| 20481-47-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• CAS: 20481-47-4；856320-94-0
• 化学式: C₂H₃AlCl₃N
• 分子量: 174.393
• InChiKey: ZVVOYRDBJGCBHA-UHFFFAOYSA-K

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.22
• 重原子数：
  7.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  23.79
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  1.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  三氯化铝 、 乙腈 以 liquid sulphur dioxide 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  Glavincevski, Boris; Brownstein, Sydney K., Canadian Journal of Chemistry, 1981, vol. 59, p. 3012 - 3015

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Reactivity of sulphuryl chloride in acetonitrile with the elements
  作者：Alfred A. Woolf

  DOI：10.1039/dt9910003325

  日期：——

  Sulphuryl chloride in MeCN reacts with all but the most refractory elements to give mainly solvated chlorides at or below 300 K in contrast with SO2Cl2 alone which requires at least twice this temperature. There is evidence for an ionic mechanism based on analogy, thermochemistry, transport measurements and additive effects. The instability of these solutions leading to polymerization, together with

  与单独的SO 2 Cl 2相比，MeCN中的硫酰氯与除最难熔的元素外的所有元素发生反应，从而主要生成溶剂化的氯化物，而单独的SO 2 Cl 2至少需要该温度的两倍。有证据表明存在基于类比，热化学，传输测量和加成效应的离子机理。描述了导致聚合的这些溶液的不稳定性及其抑制作用。反应中形成的二氧化硫除了影响混合价Tl 4 Cl 6的形成外，很少起还原作用。。在不同溶剂中的半定量动力学测量结果强调了MeCN的独特性。对于大多数元素而言，侵蚀是通过控制在整个表面膜上的扩散来实现的，从而对时间呈抛物线依赖性，如果通过改变溶剂混合物来防止膜的生长，可以线性化时间。这些表面膜的不同性质消除了速率和周期性之间的任何简单关系。指出了一些应用。
• Perrier, Bulletin de la Societe Chimique de France, <hi>1895</hi>, vol. <3>13, p. 1032
  作者：Perrier

  DOI：——

  日期：——
• Genvresse, Bulletin de la Societe Chimique de France, <hi>1888</hi>, vol. <2>49, p. 342
  作者：Genvresse

  DOI：——

  日期：——