6,7,8-trihydroxy-[1]naphthoic acid | 672919-94-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 6,7,8-trihydroxy-[1]naphthoic acid
• 英文别名: 6,7,8-Trihydroxy-[1]naphthoesaeure；Purpurogallon；6.7.8-Trioxy-naphthalin-carbonsaeure-(1)；6,7,8-Trihydroxynaphthalene-1-carboxylic acid；6,7,8-trihydroxynaphthalene-1-carboxylic acid
• CAS: 672919-94-7
• 化学式: C₁₁H₈O₅
• 分子量: 220.182
• InChiKey: UQUBCAGZMLEVSC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  98
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6,7,8-trihydroxy-[1]naphthoic acid 在 氢碘酸 作用下， 生成 6,7-二羟基-1-萘甲酸
  参考文献：
  名称：

  Perkin, Journal of the Chemical Society, 1912, vol. 101, p. 810

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  红倍酚 在 氢氧化钾 作用下， 生成 6,7,8-trihydroxy-[1]naphthoic acid
  参考文献：
  名称：

  685. Purpurogallin。第二部分 紫嘌呤酮的合成

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9490003271

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20200183273A1

  公开（公告）日：2020-06-11

  A resist composition including a base material component (A) whose solubility in a developing solution is changed due to the action of an acid, and a compound (D0) formed of an anion moiety and a cation moiety which is represented by Formula (d0), in which the cation moiety of the compound (D0) has a Log P value of less than 7.7. In the formula, M m+ represents an m-valent organic cation, R d0 represents a substituent, p represents an integer of 0 to 3, q represents an integer of 0 to 3, n represents an integer of 2 or greater, and a relationship of “n+p≤(q×2)+5” is satisfied.

  一种抗蚀组合物，包括一种基材料组分（A），由于酸的作用而在显影液中溶解性发生改变，以及由阴离子基团和由公式（d0）表示的阳离子基团组成的化合物（D0）。其中，化合物（D0）的阳离子基团的Log P值小于7.7。在公式中，Mm+表示m价有机阳离子，Rd0表示取代基，p表示0到3之间的整数，q表示0到3之间的整数，n表示大于等于2的整数，并且满足“n+p≤（q×2）+5”的关系。
• Perkin,A. G., Journal of the Chemical Society, 1912, vol. 101, p. 804
  作者：Perkin,A. G.

  DOI：——

  日期：——
• Perkin, Journal of the Chemical Society, 1912, vol. 101, p. 806
  作者：Perkin

  DOI：——

  日期：——
• Perkin; Steven, Journal of the Chemical Society, 1903, vol. 83, p. 198
  作者：Perkin、Steven

  DOI：——

  日期：——
• RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20220179313A1

  公开（公告）日：2022-06-09

  A resist composition that contains a resin component having a constitutional unit represented by General Formula (a0-1) and contains a photodecomposable base in which an acid dissociation constant of a conjugate acid is 4.0 or less, wherein R 01 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms; Ya 01 represents a single bond or a divalent linking group; Ra 01 represents a hydrocarbon group; Ya 02 represents a single bond or a divalent linking group; Ra 02 represents a hydrogen atom, a hydroxy group, or a hydrocarbon group; Ar represents a benzene ring or a naphthalene ring; Ra 01 and Ra 02 may be bonded to each other to form a ring; n01 represents an integer in a range of 1 to 6