4-(1-甲基-1-苯乙基)苯基3-重氮基-3,4-二氢-4-氧代-1-萘磺酸 | 23121-00-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 4-(1-甲基-1-苯乙基)苯基3-重氮基-3,4-二氢-4-氧代-1-萘磺酸
• 英文名称: 3-Diazo-4-oxo-3,4-dihydro-naphthalene-1-sulfonic acid 4-(1-methyl-1-phenyl-ethyl)-phenyl ester
• 英文别名: [4-(2-phenylpropan-2-yl)phenyl] (3E)-3-diazo-4-oxonaphthalene-1-sulfonate
• CAS: 23121-00-8
• 化学式: C₂₅H₂₀N₂O₄S
• 分子量: 444.511
• InChiKey: JESYNYNAHCTBAR-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  133 °C (decomp)
• 密度：
  1.35 at 20℃
• LogP：
  5.2 at 25℃
• 稳定性/保质期：
  <p><b></b></p>

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  8
• 重原子数：
  32
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  103
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

制备方法与用途

合成制备方法

---

用途

---

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-肉桂苯酚 、 3-重氮-4-氧-3,4-二氢-1-萘磺酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 生成 4-(1-甲基-1-苯乙基)苯基3-重氮基-3,4-二氢-4-氧代-1-萘磺酸
  参考文献：
  名称：

  CN117142988

  摘要：

  公开号：

文献信息

• Antireflective Film, Method of Manufacturing Antireflective Film, Polarizing Plate and Image Display Device Using the Same
  申请人：Fukushige Yuuichi

  公开号：US20080234461A1

  公开（公告）日：2008-09-25

  An antireflective film comprising: a support; and at least one layer including an antireflective layer, wherein at least one of said at least one layer laminated on the support is a layer formed by ionizing radiation curing of a composition containing a combination of a radical polymerization initiator with at least one compound selected from two or more kinds of initiator assistants and further containing an ionizing radiation curable compound.
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING HARDENED RELIEF PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE AND DISPLAY DEVICE
  申请人：ASAHI KASEI E-MATERIALS CORPORATION

  公开号：US20140349222A1

  公开（公告）日：2014-11-27

  Provided is a photosensitive resin composition which comprises: (A-1) a resin containing a structure represented by general formula (1); and (B) a photo-acid generating agent. In general formula (1), X, R 1 to R 7 , m 1 to m 4 , n 1 , n 2 , Y and W are each as defined in the description.
• US8241740B2
  申请人：——

  公开号：US8241740B2

  公开（公告）日：2012-08-14
• US9575410B2
  申请人：——

  公开号：US9575410B2

  公开（公告）日：2017-02-21
• CN117142988
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——