3,3-Bis(nonafluorbutylsulfonyl)propan-1-ol | 29269-32-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 磺酰类
• 英文名称: 3,3-Bis(nonafluorbutylsulfonyl)propan-1-ol
• 英文别名: 3,3-Bis(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutylsulfonyl)propan-1-ol；3,3-bis(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutylsulfonyl)propan-1-ol
• CAS: 29269-32-7
• 化学式: C₁₁H₆F₁₈O₅S₂
• 分子量: 624.269
• InChiKey: IZOGNGPNHRHORH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.3
• 重原子数：
  36
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  105
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  23

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  环氧乙烷 、 二[(九氟丁基)磺酰基]甲烷 生成 3,3-Bis(nonafluorbutylsulfonyl)propan-1-ol
  参考文献：
  名称：

  Bis(perfluoroalkylsulfonyl)methanes and related disulfones

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00959a026

文献信息

• Novel Salt Having Fluorine-Containing Carbanion Structure, Derivative Thereof, Photoacid Generator, Resist Material Using the Photoacid Generator, and Pattern Forming Method
  申请人：Nagamori Masashi

  公开号：US20110070544A1

  公开（公告）日：2011-03-24

  There is provided an acid having a fluorine-containing carbanion structure or a salt having a fluorine-containing carbanion structure, which is represented by the following general formula (1). By using a photoacid generator for chemically amplified resist materials that generates this acid, it is possible to provide a photoacid generator which has a high sensitivity to the ArF excimer laser light or the like, of which acid (photo generated acid) to be generated has a sufficiently high acidity, and which has a high dissolution in resist solvent and a superior compatibility with resin, and a resist material containing such a photoacid generator.

  提供了一种具有含氟碳阴离子结构的酸或含有含氟碳阴离子结构的盐，其表示为以下一般式（1）。通过使用生成此酸的化学增感抗蚀材料的光酸发生剂，可以提供一种对ArF准分子激光等具有高灵敏度的光酸发生剂，其生成的酸（光生成酸）具有足够高的酸度，并且具有与树脂的高溶解度和优越的相容性，以及包含这样的光酸发生剂的抗蚀材料。