2-(1-ethoxyethyl)naphthalene | 133990-91-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 2-(1-ethoxyethyl)naphthalene
• 英文别名: ethyl-(1-[2]naphthyl-ethyl)-ether；Aethyl-(1-[2]naphthyl-aethyl)-aether；2-(1-Ethoxyethyl)-naphthalin；2-Naphthyl diethyl ether
• CAS: 133990-91-7
• 化学式: C₁₄H₁₆O
• 分子量: 200.28
• InChiKey: GQWSIYNNQXOSSQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  291.9±9.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.019±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-(2-萘甲酰基 )乙醇 在 氢溴酸 作用下， 以 苯 为溶剂， 生成 2-(1-ethoxyethyl)naphthalene
  参考文献：
  名称：

  471.氯化硫氰。第五部分：烷基萘的杂溶和均相硫氰化

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9610002436

文献信息

• Secondary Benzylation Using Benzyl Alcohols Catalyzed by Lanthanoid, Scandium, and Hafnium Triflate
  作者：Masahiro Noji、Tomoko Ohno、Koji Fuji、Noriko Futaba、Hiroyuki Tajima、Keitaro Ishii

  DOI：10.1021/jo034255h

  日期：2003.11.1

  alkylation, and trifluoromethanesulfonic acid (triflic acid, TfOH) was also a good catalyst. The catalytic activity of metal triflates and TfOH increased in the order La(OTf)3 < Yb(OTf)3 < TfOH < Sc(OTf)3 < Hf(OTf)4. A mechanistic study was also performed. The reaction of 1-phenylethanol (4a) in the presence of Sc(OTf)3 in nitromethane gave an equilibrium mixture of 4a and bis(1-phenylethyl) ether (54). Addition

  仲苄醇和三氟甲磺酸金属盐（例如La，Yb，Sc和Hf三氟甲磺酸盐）在硝基甲烷中的结合是一种高效的仲苄基化系统。碳（芳族化合物，烯烃，乙酸烯醇酯），氮（酰胺衍生物）和氧（醇）亲核试剂的二级苄基化反应是在水中存在的情况下，用仲苄醇和0.01-1 mol％的三氟甲磺酸金属盐进行的。带有酸敏感官能团的仲苄醇和亲核试剂（例如，叔丁基二甲基甲硅烷氧基和乙酰氧基以及甲基和苄基酯）可用于烷基化。Hf（OTf）4是该烷基化反应最活跃的催化剂，三氟甲磺酸（三氟甲磺酸，TfOH）也是一种很好的催化剂。金属三氟甲磺酸酯和TfOH的催化活性按La（OTf）3 < Yb（OTf）3
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
  申请人：Inasaki Takeshi

  公开号：US20120301817A1

  公开（公告）日：2012-11-29

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.

  一种感光树脂组合物，其包括（P）一种具有以下式（1）所表示的重复单元的树脂，使用该组合物的光阻膜以及一种图案形成方法。
• US8735048B2
  申请人：——

  公开号：US8735048B2

  公开（公告）日：2014-05-27
• [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AUX RADIATIONS, FILM DE RÉSERVE UTILISANT LA COMPOSITION ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2011093520A1

  公开（公告）日：2011-08-04

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.
• 471. Thiocyanogen chloride. Part V. Heterolytic and homolytic thiocyanation of alkylnaphthalenes
  作者：R. G. R. Bacon、R. G. Guy、R. S. Irwin

  DOI：10.1039/jr9610002436

  日期：——