2-(tricyclo[5.2.1.02,6]decane-2-carbonyl)-1-naphthol | 1160237-58-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 2-(tricyclo[5.2.1.02,6]decane-2-carbonyl)-1-naphthol
• 英文别名: (1-Hydroxynaphthalen-2-yl)-(2-tricyclo[5.2.1.02,6]decanyl)methanone
• CAS: 1160237-58-0
• 化学式: C₂₁H₂₂O₂
• 分子量: 306.404
• InChiKey: KZVNBQIZZLVYJA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.48
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  萘酚 、 Tricyclo-[5.2.1.02,6]-decan-2-carboxylic acid fluoride 以 正庚烷 为溶剂， 生成 2-(tricyclo[5.2.1.02,6]decane-2-carbonyl)-1-naphthol
  参考文献：
  名称：

  MODIFIED NAPHTHALENE FORMALDEHYDE RESIN, TRICYCLODECANE SKELETON-CONTAINING NAPHTHOL COMPOUND AND ESTER COMPOUND

  摘要：

  通过使用下列通式[1]所代表的单元作为分子单元，将多官能团二甲基萘醛树脂改性，至少使用下列通式[2]所代表的酚、下列通式[3]所代表的萘酚或下列通式[4]所代表的萘酚中的一种对其进行改性，其中至少包含下列通式[3]所代表的萘酚或下列通式[4]所代表的萘酚中的任意一种。

  公开号：

  US20120238775A1

文献信息

• COMPOSITION FOR FORMING BASE FILM FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING MULTILAYER RESIST PATTERN
  申请人：Oguro Dai

  公开号：US20100316950A1

  公开（公告）日：2010-12-16

  A composition for forming an underlayer film for lithography for imparting excellent optical characteristics and etching resistance to an underlayer film for lithography, an underlayer film being formed of the composition and having a high refractive index (n) and a low extinction coefficient (k), being transparent, having high etching resistance, containing a significantly small amount of a sublimable component, and a method for forming a pattern using the underlayer film are provided. The composition for forming an underlayer film contains a naphthalene formaldehyde polymer having a specific unit obtained by reacting naphthalene and/or alkylnaphthalene with formaldehyde, and an organic solvent.
• US8524952B2
  申请人：——

  公开号：US8524952B2

  公开（公告）日：2013-09-03
• US8563665B2
  申请人：——

  公开号：US8563665B2

  公开（公告）日：2013-10-22
• US8519177B2
  申请人：——

  公开号：US8519177B2

  公开（公告）日：2013-08-27