5-methoxy-2-naphthoyl chloride | 345995-27-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 5-methoxy-2-naphthoyl chloride
• 英文别名: 5-Methoxy-2-naphthalenecarbonyl chloride；5-methoxynaphthalene-2-carbonyl chloride
• CAS: 345995-27-9
• 化学式: C₁₂H₉ClO₂
• 分子量: 220.655
• InChiKey: SAWAWGBRKHQCGU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-methoxy-2-naphthoyl chloride 在 sodium azide 、 水 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 1.66h， 以61%的产率得到5-甲氧基-2-萘胺
  参考文献：
  名称：

  Indole derivatives for the treatment of depression and anxiety

  摘要：

  本发明提供了以下化合物的公式（I）：这些化合物对治疗抑郁症、焦虑症，并缓解因戒烟或部分戒烟引起的症状非常有用。

  公开号：

  US20040006229A1
• 作为产物：
  描述：

  5-甲氧基-2-萘甲酸 在 N,N-二甲基甲酰胺 草酰氯 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 0.75h， 生成 5-methoxy-2-naphthoyl chloride
  参考文献：
  名称：

  Indole derivatives for the treatment of depression and anxiety

  摘要：

  本发明提供了以下化合物的公式（I）：这些化合物对治疗抑郁症、焦虑症，并缓解因戒烟或部分戒烟引起的症状非常有用。

  公开号：

  US20040006229A1

文献信息

• Benzofuran derivatives
  申请人：——

  公开号：US20030232833A1

  公开（公告）日：2003-12-18

  The present invention provides compounds of formula (I) which are useful for treating depression, anxiety, and alleviating the symptoms caused by withdrawal or partial withdrawal from the use of tobacco or of nicotine. 1

  本发明提供了一种化合物，其化学式为（I），可用于治疗抑郁症、焦虑症，并缓解因戒烟或部分戒烟引起的症状。
• SULFONATE COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
  申请人：SAN-APRO LIMITED

  公开号：US20170233336A1

  公开（公告）日：2017-08-17

  Provided are: a non-ionic photoacid generator containing a sulfonate compound having a high photosensitivity to i lines, exhibiting excellent heat-resistance stability, and exhibiting excellent solubility in a hydrophobic material; and a resin composition for photolithography containing the same. The present invention is a sulfonate compound characterized by being represented by general formula (1). [In formula (1), R1 represents an aryl group having 6 to 18 carbon atoms or a heterocyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms. R2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms. R3 represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (in which some or all hydrogen atoms may be substituted with fluorine).]

  提供的是：一种非离子光酸发生剂，含有对i线具有高光敏度的磺酸化合物，表现出优异的耐热稳定性，并在疏水材料中表现出优异的溶解性；以及含有该化合物的光刻树脂组合物。本发明是一种磺酸化合物，其特征在于由通式（1）表示。[在式（1）中，R1表示具有6至18个碳原子的芳基基团或具有4至20个碳原子的杂环烃基团。R2表示氢原子，具有1至18个碳原子的烷基基团，具有2至18个碳原子的烯基基团，具有2至18个碳原子的炔基基团或具有6至18个碳原子的芳基基团。R3表示具有1至18个碳原子的烃基团（其中一些或全部氢原子可以被氟代替）。]
• SULFONATE COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, AND PHOTOLITHOGRAPHIC RESIN COMPOSITION
  申请人：San-Apro Ltd.

  公开号：EP3216783A1

  公开（公告）日：2017-09-13

  Provided are: a non-ionic photoacid generator containing a sulfonate compound having a high photosensitivity to i lines, exhibiting excellent heat-resistance stability, and exhibiting excellent solubility in a hydrophobic material; and a resin composition for photolithography containing the same. The present invention is a sulfonate compound characterized by being represented by general formula (1). [In formula (1), R1 represents an aryl group having 6 to 18 carbon atoms or a heterocyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms. R2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms. R3 represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (in which some or all hydrogen atoms may be substituted with fluorine).]

  本发明提供了：一种非离子型光酸发生器，该发生器含有对 i 线具有高光敏感性的磺酸盐化合物，具有优异的耐热稳定性，并且在疏水性材料中具有优异的溶解性；以及一种含有该磺酸盐化合物的光刻用树脂组合物。本发明是一种磺酸盐化合物，其特征在于由通式（1）表示。 式（1）中，R1 代表具有 6 至 18 个碳原子的芳基或具有 4 至 20 个碳原子的杂环烃基。R2 代表氢原子、具有 1 至 18 个碳原子的烷基、具有 2 至 18 个碳原子的烯基、具有 2 至 18 个碳原子的炔基或具有 6 至 18 个碳原子的芳基。R3 代表具有 1 至 18 个碳原子的烃基（其中部分或全部氢原子可被氟取代）。
• Sulfonate compound, photoacid generator, and resin composition for photolithography
  申请人：SAN-APRO LIMITED

  公开号：US10450266B2

  公开（公告）日：2019-10-22

  Provided are: a non-ionic photoacid generator containing a sulfonate compound having a high photosensitivity to i lines, exhibiting excellent heat-resistance stability, and exhibiting excellent solubility in a hydrophobic material; and a resin composition for photolithography containing the same. The present invention is a sulfonate compound characterized by being represented by general formula (1). [In formula (1), R1 represents an aryl group having 6 to 18 carbon atoms or a heterocyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms. R2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms. R3 represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (in which some or all hydrogen atoms may be substituted with fluorine).]

  本发明提供了：一种非离子型光酸发生器，该发生器含有对 i 线具有高光敏感性的磺酸盐化合物，具有优异的耐热稳定性，并且在疏水性材料中具有优异的溶解性；以及一种含有该磺酸盐化合物的光刻用树脂组合物。本发明是一种磺酸盐化合物，其特征在于由通式（1）表示。 式（1）中，R1 代表具有 6 至 18 个碳原子的芳基或具有 4 至 20 个碳原子的杂环烃基。R2 代表氢原子、具有 1 至 18 个碳原子的烷基、具有 2 至 18 个碳原子的烯基、具有 2 至 18 个碳原子的炔基或具有 6 至 18 个碳原子的芳基。R3 代表具有 1 至 18 个碳原子的烃基（其中部分或全部氢原子可被氟取代）。