4-氯-1-哌嗪羧酸乙酯 | 152820-13-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 哌啶类
• 中文名称: 4-氯-1-哌嗪羧酸乙酯
• 中文别名: 1-乙氧羰基-4-氯哌啶；4-氯-1-哌啶甲酸乙酯
• 英文名称: ethyl 4-chloropiperidine-1-carboxylate
• 英文别名: Ethyl 4-Chloro-1-piperidinecarboxylate
• CAS: 152820-13-8
• 化学式: C₈H₁₄ClNO₂
• mdl: MFCD09038524
• 分子量: 191.658
• InChiKey: VRTIIQLEEGGJNE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.16
• 闪点：
  108 °C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.875
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2933399090
• 包装等级：
  III
• 危险类别：
  6.1
• 危险性防范说明：
  P201,P202,P261,P264,P270,P271,P280,P302+P352,P304+P340,P308+P313,P310,P330,P361,P403+P233,P405,P501
• 危险品运输编号：
  2810
• 危险性描述：
  H301,H311,H331,H341

SDS

4-氯-1-哌啶甲酸乙酯 修改号码：5

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模块 1. 化学品
产品名称： Ethyl 4-Chloro-1-piperidinecarboxylate
修改号码： 5

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害 未分类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志 无
信号词 无信号词
危险描述 无
防范说明 无

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 4-氯-1-哌啶甲酸乙酯
百分比： >98.0%(GC)
CAS编码： 152820-13-8
俗名： 4-Chloro-1-piperidinecarboxylic Acid Ethyl Ester , 1-Carbethoxy-4-
chloropiperidine , 4-Chloro-1-(ethoxycarbonyl)piperidine
分子式： C8H14ClNO2

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用水清洗皮肤/淋浴。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
4-氯-1-哌啶甲酸乙酯 修改号码：5

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模块 5. 消防措施
不适用的灭火剂： 棒状水
特殊危险性： 小心，燃烧或高温下可能分解产生毒烟。
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。确保足够通风。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 用合适的吸收剂（如：旧布，干砂，土，锯屑）吸收泄漏物。一旦大量泄漏，筑堤控
制。附着物或收集物应该立即根据合适的法律法规废弃处置。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止烟雾产生。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项： 如果蒸气或浮质产生，使用通风、局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料： 依据法律。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防毒面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块 9. 理化特性
液体
外形（20°C）：
外观： 透明
颜色： 无色-浅黄色
气味： 无资料
pH: 无数据资料
熔点： 无资料
沸点/沸程 无资料
闪点： 108°C
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 1.16
溶解度：
[水] 无资料
4-氯-1-哌啶甲酸乙酯 修改号码：5

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模块 9. 理化特性
[其他溶剂] 无资料

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳, 氮氧化物 (NOx), 氯化氢

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： 无资料
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中焚烧。废弃处置时请遵守
国家、地区和当地的所有法规。

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模块 14. 运输信息
联合国分类： 与联合国分类标准不一致
UN编号： 未列明

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。
4-氯-1-哌啶甲酸乙酯 修改号码：5

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-氯-1-哌嗪羧酸乙酯 在 Di-MU-碘二(三-t-丁基膦基)二钯(I) 、 lithium chloride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 ethyl 4-(6-methylpyridin-3-yl)piperidine-1-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  流动中有机锌试剂的产生和交叉偶联

  摘要：

  报道了一种通用的流动合成方法，用于原位形成有机锌试剂，然后与芳基卤化物和活化的羧酸进行交叉偶联。有机锌试剂的形成是通过在流动条件下将有机卤化物在ZnCl 2和LiCl的存在下泵送通过活化的Mg填充柱来实现的。该方法可有效地原位形成芳基，伯，仲和叔烷基有机锌试剂，随后将其在下游进行Negishi或脱羧Negishi交叉偶联反应的伸缩。所描述的方法提供了使用有机锌试剂获得各种C–C键的方法，这些试剂否则在商业上是不可用的，或者在传统的间歇反应条件下难以制备。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.8b03156

文献信息

• 制备苯磺酸贝托斯汀关键中间体的方法
  申请人：海门慧聚药业有限公司

  公开号：CN108299393A

  公开（公告）日：2018-07-20

  本发明涉及一条制备苯磺酸贝托斯汀关键中间体的方法。具体涉及α‑(4‑氯苯基)‑2‑吡啶甲醇和4‑卤代哌啶‑1‑羧酸酯反应制备得到4‑[(4‑氯苯基)(2‑吡啶基)甲氧基]哌啶‑1‑甲酸酯。
• Cobalt‐Catalyzed Electroreductive Alkylation of Unactivated Alkyl Chlorides with Conjugated Olefins
  作者：Samir Al Zubaydi、Immaculata O. Onuigbo、Blaise L. Truesdell、Christo S. Sevov

  DOI：10.1002/anie.202313830

  日期：2024.1.2

  A mild electrocatalytic system is reported for the reductive alkylation of primary, secondary, or tertiary alkyl chlorides with conjugated alkenes.

