5,6,7-三甲氧基-2-萘甲酸 | 69791-81-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 5,6,7-三甲氧基-2-萘甲酸
• 英文名称: 5,6,7-trimethoxynaphthalene-2-carboxylic acid
• 英文别名: 5,6,7-trimethoxy-2-naphthoic acid；5,6,7-trimethoxy-2-naphthooic acid
• CAS: 69791-81-7
• 化学式: C₁₄H₁₄O₅
• 分子量: 262.262
• InChiKey: UDAHTEIDHNWRAS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.21
• 拓扑面积：
  65
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Glauber's salt 、 5,6,7-三甲氧基-2-萘甲酸 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 2-hydroxymethyl-5,6,7-trimethoxynaphthalene
  参考文献：
  名称：

  Cyclic diamine compound with condensed-ring groups

  摘要：

  公式（1）所示的环状二胺化合物：1 其中R1和R2分别是个别氢原子或甲氧基，条件是当R2是氢原子时R1是甲氧基，或者当R2是甲氧基时R1是氢原子；A是氧原子、硫原子、CH═CH、CH═N或NR3，其中R3是氢原子，或者是低级烷基、羟基低级烷基、低级烷氧基低级烷基、芳基或芳基低级烷基团；B是氮原子、CH或CR4，其中R4是氢原子，或者是低级烷基、羟基低级烷基、低级烷氧基低级烷基、芳基或芳基低级烷基团；m是1或2；n是1到5的数字，其酸加成盐，或其水合物。该化合物具有抑制细胞粘附的作用，并且对于治疗过敏、哮喘、风湿病、动脉硬化以及炎症是有用的。

  公开号：

  US20030060461A1
• 作为产物：
  描述：

  5,6,7-trimethoxynaphthalene-2-carbonitrile 在 氢氧化钾 作用下， 以 乙醇 、 水 为溶剂， 生成 5,6,7-三甲氧基-2-萘甲酸
  参考文献：
  名称：

  Cyclic diamine compound with condensed-ring groups

  摘要：

  公式（1）所示的环状二胺化合物：1 其中R1和R2分别是个别氢原子或甲氧基，条件是当R2是氢原子时R1是甲氧基，或者当R2是甲氧基时R1是氢原子；A是氧原子、硫原子、CH═CH、CH═N或NR3，其中R3是氢原子，或者是低级烷基、羟基低级烷基、低级烷氧基低级烷基、芳基或芳基低级烷基团；B是氮原子、CH或CR4，其中R4是氢原子，或者是低级烷基、羟基低级烷基、低级烷氧基低级烷基、芳基或芳基低级烷基团；m是1或2；n是1到5的数字，其酸加成盐，或其水合物。该化合物具有抑制细胞粘附的作用，并且对于治疗过敏、哮喘、风湿病、动脉硬化以及炎症是有用的。

  公开号：

  US20030060461A1

文献信息

• 1,4-disubstituted piperazines (or homopiperazines) as
  申请人：Takeda Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US04880809A1

  公开（公告）日：1989-11-14

  Novel 1,4-disubstituted piperazine compounds represented by the formula (I): ##STR1## wherein A is a condensed polycyclic hydrocarbon group; R is a phenyl group substituted with a lower alkoxy group; X is methylene group, carbonyl group or thiocarbonyl group; and m is 2 or 3, and their salts are useful as a platelet activating factor antagonist.

  新颖的1,4-二取代哌嗪化合物由以下公式（I）表示：##STR1## 其中A是一个紧凑的多环碳氢基团；R是一个被低烷氧基取代的苯基团；X是亚甲基基团、羰基或硫代羰基；m为2或3，它们的盐可用作血小板活化因子拮抗剂。
• Unsymmetrical cyclic diamine compound
  申请人：Kowa Co., Ltd.

  公开号：US20030022887A1

  公开（公告）日：2003-01-30

  A cyclic diamine compound of formula (1): 1 wherein A is (CH 2 ) n , (CH 2 ) n —CH═CH, CO—(CH 2 ) n or CO—(CH 2 ) n —CH═CH, in which n is a number of 0 to 3; Z represents a formula (2) or (3): 2 in which R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and R 6 are individually a hydrogen atom, alkyl group, alkoxy group, halogen atom or nitro group; R 3 is a hydrogen atom, alkyl group, alkoxy group, halogen atom, nitro group, naphthyl group, or phenyl group which may be substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of alkyl groups, alkoxy groups, halogen atoms, a nitro group and a phenyl group; and X and Y are individually CH or a nitrogen atom; and m is 1 or 2; an acid-addition salt thereof, or a hydrate thereof, and a medicine containing such a compound.

