1-formylmethylene-3-phenyl-2-benzothiopyran | 75807-94-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异硫色烯
• 英文名称: 1-formylmethylene-3-phenyl-2-benzothiopyran
• 英文别名: (3-Phenyl-1H-2-benzothiopyran-1-ylidene)acetaldehyde；2-(3-phenylisothiochromen-1-ylidene)acetaldehyde
• CAS: 75807-94-2
• 化学式: C₁₇H₁₂OS
• 分子量: 264.348
• InChiKey: ZBAIWBCCAGRORM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  106 °C(Solv: ethanol (64-17-5); water (7732-18-5))
• 沸点：
  462.2±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.284±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  42.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,2,3,3-tetramethyl-3H-indolium perchlorate 、 1-formylmethylene-3-phenyl-2-benzothiopyran 在 sodium acetate 、 乙酸酐 作用下， 以 溶剂黄146 为溶剂， 反应 0.08h， 以46%的产率得到1,3,3-trimethyl-2-<3-(3-phenyl-2-benzothiopyran-1-ylidene)prop-1-en-1-yl>-3H-indolium perchlorate
  参考文献：
  名称：

  在高能离子照射下形成的钛的氮化物和碳氮化物层

  摘要：

  通过蒸发钛，同时分别在 N2 和 C2H2+N2 气氛中用高能氮离子照射，形成氮化钛和碳氮化物膜。根据工艺参数（如氮离子电流密度和反应气体的工艺压力）检查物理和化学特性，如成分、纯度、硬度、附着力和耐腐蚀性能。可以在广泛的工艺参数范围内获得氮化物和碳氮化物相。氧污染在很大程度上取决于离子电流密度。在划痕测试中，TiN 沉积物的硬度值高达 2800 kgmm-2，附着力值高达 15 N 临界载荷。对于 TiCN，值为 4000 kgmm-2 和 10 N。

  DOI：

  10.1007/bf00553698
• 作为产物：
  描述：

  1-(2,2-dimethyl-4,6-dioxo-1,3-dioxan-5-ylidene)-3-phenyl-2-benzothiopyran 在 sodium hydroxide 、 高氯酸 、 乙酸酐 作用下， 以 溶剂黄146 、 乙腈 为溶剂， 反应 15.5h， 生成 1-formylmethylene-3-phenyl-2-benzothiopyran
  参考文献：
  名称：

  在高能离子照射下形成的钛的氮化物和碳氮化物层

  摘要：

  通过蒸发钛，同时分别在 N2 和 C2H2+N2 气氛中用高能氮离子照射，形成氮化钛和碳氮化物膜。根据工艺参数（如氮离子电流密度和反应气体的工艺压力）检查物理和化学特性，如成分、纯度、硬度、附着力和耐腐蚀性能。可以在广泛的工艺参数范围内获得氮化物和碳氮化物相。氧污染在很大程度上取决于离子电流密度。在划痕测试中，TiN 沉积物的硬度值高达 2800 kgmm-2，附着力值高达 15 N 临界载荷。对于 TiCN，值为 4000 kgmm-2 和 10 N。

  DOI：

  10.1007/bf00553698

文献信息

• Nitride and carbonitride layers of titanium formed under high energy ion irradiation
  作者：W. Ensinger、J. M. Mayne

  DOI：10.1007/bf00553698

  日期：——

  Titanium nitride and carbonitride films were formed by evaporating titanium while simultaneously irradiating with energetic nitrogen ions in an atmosphere of N2 and C2H2+N2, respectively. The physical and chemical properties, such as composition, purity, hardness, adhesion and corrosion resistance behaviour, were examined with respect to the process parameters such as nitrogen ion current density and

  通过蒸发钛，同时分别在 N2 和 C2H2+N2 气氛中用高能氮离子照射，形成氮化钛和碳氮化物膜。根据工艺参数（如氮离子电流密度和反应气体的工艺压力）检查物理和化学特性，如成分、纯度、硬度、附着力和耐腐蚀性能。可以在广泛的工艺参数范围内获得氮化物和碳氮化物相。氧污染在很大程度上取决于离子电流密度。在划痕测试中，TiN 沉积物的硬度值高达 2800 kgmm-2，附着力值高达 15 N 临界载荷。对于 TiCN，值为 4000 kgmm-2 和 10 N。