A photosensitive resist composition comprising:
a polymer of tertiary-butyl acrylate having monomeric units of:
where 0.5≤a≤0.7; 0.15≤b≤0.3; 0.1≤c≤0.2; 0.3
一种光敏抗蚀剂组合物,包括
一种
丙烯酸叔丁酯聚合物,其单体单元包括
其中 0.5≤a≤0.7; 0.15≤b≤0.3; 0.1≤c≤0.2; 0.3
四氢呋喃基团
光酸发生器
溶剂;以及
可选的碱性化合物。