diphenyl(4-(3,3,3-trifluoropropanoyloxy)phenyl)sulfonium-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate | 1333493-51-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 英文名称: diphenyl(4-(3,3,3-trifluoropropanoyloxy)phenyl)sulfonium-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate
• 英文别名: Diphenyl(4-(3,3,3-trifluoropropanoyloxy)phenyl)sulfonium 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate；diphenyl-[4-(3,3,3-trifluoropropanoyloxy)phenyl]sulfanium;1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate
• CAS: 1333493-51-8
• 化学式: C₄F₉O₃S*C₂₁H₁₆F₃O₂S
• 分子量: 688.512
• InChiKey: FMBCAZNMBLQTIA-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.6
• 重原子数：
  44
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.24
• 拓扑面积：
  92.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  17

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  diphenyl(4-(3,3,3-trifluoropropanoyloxy)phenyl)sulfonium chloride 、 1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟丁烷-1-磺酸钠 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 diphenyl(4-(3,3,3-trifluoropropanoyloxy)phenyl)sulfonium-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN AND SULFONIUM COMPOUND

  摘要：

  一种辐射敏感的树脂组合物，包括一种由通式（1）表示的磺酸盐化合物和作为基础树脂的第一聚合物。其中，R代表由通式（2）表示的基团，n1到n3各自独立地表示0到5的整数，且n1+n2+n3≥1。X-表示阴离子。最好的磺酸盐化合物是由下列通式（1-1）表示的化合物。

  公开号：

  US20130045446A1

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN AND SULFONIUM COMPOUND
  申请人：SATO Mitsuo

  公开号：US20130045446A1

  公开（公告）日：2013-02-21

  A radiation-sensitive resin composition includes a sulfonium compound represented by a general formula (1), and a first polymer that serves as a base resin. R represents a group represented by a general formula (2). n 1 to n 3 each independently represent an integer of 0 to 5 and n 1 +n 2 +n 3 ≧1. X − represents an anion. The sulfonium compound is preferably a compound represented by a following general formula (1-1).

  一种辐射敏感的树脂组合物，包括一种由通式（1）表示的磺酸盐化合物和作为基础树脂的第一聚合物。其中，R代表由通式（2）表示的基团，n1到n3各自独立地表示0到5的整数，且n1+n2+n3≥1。X-表示阴离子。最好的磺酸盐化合物是由下列通式（1-1）表示的化合物。