hexafluoropropylene oxide dimer | 137373-27-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 二恶烷
• 英文名称: hexafluoropropylene oxide dimer
• 英文别名: 2,2,3,5,5,6-Hexafluoro-3,6-bis(trifluoromethyl)-1,4-dioxane
• CAS: 137373-27-4
• 化学式: C₆F₁₂O₂
• 分子量: 332.046
• InChiKey: NCWPXDOVVTVZBC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  14

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  氯甲酸乙酯 、 hexafluoropropylene oxide dimer 在 正丁基锂 作用下， 以 正己烷 为溶剂， 以92 %的产率得到3,4,4,4-tetrafluoro-3-heptafluoropropoxy-2-oxo-butyric acid ethyl ester
  参考文献：
  名称：

  一种含氟烷基酮酸烷基酯的制备方法

  摘要：

  本发明公开了一种含氟烷基酮酸烷基酯的制备方法，包括以下步骤：在有机溶剂中，氯甲酸烷基酯与正丁基锂溶液进行反应，得到中间体烷氧基甲酰锂；中间体烷氧基甲酰锂与含氟烷基乙酰卤化合物进行反应，得到含氟烷基酮酸烷基酯。本发明方法具有原料易获得、反应选择性高、产品纯度高和产物收率高的优点，可适用于低成本合成多种含氟烷基酮酸烷基酯，而且，整个生产工艺简单，反应步骤短，便于生产控制和减少副产物的产生，经济效益好。本发明有望为含氟烷基酮酸烷基酯的工业化生产提供一种更为简单高效的途径。

  公开号：

  CN115340455A
• 作为产物：
  描述：

  六氟环氧丙烷 在 C₂₄H₃₄N₈O₄Zn⁽⁴⁺⁾*4Cl^(1-) 作用下， 30.0~40.0 ℃ 、101.33 kPa 条件下， 生成 hexafluoropropylene oxide dimer
  参考文献：
  名称：

  一种咪唑型离子液体催化合成六氟环氧丙烷二聚体的方法

  摘要：

  本申请公开了一种咪唑型离子液体催化合成六氟环氧丙烷二聚体的方法，涉及精细化工技术领域。所述制备方法如下：S1.将咪唑型离子液体催化剂加入到溶剂中，搅拌均匀，进行活化处理；S2.向活化后的混合液中通入六氟环氧丙烷进行反应，反应结束后得到六氟环氧丙烷二聚体粗产品；S3.将S2中得到的粗产品进行常压精馏，精馏后得到六氟环氧丙烷二聚体纯品；S4.将催化剂和溶剂重复使用，并重复S2、S3的步骤多次，得到六氟环氧丙烷二聚体；所述咪唑型离子液体催化剂为金属官能化甲基双咪唑氯盐M‑(MimCleimCl‑COO)2，其中，M为锌、铜、钴、铁中的一种。本申请采用咪唑型离子液体做催化剂来制备六氟环氧丙烷二聚体，反应具有更高的选择性和收率，且操作方便、合成工艺简单。

  公开号：

  CN117486714A

文献信息

• Novel polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20010033989A1

  公开（公告）日：2001-10-25

  Polymers having fluorinated ester groups are novel. Using the polymers, resist compositions featuring low absorption of F 2 excimer laser light are obtained.

  具有氟酯基团的聚合物是新型的。使用这些聚合物，可以获得具有低吸收F2准分子激光光的抗蚀剂组成物。
• Polymer, chemically amplified resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20020004569A1

  公开（公告）日：2002-01-10

  Polymers comprising recurring units of cycloolefin having fluorinated alkyl introduced therein are novel and have transparency and alkali solubility. Using the polymers, resist compositions featuring low absorption of F 2 excimer laser light are obtained.

  由含有氟化烷基的环氧烷重复单元组成的高分子是新颖的，并且具有透明度和碱溶性。使用这些高分子，可以获得低吸收F2准分子激光光的抗蚀剂组成物。
• Process for preparing (per) fluoropolyethers of controlled molecular weight
  申请人：AUSIMONT S.p.A.

  公开号：EP0440199A2

  公开（公告）日：1991-08-07

  Described is a process for preparing (per)fluoropolyethers having neutral and/or functional end groups by means of a selective catalytic cleavage of the corresponding higher molecular weight (per)fluoropolyethers, said cleavage being carried out in the presence of a catalytic system comprising a combination of silicon dioxide with at least one oxide, fluoride and/or oxyfluoride of a metal selected from Al, Ti, V, Cr, Co, Fe, Ni, Mo, Zn, Cu, Cd, Mn, Sb, Sn, Zr, Sc, Y, lanthanides, Pb, Mg and W.

  描述了一种通过选择性催化裂解相应的高分子量（全）氟聚醚来制备具有中性和/或官 能端基的（全）氟聚醚的工艺、所述裂解在催化体系存在下进行，该催化体系包括二氧化硅与至少一种选自 Al、Ti、V、Cr、Co、Fe、Ni、Mo、Zn、Cu、Cd、Mn、Sb、Sn、Zr、Sc、Y、镧系元素、Pb、Mg 和 W 的金属的氧化物、氟化物和/或氧氟化物的组合。
• Fluorine-containing polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：EP1126322A2

  公开（公告）日：2001-08-22

  Polymers having fluorinated ester groups are novel. Using the polymers, resist compositions featuring low absorption of F2 excimer laser light are obtained.

  具有氟化酯基团的聚合物是一种新型聚合物。使用这种聚合物可获得对 F2 准分子激光吸收率低的抗蚀剂组合物。
• Novel polymers, chemical amplification resist compositions and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20010018162A1

  公开（公告）日：2001-08-30

  Polymers comprising recurring units of an acrylic derivative of fluorinated backbone represented by formula (1) are novel. 1 R 1 , R 2 and R 3 are independently H, F, C 1-20 alkyl or fluorinated C 1-20 alkyl, at least one of R 1 , R 2 and R 3 contains fluorine, and R 4 is a hydrophilic group. Using the polymers, chemical amplification positive resist compositions featuring low absorption of F 2 excimer laser light are obtained.

  由式（1）代表的氟化主链的丙烯酸衍生物的循环单元组成的聚合物是一种新型聚合物。 1 R 1 , R 2 和 R 3 独立地为 H、F、C 1-20 烷基或氟化 C 1-20 烷基，R 1 , R 2 和 R 3 含有氟，而 R 4 是亲水基团。使用这种聚合物，化学放大阳离子抗蚀剂成分具有低吸收 F 2 准分子激光的吸收率低的化学放大正向光刻胶组合物。