2-aminonaphthalene acetylene | 1312618-74-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 2-aminonaphthalene acetylene
• 英文别名: 2-amino-3-ethynylnaphthalene；3-Ethynylnaphthalen-2-amine
• CAS: 1312618-74-8
• 化学式: C₁₂H₉N
• 分子量: 167.21
• InChiKey: JPNBYODBCTYDOR-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  335.9±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.15±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  26
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-aminonaphthalene acetylene 在 吡啶 、 copper(l) iodide 、 四(三苯基膦)钯 、 二异丙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 24.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  萘并[2,3 - e ] -1,2-氮杂膦酸2-氧化物的合成和性质：PN-蒽类似物

  摘要：

  我们报告了一系列新的“ PN-蒽”衍生物，即萘并[2,3 - e ] -1,2-氮杂膦-2-氧化物的合成，该衍生物结合了多种3-芳基取代基。这些化合物代表一类新的π扩展PN杂环，具有很强的紫外线吸收能力，在可见光范围内发射，斯托克斯位移高达10000 cm –1。这些分子表现出偶极排列，通过N–H和P═O氢键供体/受体的强二聚作用，以及固态时有效的芳族堆积。

  DOI：

  10.1021/acs.organomet.7b00281
• 作为产物：
  描述：

  3-(Trimethylacetamido)-2-naphthaldehyde 在 盐酸 、 正丁基锂 、 三苯基膦 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醇 、 正己烷 、 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 2.5h， 生成 2-aminonaphthalene acetylene
  参考文献：
  名称：

  萘熔合的偶氮烯-炔类化合物中的缩水合物与周环反应性：苯并噻吩啉和苯并异吲唑类化合物的合成

  摘要：

  萘稠合的偶氮烯炔化合物的环化反应在计算和实验上都得到了探索。计算表明，与基于苯的系统相比，萘向偶氮-炔-炔骨架的融合不会显着改变过渡态能量。然而，由于形成具有更高芳香性的芳烃，以一定角度融合萘会降低能量中间体。实验上，角体系的环化不仅产生了预期的单体苯并肉桂啉和苯并异吲唑，而且还产生了几种二聚结构，包括在轻酸和/或痕量酸存在下易于异构化的二聚结构。

  DOI：

  10.1002/chem.201002936

文献信息

• NOVEL TETRACARBOXYLIC DIANHYDRIDE, POLYIMIDE RESIN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS, PATTERNING PROCESS, METHOD FOR FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC PARTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20190169211A1

  公开（公告）日：2019-06-06

  The present invention has been made in view of the circumstances herein. An object of the present invention is to provide: a tetracarboxylic dianhydride which can lead to a polyimide usable as a base resin of a photosensitive resin composition capable of forming a fine pattern and obtaining high resolution without impairing excellent characteristics such as mechanical strength and adhesiveness; a polyimide resin obtained by using the tetracarboxylic dianhydride; and a method for producing the polyimide resin. The tetracarboxylic dianhydride is shown by the following general formula (1).

  本发明是基于本文中的情况而作出的。本发明的目的是提供：一种四羧酸二酐，可导致聚酰亚胺，作为感光树脂组合物的基树脂，能够形成细微图案并获得高分辨率，同时不损害优异的特性，如机械强度和粘附性；通过使用该四羧酸二酐获得的聚酰亚胺树脂；以及生产该聚酰亚胺树脂的方法。该四羧酸二酐由以下通用式（1）所示。
• NOVEL COMPOUND, POLYIMIDE RESIN AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD AND METHOD OF FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US20210317270A1

  公开（公告）日：2021-10-14

  Provided is a compound that can be used as a base resin for a photosensitive resin composition. The photosensitive resin can form a fine pattern and can achieve high resolution without impairing mechanical strength and solubility. The compound is represented by the general formula (1): wherein Z represents a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 2 to 30 carbon atoms; X 1 to X 3 represent any of —CO 2 —, —CONR X1 —, —O—, —NR X1 —, —S—, —SO 2 —, —SO 3 — and —SO 2 NR X1 — and may be the same as or different from each other, provided that R X1 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; Ar represents a divalent aromatic group having 2 to 30 carbon atoms; L 1 and L 2 independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; and x and y are each independently 0 or 1.