  一种化学式（1）的环状二胺化合物：其中A为(CH2)n，( )n— CH，CO—( )n或CO—( )n— CH，其中n为0至3的数字；Z代表化学式（2）或（3）：其中R1、R2、R4、R5和R6分别为氢原子、烷基基团、烷氧基团、卤原子或硝基基团；R3为氢原子、烷基基团、烷氧基团、卤原子、硝基基团、萘基团或苯基团，可以由1至3个从烷基基团、烷氧基团、卤原子、硝基基团和苯基团组成的取代基取代；X和Y分别为CH或氮原子；m为1或2；其酸加合盐或水合物，以及含有这种化合物的药物。
• CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND PRODUCTION METHOD OF COMPOUND
  申请人：OSAKA UNIVERSITY

  公开号：US20170052449A1

  公开（公告）日：2017-02-23

  A pattern-forming method comprises patternwise exposing a predetermined region of a resist material film made from a photosensitive resin composition comprising a chemically amplified resist material to a first radioactive ray that is ionizing radiation or nonionizing radiation having a wavelength of no greater than 400 nm. The resist material film patternwise exposed is floodwise exposed to a second radioactive ray that is nonionizing radiation having a wavelength greater than the wavelength of the nonionizing radiation for the patternwise exposing and greater than 200 nm. The chemically amplified resist material comprises a base component, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The generative component comprises a radiation-sensitive sensitizer generating agent. The radiation-sensitive sensitizer generating agent comprises a compound represented by formula (A).

  一种图案形成方法包括将一种化学放大型光刻胶材料制成的感光树脂组成物的预定区域图案暴露于第一种放射性射线中，该放射性射线是电离辐射或波长不大于400 nm的非电离辐射。图案化暴露的光刻胶材料膜被洪水式暴露于第二种放射性射线中，该放射性射线是波长大于图案化暴露的非电离辐射的波长和大于200 nm的非电离辐射。该化学放大型光刻胶材料包括基础组分和能够在暴露时生成辐射敏感的敏化剂和酸的生成组分。生成组分包括辐射敏感的敏化剂生成剂。辐射敏感的敏化剂生成剂包括由式(A)表示的化合物。
• 1,4-Disubstituted piperazine compounds, their production and use
  申请人：Takeda Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP0284359A1

  公开（公告）日：1988-09-28

  Novel 1,4-disubstituted piperazine compounds represented by the formula (I): wherein A is a condensed polycyclic hydrocarbon group;     R is a phenyl group substituted with a lower alkoxy group;     X is methylene group, carbonyl group or thiocarbonyl group;     and m is 2 or 3, and their salts are useful as a platelet activating factor antagonist.

  由式(I)代表的新型1,4-二取代哌嗪化合物： 其中 A 是缩合多环烃基团 R 是被低级烷氧基取代的苯基 X 是亚甲基、羰基或硫代羰基； m 为 2 或 3，以及它们的盐类 可用作血小板活化因子拮抗剂。
• CYCLIC DIAMINE COMPOUNDS HAVING FUSED-RING GROUPS
  申请人：Kowa Co., Ltd.

  公开号：EP1400510A1

  公开（公告）日：2004-03-24

  A cyclic diamine compound of formula (1): wherein R1 and R2 are individually a hydrogen atom or a methoxy group, provided R1 is a methoxy group when R2 is a hydrogen atom, or a hydrogen atom when R2 is a methoxy group; A is an oxygen atom, a sulfur atom, CH=CH, CH=N or NR3, in which R3 is a hydrogen atom, or a lower alkyl, hydroxy lower alkyl, lower alkoxy lower alkyl, aryl or aryl lower alkyl group; B is a nitrogen atom, CH or CR4, in which R4 is a hydrogen atom, or a lower alkyl, hydroxy lower alkyl, lower alkoxy lower alkyl, aryl or aryl lower alkyl group; m is 1 or 2; and n is a number of 1 to 5, an acid-addition salt thereof, or a hydrate thereof. The compound has inhibitory effects on cell adhesion and is useful for treatment of allergy, asthma, rheumatism, arteriosclerosis, and inflammation.

  一种式(1)的环状二胺化合物： 其中 R1 和 R2 分别为氢原子或甲氧基，条件是当 R2 为氢原子时 R1 为甲氧基，或当 R2 为甲氧基时为氢原子；A 为氧原子、硫原子、CH=CH、CH=N 或 NR3，其中 R3 为氢原子，或低级烷基、羟基低级烷基、低级烷氧基低级烷基、芳基或芳基低级烷基；B是氮原子、CH或CR4，其中R4是氢原子、或低级烷基、羟基低级烷基、低级烷氧基低级烷基、芳基或芳基低级烷基；m是1或2；n是1至5的数字、其酸加成盐或其水合物。该化合物对细胞粘附有抑制作用，可用于治疗过敏、哮喘、风湿病、动脉硬化和炎症。