4-(1H-四唑-5-甲基)苯酚 | 119192-12-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 中文名称: 4-(1H-四唑-5-甲基)苯酚
• 英文名称: 1-(p-hydroxybenzyl)-tetrazole
• 英文别名: 4-(1H-tetrazol-5-ylmethyl)phenol；4-(2H-tetrazol-5-ylmethyl)phenol
• CAS: 119192-12-0
• 化学式: C₈H₈N₄O
• mdl: MFCD08669497
• 分子量: 176.178
• InChiKey: MEEDVZNIMBGRPZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  447.2±47.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.406±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  74.7
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-(1H-四唑-5-甲基)苯酚 在 氢氧化钾 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 2-methyl-5-(p-hydroxybenzyl)-1,3,4-oxadiazole
  参考文献：
  名称：

  Andreini; Biagi; Giorgi, Il Farmaco, 1989, vol. 44, # 9, p. 831 - 841

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  5-(4-aminobenzyl)-tetrazole 在 sodium nitrate 、 硫酸 作用下， 以 水 为溶剂， 以98%的产率得到4-(1H-四唑-5-甲基)苯酚
  参考文献：
  名称：

  Andreini; Biagi; Giorgi, Il Farmaco, 1989, vol. 44, # 9, p. 831 - 841

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Use of a chemical mechanical polishing (CMP) composition for polishing of cobalt comprising substrates
  申请人：BASF SE

  公开号：US10899945B2

  公开（公告）日：2021-01-26

  Use of a chemical mechanical polishing (CMP) composition (Q) for chemical mechanical polishing of a substrate (S) comprising (i) cobalt and/or (ii) a cobalt alloy and (iii) Ti N and/or TaN, wherein the CMP composition (Q) comprises (E) Inorganic particles (F) at least one organic compound comprising an amino-group and an acid group (Y), wherein said compound comprises n amino groups and at least n+1 acidic protons, wherein n is a integer≥1. (G) at least one oxidizer in an amount of from 0.2 to 2.5 wt.-% based on the total weight of the respective CMP composition, (H) an aqueous medium wherein the CMP composition (Q) has a pH of more than 6 and less than 9.

  一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q)，用于对包含(i)钴和/或(ii)钴合金和(iii)Ti N和/或TaN的基体(S)进行化学机械抛光，其中所述CMP组合物(Q)包含 (E) 无机颗粒 (F) 至少一种包含氨基和酸基(Y)的有机化合物，其中所述化合物包含n个氨基和至少n+1个酸性质子，其中n为整数≥1。(G) 至少一种氧化剂，其用量为 0.2 至 2.5 wt.- %，以混合物总重量为基准。(H) 一种水介质，其中 CMP 组合物 (Q) 的 pH 值大于 6 但小于 9。
• Discovery and optimization of CRTH2 and DP dual antagonists
  作者：Jiwen Liu、Zice Fu、Yingcai Wang、Mike Schmitt、Alan Huang、Derek Marshall、George Tonn、Lisa Seitz、Tim Sullivan、H. Lucy Tang、Tassie Collins、Julio Medina

  DOI：10.1016/j.bmcl.2009.09.052

  日期：2009.11

  A series of phenylacetic acid derivatives was discovered as CRTH2 antagonists. Modification of the series led to compounds that are also antagonists of DP. Since activation of CRTH2 and DP are believed to play key roles in mediating responses of asthma and other immune diseases, this series was optimized to increase the dual antagonistic activities and improve pharmacokinetic properties. These efforts led to selection of AMG 009 as a clinical candidate. (C) 2009 Elsevier Ltd. All rights reserved.
• ANDREINI, F.;BIAGI, G.;GIORGI, I.;LIVI, O.;SCARTONI, V., FARMACO, 44,(1989) N, C. 831-841
  作者：ANDREINI, F.、BIAGI, G.、GIORGI, I.、LIVI, O.、SCARTONI, V.

  DOI：——

  日期：——
• USE OF A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION FOR POLISHING OF COBALT COMPRISING SUBSTRATES
  申请人：BASF SE

  公开号：EP3334794B1

  公开（公告）日：2020-02-19
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING COMPOSITION
  申请人：BASF SE

  公开号：EP3714012A1

  公开（公告）日：2020-09-30