  提供的是一种可以用作光敏树脂组合物的基树脂的化合物。这种光敏树脂可以形成精细图案，并且可以在不影响机械强度和溶解性的情况下实现高分辨率。该化合物由通式（1）表示：其中Z代表具有2到30个碳原子的线性、支链或环状二价碳氢基团；X1到X3代表任何一种—CO2—、—CONRX1—、—O—、—NRX1—、—S—、—SO2—、—SO3—和—SO2NRX1—中的一种，并且它们可以相同也可以不同，只要RX1是氢原子或具有1到30个碳原子的一价碳氢基团；Ar代表具有2到30个碳原子的二价芳香基团；L1和L2分别代表具有1到30个碳原子的二价碳氢基团；x和y分别独立地为0或1。
• TETRACARBOXYLIC ACID DIESTER COMPOUND, POLYMER OF POLYIMIDE PRECURSOR AND METHOD FOR PRODUCING SAME, NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND METHOD FOR FORMING CURED FILM
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20180120702A1

  公开（公告）日：2018-05-03

  The present invention provides a tetracarboxylic acid diester compound represented by the following general formula (1), wherein, X 1 represents a tetravalent organic group, and R 1 represents a group represented by the following general formula (2), wherein, the dotted line represents a bonding, Y 1 represents an organic group with a valency of k+1, Rs represents a group containing at least one silicon atom, “k” represents 1, 2 or 3, and “n” represents 0 or 1. There can be provided a tetracarboxylic acid diester compound which can lead a polymer of a polyimide precursor capable of using a base resin of a negative photosensitive resin composition which is capable of forming a fine pattern and giving high resolution, a polymer of a polyimide precursor obtained by using the tetracarboxylic acid diester compound and a method for producing the same.

  本发明提供了一种四羧酸二酯化合物，其表示为以下通式（1）：其中，X1表示四价有机基团，R1表示以下通式（2）所表示的基团：其中，虚线表示键合，Y1表示具有k+1价的有机基团，Rs表示含有至少一个硅原子的基团，“k”表示1、2或3，“n”表示0或1。可以提供一种四羧酸二酯化合物，该化合物能够引导聚合物的形成，该聚合物是由使用负光敏树脂组合物的基树脂制成的，该组合物能够形成细微图案并具有高分辨率，使用四羧酸二酯化合物制得的聚酰亚胺前体聚合物以及其制备方法。
• 一类螺环银簇发光簇合物及其制备方法与应 用
  申请人：清华大学

  公开号：CN108997384B

  公开（公告）日：2020-01-17

  本发明公开了一类新型的螺环银簇化合物及其制备方法与应用。该银簇化合物的结构通式如式I所示。本发明所提供的螺环银簇化合物结构稳定，量子产率可达(5％‑30％)，表现出对外部刺激(机械力，溶剂)响应的发光变色行为，在力学传感，有机溶剂蒸汽监测，发光材料等领域具有潜在的应用前景。
• POLYAMIC ACID RESIN COMPOSITION AND METHOD OF PRODUCING THE SAME
  申请人：Miyazaki Daichi

  公开号：US20130289202A1

  公开（公告）日：2013-10-31

  The disclosed polyamic acid resin composition contains (a) a polyamic acid represented by general formula (1) or (2), and (b) a solvent. (A, A′, C, C′ are end-capped polyamic acid blocks comprising diaminobenzanilide and pyromellitic dianhydride or benzophenone tetracarboxylic dianhydride, and B, or D, is a polyamic acid block comprising a repeating unit other than A, A′, or C, C′. A-B-A′  (1) C-D-C′  (2)

  披露的聚酰亚胺树脂组合物包含（a）由通式（1）或（2）表示的聚酰亚胺，以及（b）溶剂。（A，A'，C，C'是端基聚酰亚胺块，包括二氨基苯酰亚胺和苯二酸酐或苯并苯酮四羧酸酐，而B或D是聚酰亚胺块，包括除A，A'，C，C'以外的重复单元。A-B-A'（1）C-D-C'（2）