  据报道，温和的电催化系统可用于伯、仲或叔烷基氯与共轭烯烃的还原烷基化。
• POLISHING COMPOSITION AND POLISHING METHOD USING THE SAME
  申请人：FUJIMI INCORPORATED

  公开号：EP2237311A1

  公开（公告）日：2010-10-06

  A polishing composition according to a first aspect of the present invention contains a nitrogen-containing compound and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 7. The nitrogen-containing compound in the polishing composition preferably has a structure expressed by a formula: R1-N(-R2)-R3 in which R1, R2, and R3 each represent an alkyl group with or without a characteristic group, two of R1 to R3 may form a part of a heterocycle, and two of R1 to R3 may be identical and form a part of a heterocycle with the remaining one, Alternatively, the nitrogen-containing compound is preferably selected from a group consisting of a carboxybetaine type ampholytic surfactant, a sulfobetaine type ampholytic surfactant, an imidazoline type ampholytic surfactant, and an amine oxide type ampholytic surfactant. A polishing composition according to a second aspect of the present invention contains a water-soluble polymer and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 8.

  根据本发明第一方面的抛光组合物含有含氮化合物和磨粒，组合物的 pH 值在 1 至 7 之间。抛光组合物中的含氮化合物最好具有由式表示的结构：R1-N(-R2)-R3，其中 R1、R2 和 R3 各代表一个带或不带特征基团的烷基，R1 至 R3 中的两个可构成杂环的一部分，R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分，或者，R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分，或者，R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分、含氮化合物最好选自由羧基甜菜碱型两性表面活性剂、磺基甜菜碱型两性表面活性剂、咪唑啉型两性表面活性剂和氧化胺型两性表面活性剂组成的组。根据本发明第二方面的抛光组合物含有水溶性聚合物和磨粒，组合物的 pH 值在 1 至 8 之间。
• Polishing composition and polishing method using the same
  申请人：Mizuno Takahiro

  公开号：US10144849B2

  公开（公告）日：2018-12-04

  A polishing composition contains a nitrogen-containing compound and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 7. The nitrogen-containing compound in the polishing composition preferably has a structure expressed by a formula: R1—N(—R2)—R3 in which R1, R2, and R3 each represent an alkyl group with or without a characteristic group, two of R1 to R3 may form a part of a heterocycle, and two of R1 to R3 may be identical and form a part of a heterocycle with the remaining one. Alternatively, the nitrogen-containing compound is preferably selected from a group consisting of a carboxybetaine type ampholytic surfactant, a sulfobetaine type ampholytic surfactant, an imidazoline type ampholytic surfactant, and an amine oxide type ampholytic surfactant. A polishing composition may contain a water-soluble polymer and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 8.

  一种抛光组合物含有一种含氮化合物和磨粒，组合物的 pH 值在 1 至 7 之间。抛光组合物中的含氮化合物最好具有由式表示的结构：R1-N(-R2)-R3，其中 R1、R2 和 R3 各代表一个带或不带特征基团的烷基，R1 至 R3 中的两个可构成杂环的一部分，R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分。另外，含氮化合物最好选自羧基甜菜碱型两性表面活性剂、磺基甜菜碱型两性表面活性剂、咪唑啉型两性表面活性剂和氧化胺型两性表面活性剂组成的组。抛光组合物可包含水溶性聚合物和磨粒，组合物的 pH 值范围为 1 至 8。
• Polishing Composition and Polishing Method Using the Same
  申请人：Mizuno Takahiro

  公开号：US20100301014A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A polishing composition contains a nitrogen-containing compound and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 7. The nitrogen-containing compound in the polishing composition preferably has a structure expressed by a formula: R 1 —N(—R 2 )—R 3 in which R 1 , R 2 , and R 3 each represent an alkyl group with or without a characteristic group, two of R 1 to R 3 may form a part of a heterocycle, and two of R 1 to R 3 may be identical and form a part of a heterocycle with the remaining one. Alternatively, the nitrogen-containing compound is preferably selected from a group consisting of a carboxybetaine type ampholytic surfactant, a sulfobetaine type ampholytic surfactant, an imidazoline type ampholytic surfactant, and an amine oxide type ampholytic surfactant. A polishing composition may contain a water-soluble polymer and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 8.