合反应：将丁烯醛（2.3份）与制得的6-叔丁基间甲酚，在浓硫酸催化下，于75～85℃进行缩合反应。产物经过滤后加入22份甲苯，并在加热回流条件下溶解完全。随后结晶、冷却、过滤、烘干，即得到成品。

用途简介

本品是一种优良的酚类抗氧剂，适用于聚丙烯、聚乙烯、聚氯乙烯、ABS树脂、高抗冲聚苯乙烯和聚甲醛等树脂及浅色橡胶制品中作为稳定剂。它能有效抑制铜对高聚物的催化氧化作用，并与抗氧剂DLTP（硫代二丙酸二月桂酯）配合产生协同效应。由于其分子量高，挥发性低且毒性小，本品适用于制造接触食品的物品。

用途

本品是一种优良的酚类抗氧剂，适用于聚丙烯、聚乙烯、聚氯乙烯、ABS树脂、高抗冲聚苯乙烯和聚甲醛等树脂及浅色橡胶制品中作为稳定剂。它能有效抑制铜对高聚物的催化氧化作用，并与抗氧剂DLTP（硫代二丙酸二月桂酯）配合产生协同效应。由于其分子量高，挥发性低且毒性小，本品适用于制造接触食品的物品。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  、 抗氧剂1076 、 、 、 、 抗氧剂 LK-1081 、 抗氧剂 CA 、 2,2'-亚甲基双-(4-甲基-6-叔丁基苯酚) 、 抗氧剂 702 、 4,4'-亚丁基双(6-叔丁基-3-甲基苯酚) 、 2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚 、 3,5-二叔丁基-4-羟基苄醇 、 、 2,6-双[[3-(叔丁基)-2-羟基-5-甲苯基]甲基]-4-甲基苯酚 、 4,4-亚甲基双(2-叔丁基-6-甲基苯酚) 、 抗氧剂GA-80 生成 1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯
  参考文献：
  名称：

  Method of recycling mold plastic parts for photosensitive material and a recycled plastic mold parts

  摘要：

  一个前盖、一个后盖和一个底部部分被压碎成碎料，然后进一步制成再生塑料颗粒。再生塑料颗粒被用作成型材料的一部分，用于生产光敏材料的模塑塑料部件。当成型材料在热中熔化时，热塑性树脂会被热降解或改性。因此，再生塑料模具部件的性能和质量比新的差。此外，当热塑性树脂被热降解时，光敏材料会与热塑性树脂反应，产生对光学特性有不良影响的分解产物。为了防止热降解，添加了抗氧化材料，并添加了碳黑以吸收分解产物。

  公开号：

  US20020038921A1
• 作为产物：
  描述：

  6-叔丁基间甲酚 、 丁烯-2-醛 在 盐酸 作用下， 以 甲醇 、 水 为溶剂， 反应 2.0h， 以82%的产率得到抗氧剂 CA
  参考文献：
  名称：

  THERMAL RECORDING MATERIAL CONTAINING TRIS(2-METHYL- 4-HYDROXY-5-t-BUTYLPHENYL)BUTANE

  摘要：

  该发明的热记录材料中包含一种作为稳定性改进剂的三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基)丁烷，用于捕获和含有水和/或甲醇，并具有晶体结构，根据使用波长为Cu-Kα线的X射线衍射测量，在衍射角2θ为6.58°处显示最大X射线衍射峰。该记录材料在非打印部分具有改进的耐热性，同时保持打印部分的耐潮湿和耐热性。该发明的热记录材料具有热记录层，其中三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基)丁烷的含量最好为热记录层的质量百分比0.1至15%。三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基)丁烷中捕获和含有的水和/或甲醇的量最好总质量百分比为0.1至10%。

  公开号：

  US20100249466A1

文献信息

• Dibenzoylmethane sunscreen compositions containing photostablizing amounts of tri-substituted butane compounds
  申请人：——

  公开号：US20030124071A1

  公开（公告）日：2003-07-03

  Improvedly photostable UV-photoprotecting cosmetic/dermatological compositions for the skin and/or the hair contain (a) a UV-photoprotective amount of at least one dibenzoylmethane sunscreen, e.g., 4-(tert-butyl)-4′-methoxydibenzoylmethane or 4-isopropyldibenzoylmethane, advantageously (a′) a UV-photoprotective amount of at least one 1,3,5-triazine sunscreen, e.g., 2-[(p-(tert-butylamido]-4,6-bis[(p-(2′ethylhexyl-1′-oxycarbonyl)anilino]-1,3,5-triazine or 2,4,6-tris[p-(2′-ethylhexyl-1′-oxycarbonyl)anilino]-1,3,5-triazine, (b) an effective sunscreen photostabilizing amount of 1,1,1-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, formulated into (c) a topically applicable, cosmetically acceptable vehicle, diluent or carrier therefor.

