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Phenol, 2,3-difluoro-6-iodo- | 186590-28-3

中文名称
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中文别名
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英文名称
Phenol, 2,3-difluoro-6-iodo-
英文别名
2,3-difluoro-6-iodophenol
Phenol, 2,3-difluoro-6-iodo-化学式
CAS
186590-28-3
化学式
C6H3F2IO
mdl
——
分子量
255.99
InChiKey
IQFGJCLJRAIXBK-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    174.2±35.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    2.162±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.4
  • 重原子数:
    10
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    20.2
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    3

文献信息

  • [EN] BROMODOMAIN INHIBITORS<br/>[FR] INHIBITEURS DE BROMODOMAINE
    申请人:ABBVIE INC
    公开号:WO2015085925A1
    公开(公告)日:2015-06-18
    The present invention provides for compounds of formula (I) wherein Rx, X, Y, Y1, L1, A1, A2, A3, A4, A5, A6, A7, and A8, have any of the values defined in the specification, and pharmaceutically acceptable salts thereof, that are useful as agents in the treatment of diseases and conditions, including inflammatory diseases, cancer, and AIDS. Also provided are pharmaceutical compositions comprised of one or more compounds of formula (I).
    本发明提供了一种具有以下式(I)的化合物,其中Rx、X、Y、Y1、L1、A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7和A8具有规范中定义的任何值,以及其药学上可接受的盐,这些化合物可用作治疗疾病和病况的药剂,包括炎症性疾病、癌症和艾滋病的药剂。还提供了由一种或多种式(I)化合物组成的药物组合物。
  • BROMODOMAIN INHIBITORS
    申请人:AbbVie Inc.
    公开号:EP3080132A1
    公开(公告)日:2016-10-19
  • RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US20210080828A1
    公开(公告)日:2021-03-18
    A resist composition comprising a base polymer and a salt is provided. The salt consisting of an anion derived from an iodized or brominated phenol and a cation derived from a 2,5,8,9-tetraaza-1-phosphabicyclo[3.3.3]undecane, biguanide or phosphazene compound. The resist composition exerts a high sensitizing effect and an acid diffusion suppressing effect, causes no film thickness loss after development, and is improved in resolution, LWR and CDU when a pattern is formed therefrom by lithography.
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