N,N'-dihydroxy-4,4'-(phenylene-1,3-dioxy)-dinaphthalene-1,8;1',8'-tetracarboxylic imide | 504406-21-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异喹啉及其衍生物
• 英文名称: N,N'-dihydroxy-4,4'-(phenylene-1,3-dioxy)-dinaphthalene-1,8;1',8'-tetracarboxylic imide
• CAS: 504406-21-7
• 化学式: C₃₀H₁₆N₂O₈
• 分子量: 532.466
• InChiKey: DGXUQORMADLQRW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.55
• 重原子数：
  40.0
• 可旋转键数：
  4.0
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  133.68
• 氢给体数：
  2.0
• 氢受体数：
  8.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N,N'-dihydroxy-4,4'-(phenylene-1,3-dioxy)-dinaphthalene-1,8;1',8'-tetracarboxylic imide 、 2,6-二氟苯磺酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以23%的产率得到N,N'-di-(2,6-difluorobenzenesulfonyloxy)-4,4'-(phenylene-1,3-dioxy)dinaphthalene-1,8;1',8'-tetracarboxylic imide
  参考文献：
  名称：

  Non-ionic photo-acid generators for applications in two-photon lithography

  摘要：

  我们设计并合成了用于双光子光刻技术（TPL）的非离子光酸发生器（PAGs）。这些新型 PAG 中的发色团通过柔性连接与可光裂解基团共价连接。研究人员对它们的热稳定性、溶解性以及在单光子和双光子激发下产生酸的效率进行了表征。在两种负色调抗蚀剂体系中，利用自由基/阳离子聚合或阳离子引发的交联反应等不同机制测试了这些 PAG 在 TPL 方面的潜力。与市售的光引发剂异丙基硫杂蒽酮和光酸发生剂 N-hydroxynaphthalimide triflate 相比，这些 PAG 聚合所需的阈值功率更低。制造出的微结构分辨率为 0.6 微米，聚合阈值功率低于 2 毫瓦。

  DOI：

  10.1039/b816434g
• 作为产物：
  描述：

  bis-(4-oxy-1,8-naphthalic anhydride)phenylene 在 盐酸羟胺 作用下， 以 吡啶 为溶剂， 反应 3.0h， 以95%的产率得到N,N'-dihydroxy-4,4'-(phenylene-1,3-dioxy)-dinaphthalene-1,8;1',8'-tetracarboxylic imide
  参考文献：
  名称：

  Non-ionic photo-acid generators for applications in two-photon lithography

  摘要：

  我们设计并合成了用于双光子光刻技术（TPL）的非离子光酸发生器（PAGs）。这些新型 PAG 中的发色团通过柔性连接与可光裂解基团共价连接。研究人员对它们的热稳定性、溶解性以及在单光子和双光子激发下产生酸的效率进行了表征。在两种负色调抗蚀剂体系中，利用自由基/阳离子聚合或阳离子引发的交联反应等不同机制测试了这些 PAG 在 TPL 方面的潜力。与市售的光引发剂异丙基硫杂蒽酮和光酸发生剂 N-hydroxynaphthalimide triflate 相比，这些 PAG 聚合所需的阈值功率更低。制造出的微结构分辨率为 0.6 微米，聚合阈值功率低于 2 毫瓦。

  DOI：

  10.1039/b816434g