  改进的光稳定紫外线光保护化妆品/皮肤科学组合物，适用于皮肤和/或头发，包含（a）至少一种二苯甲酮类防晒剂的紫外线光保护量，例如4-（叔丁基）-4'-甲氧基二苯甲酮或4-异丙基二苯甲酮，优选地（a'）至少一种1,3,5-三嗪类防晒剂的紫外线光保护量，例如2-（p-（叔丁基氨基）-4,6-双（p-（2'-乙基己基-1'-氧羰基）苯胺）-1,3,5-三嗪或2,4,6-三（p-（2'-乙基己基-1'-氧羰基）苯胺）-1,3,5-三嗪，（b）有效的防晒剂光稳定量1,1,1-三（2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基）丁烷，配制成（c）适用于局部涂抹的、化妆上可接受的载体、稀释剂或载体。
• CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND PRODUCTION METHOD OF COMPOUND
  申请人：OSAKA UNIVERSITY

  公开号：US20170052449A1

  公开（公告）日：2017-02-23

  A pattern-forming method comprises patternwise exposing a predetermined region of a resist material film made from a photosensitive resin composition comprising a chemically amplified resist material to a first radioactive ray that is ionizing radiation or nonionizing radiation having a wavelength of no greater than 400 nm. The resist material film patternwise exposed is floodwise exposed to a second radioactive ray that is nonionizing radiation having a wavelength greater than the wavelength of the nonionizing radiation for the patternwise exposing and greater than 200 nm. The chemically amplified resist material comprises a base component, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The generative component comprises a radiation-sensitive sensitizer generating agent. The radiation-sensitive sensitizer generating agent comprises a compound represented by formula (A).

  一种图案形成方法包括将一种化学放大型光刻胶材料制成的感光树脂组成物的预定区域图案暴露于第一种放射性射线中，该放射性射线是电离辐射或波长不大于400 nm的非电离辐射。图案化暴露的光刻胶材料膜被洪水式暴露于第二种放射性射线中，该放射性射线是波长大于图案化暴露的非电离辐射的波长和大于200 nm的非电离辐射。该化学放大型光刻胶材料包括基础组分和能够在暴露时生成辐射敏感的敏化剂和酸的生成组分。生成组分包括辐射敏感的敏化剂生成剂。辐射敏感的敏化剂生成剂包括由式(A)表示的化合物。
• Non-aqueous absorbent and use thereof
  申请人：Sumiya Takashi

  公开号：US20050136247A1

  公开（公告）日：2005-06-23

  A non-aqueous absorbent comprising a crosslinked polymer which contains a structural unit having a carboxyl group and/or a sulfonate group in an amount of 20 to 100% weight in its molecule and in which from 30 to 100% by mol of the protons in the carboxyl group and/or the sulfonate group have been substituted by onium cations; a non-aqueous gel made of this non-aqueous absorbent and an organic solvent; and a non-aqueous absorbent sheet and a non-aqueous absorbent agent containing the non-aqueous absorbent. Because of having excellent capabilities of absorbing and holding various organic solvents such as alcohols and gelating, these materials are usable for various purposes, for example, lithium batteries, alcohol-based bactericidal materials or alcohol-based bactericides, cold insulating materials or cold insulators, gel sheets for cooling, fuel compositions for solid fuels or solid fuels using the same, fragrance materials or fragrances, patch materials or patches, insecticidal compositions or insecticides, fuel stores for fuel batteries or fuel batteries using the same.

  一种非水吸收剂，包含交联聚合物，其分子中含有具有羧基和/或磺酸基的结构单元，其含量为20至100％重量，并且其中羧基和/或磺酸基中的30至100％摩尔的质子已被离子上离子替代物取代；由此制成的非水凝胶和有机溶剂；以及含有非水吸收剂的非水吸收剂片和非水吸收剂剂。由于具有吸收和保持各种有机溶剂（如醇类）的能力，以及凝胶化，这些材料可用于各种用途，例如锂电池，醇基杀菌材料或醇基杀菌剂，冷绝缘材料或冷绝缘材料，用于冷却的凝胶片，用于固体燃料的燃料组合物或使用相同的固体燃料，香料材料或香料，贴片材料或贴片，杀虫组合物或杀虫剂，燃料电池的燃料存储器或使用相同的燃料电池。
• Imaging System
  申请人：Vetterling William T.

  公开号：US20100099556A1

  公开（公告）日：2010-04-22

  There are disclosed imaging members wherein a chemical compound in a crystalline form is converted, at least partially, and preferably substantially completely or completely, to an amorphous form that has intrinsically a different color from the crystalline form. Also described are imaging methods utilizing the imaging members. The conversion of the compound from the crystalline form to an amorphous form can be effected by laser exposure.

  公开了成像元件，其中化合物以晶体形式转换为非晶态形式，至少部分地，而且最好是完全或完全地，具有与晶体形式本质上不同的颜色。还描述了利用成像元件的成像方法。通过激光照射可以将化合物从晶体形式转变为非晶态形式。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：Tsuchihashi Toru

  公开号：US20100248146A1

  公开（公告）日：2010-09-30

  A positive resist composition comprising (A) a resin which contains all of the repeating units represented by formulae (I) to (III), and becomes soluble in an alkali developer by the action of an acid, and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; and a pattern forming method using the composition. A represents a group capable of decomposing and leaving by the action of an acid, each R 1 independently represents hydrogen or a methyl group, R 2 represents a phenyl group or a cyclohexyl group, m represents 1 or 2, and n represents an integer of 0 to 2. By virtue of this construction, a resist composition ensuring high resolution, good pattern profile, sufficient depth of focus, little defects after development, and sufficiently high plasma etching resistance is provided.

  一种正性光刻胶组合物，包括(A)一种树脂，该树脂包含由公式(I)至(III)表示的所有重复单元，并通过酸的作用在碱性显影剂中变得可溶，以及(B)一种能够在光刻射线或辐射照射下产生酸的化合物；以及使用该组合物的图案形成方法。其中，A表示通过酸的作用分解并离开的基团，每个R1独立地表示氢或甲基基团，R2表示苯基或环己基，m表示1或2，n表示0至2的整数。由于这种构造，提供了一种光刻胶组合物，确保高分辨率、良好的图案轮廓、足够的焦深度、开发后几乎没有缺陷以及足够高的等离子体刻蚀抗性。