1-(4-isopropylphenyl)ethyl ammonium perfluoro-octyl sulphonate | 73441-46-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 英文名称: 1-(4-isopropylphenyl)ethyl ammonium perfluoro-octyl sulphonate
• 英文别名: 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-heptadecafluorooctane-1-sulfonate;1-(4-propan-2-ylphenyl)ethylazanium
• CAS: 73441-46-0
• 化学式: C₈HF₁₇O₃S*C₁₁H₁₇N
• 分子量: 663.396
• InChiKey: LAQOGIWGWCOYNT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.61
• 重原子数：
  41
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.68
• 拓扑面积：
  93.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  20

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4'-异丙基苯乙酮 在 甲酸 、 formamide 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 生成 1-(4-isopropylphenyl)ethyl ammonium perfluoro-octyl sulphonate 、 氨甲酸,(3-氨基-1-甲基丙基)-,苯基甲基酯(9CI)
  参考文献：
  名称：

  Isopropylbenzene derivatives

  摘要：

  具有通式：##STR1##的异丙苯衍生物，其中：R.sup.1至R.sup.4独立地表示氢原子或具有最多4个碳原子的低烷基，X.sup..crclbar.表示COO.sup..crclbar.或SO.sub.3.sup..crclbar.，而R.sub.f表示氟化有机基团。这些化合物可应用于易于或变得带负电荷的表面，以抑制这些表面的火花放电。其中至少有两个R.sup.2，R.sup.3和R.sup.4是烷基的化合物，特别适用于摄影胶片的面漆，以消除火花放电引起的痕迹。

  公开号：

  US04350644A1
• 作为试剂：
  描述：

  氨甲酸,(3-氨基-1-甲基丙基)-,苯基甲基酯(9CI) 、 十七氟辛烷磺酸 在 氯仿 、 1-(4-isopropylphenyl)ethyl ammonium perfluoro-octyl sulphonate 、 ( d ) 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 生成 1-(4-isopropylphenyl)ethyl ammonium perfluoro-octyl sulphonate
  参考文献：
  名称：

  Isopropylbenzene derivatives

  摘要：

  具有一般式的异丙苯衍生物：##STR1## 其中：R.sup.1至R.sup.4分别独立表示氢原子或具有高达4个碳原子的低烷基基团，X.sup..crclbar.表示COO.sup..crclbar.或SO.sub.3.sup..crclbar.，而R.sub.f表示氟化有机基团。这些化合物可以应用于易受或成为负电荷的表面，以抑制这些表面的火花放电。其中至少两个R.sup.2、R.sup.3和R.sup.4是烷基的化合物，特别适用于摄影胶片的面漆，以消除火花放电引起的痕迹。

  公开号：

  US04350644A1

文献信息

• US4313978A
  申请人：——

  公开号：US4313978A

  公开（公告）日：1982-02-02
• Isopropylbenzene derivatives
  申请人：Minnesota Mining and Manufacturing Company

  公开号：US04350644A1

  公开（公告）日：1982-09-21

  Isopropylbenzene derivatives having the general formula: ##STR1## in which: R.sup.1 to R.sup.4 independently represent a hydrogen atom or a lower alkyl group having up to 4 carbon atoms, X.sup..crclbar. represents COO.sup..crclbar. or SO.sub.3.sup..crclbar., and R.sub.f represents a fluorinated organic radical. The compounds may be applied to surfaces liable to be or become negatively charged to suppress spark discharges from such surfaces. Those compounds in which at least two of R.sup.2, R.sup.3 and R.sup.4 are alkyl, are particularly useful in the top coat of photographic films to eliminate marks caused by spark discharges.

  具有通式：##STR1##的异丙苯衍生物，其中：R.sup.1至R.sup.4独立地表示氢原子或具有最多4个碳原子的低烷基，X.sup..crclbar.表示COO.sup..crclbar.或SO.sub.3.sup..crclbar.，而R.sub.f表示氟化有机基团。这些化合物可应用于易于或变得带负电荷的表面，以抑制这些表面的火花放电。其中至少有两个R.sup.2，R.sup.3和R.sup.4是烷基的化合物，特别适用于摄影胶片的面漆，以消除火花放电引起的痕迹。