申请人:CIBA-GEIGY AG
                            
                            
                                公开号:EP0473547A1
                            
                            
                                公开(公告)日:1992-03-04
                            
                            
Olefinisch ungesättigte Oniumsalze der Formeln I und II
 worin R₁ ein Wasserstoffatom oder Methyl und A eine direkte Bindung, Phenylen oder einen der folgenden Reste
 bedeuten, wobei n und o unabhängig voneinander je für eine Zahl von 1 bis 10 stehen, Y₁ für J oder S-R₂ und Y₂ für S-R₂ stehen, wobei R₂ ein C₁-C₄-Alkyl, unsubstituiertes oder C₁-C₄-alkylsubstituiertes Phenyl bedeutet, m für Null oder eine Zahl von 1 bis 10 und X für BF₄, PF₆, AsF₆, SbF₆, SbCl₆, FeCl₄, SnF₆, BiF₆, CF₃SO₃ oder SbF₅OH stehen, lassen sich mit einem olefinisch ungesättigten, eine säurelabile Gruppe enthaltenden Comonomer copolymerisieren und ergeben strahlungsempfindliche Copolymere, die direkt als Photoresists eingesetzt werden können.
                            式 I 和式 II 的烯烃不饱和鎓盐
 其中 R₁ 是氢原子或甲基,A 是直接键、亚苯基或下列基团之一
 其中 n 和 o 各自独立地为 1 至 10 的数字,Y₁ 是 J 或 S-₂,Y₂ 是 S-₂,其中 R₂ 是 C₁-C₄-烷基、未取代的或 C₁-C₄-烷基取代的苯基,m 是零或 1 至 10 的数字,X 是 BF₄、PF₆、AsF₆、SbF₆、SbCl₆、FeCl₄、SnF₆、BiF₆、CF₃SO₃或 SbF₅OH,可与烯烃不饱和苯基结合、与含有酸性基团的烯烃不饱和苯基结合,生成可直接用作光刻胶的辐射敏感共聚物。