2-亚乙基-3-甲基-1,3-苯并噻唑 | 80922-07-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并噻唑类
• 中文名称: 2-亚乙基-3-甲基-1,3-苯并噻唑
• 英文名称: 2-Ethyliden-3-methyl-benzthiazolin
• 英文别名: 2-Ethylidene-3-methyl-2,3-dihydro-1,3-benzothiazole；2-ethylidene-3-methyl-1,3-benzothiazole
• CAS: 80922-07-2
• 化学式: C₁₀H₁₁NS
• 分子量: 177.27
• InChiKey: XKPQMYSXUHRABQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  28.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-醛基水杨酸 、 2-亚乙基-3-甲基-1,3-苯并噻唑 以 乙醇 为溶剂， 生成 3',3-Dimethyl-8-carboxy-2H-1-benzopyran-(2-spiro-2')-benzothiazolin
  参考文献：
  名称：

  Dumenil,G. et al., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1969, p. 817 - 822

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-Ethyl-3-methyl-benzothiazolium-p-tosylat 在 sodium hydroxide 作用下， 生成 2-亚乙基-3-甲基-1,3-苯并噻唑
  参考文献：
  名称：

  Guglielmetti,R.; Metzger,J., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1967, p. 2824 - 2834

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Ring Expansion of Heterocyclic KeteneN,X-Acetals and 2-Alkylidenedihydroindoles with Methanesulphonyl Azide by [3 + 2] Cycloaddition and Subsequent Extrusion of Molecular Nitrogen
  作者：Helmut Quast、Svetlana Ivanova、Eva-Maria Peters、Karl Peters、Hans Georg Von Schnering

  DOI：10.1002/jlac.199619961008

  日期：1996.10

  (route A2 16, 20, 21). In addition, 3 may undergo [3 + 2] cycloreversion into N-sulphonylimine 5 and diazoalkane 6 (route B 13, 17, 25). The configurations of the cyclic N-sulphonylamidines 16b and 21b, the N-sulphonylimine 24 and the N-sulphonylamine 27 are elucidated by means of X-ray diffraction analyses. The ratio of the (useful) ring-expansion reactions vs. the unwanted formation of 5 + 6 is hardly

  甲磺酰叠氮化物（2）与分离的1型环状烯酮N，X-缩醛反应，即。10a，d，15b，d和22a–c，或通过相应的2-烷基苯并四氟硼酸2-烷基苯甲唑鎓去质子化而生成的那些，即14a 15a，14b 15b和18 19。环扩展产品是由从中间不稳定的[3 + 2] cycloadducts分子氮的挤压形成3与N个伴随1,2-移（路线A1 12,24）或X（路线A2 16，20，21）。此外，3可能会经历[3 + 2]循环还原为N-磺酰亚胺5和重氮烷6（路线B 13，17，25 ）。借助X射线衍射分析阐明了环状N-磺酰胺基16b和21b，N-磺酰亚胺24和N-磺胺27的构型。（有用的）扩环反应与不想要的5 + 6形成之比几乎不受所用溶剂和实验温度的影响，但受潜在迁移原子和α-碳原子上取代基的性质的影响很大原子。
• COMPOUND FOR PHOTORESIST, PHOTORESIST SOLUTION, AND ETCHING METHOD USING THE PHOTORESIST SOLUTION
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：EP2135901A1

  公开（公告）日：2009-12-23

  The present invention relates to a compound for photoresist, selected from the group consisting of a compound comprising an oxonol dye skeleton, a cyanine dye, a styryl dye, a compound comprising a merocyanine dye skeleton, a compound comprising a phthalocyanine dye skeleton, an azo compound, and a complex compound of an azo compound and a metal ion. The present invention further provides a photoresist liquid comprising at least one of the compound for photoresist and a method of etching a surface being processed using the photoresist liquid.

  本发明涉及一种光刻胶用化合物，该化合物选自包含氧杂壬醇染料骨架的化合物、氰基染料、苯乙烯基染料、包含美蓝染料骨架的化合物、包含酞菁染料骨架的化合物、偶氮化合物以及偶氮化合物和金属离子的复合物组成的组。 本发明进一步提供了一种包含至少一种光刻胶用化合物的光刻胶液和一种使用该光刻胶液蚀刻被加工表面的方法。
• Spektroskopische strukturuntersuchungen an heterozyklischen spiroverbindungen
  作者：G. Arnold、G. Paal

  DOI：10.1016/s0040-4020(01)98034-2

  日期：1971.1
• COMPOUND FOR PHOTORESIST, PHOTORESIST LIQUID, AND ETCHING METHOD USING THE SAME
  申请人：Watanabe Tetsuya

  公开号：US20100104985A1

  公开（公告）日：2010-04-29

  The present invention relates to a compound for photoresist, selected from the group consisting of a compound comprising an oxonol dye skeleton, a cyanine dye, a styryl dye, a compound comprising a merocyanine dye skeleton, a compound comprising a phthalocyanine dye skeleton, an azo compound, and a complex compound of an azo compound and a metal ion. The present invention further provides a photoresist liquid comprising at least one of the compound for photoresist and a method of etching a surface being processed using the photoresist liquid.
• Dumenil,G. et al., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1969, p. 817 - 822
  作者：Dumenil,G. et al.

  DOI：——

  日期：——