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Pentadecyltrichlorosilane
Pentadecyltrichlorosilane | 60592-74-7
分子结构分类
有机化合物
-
有机金属化合物
-
有机类金属化合物
中文名称
——
中文别名
——
英文名称
Pentadecyltrichlorosilane
英文别名
trichloro(pentadecyl)silane
CAS
60592-74-7
化学式
C
15
H
31
Cl
3
Si
mdl
——
分子量
345.856
InChiKey
JUPFRFFJHFKOHE-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
物化性质
计算性质
ADMET
安全信息
SDS
制备方法与用途
上下游信息
反应信息
文献信息
表征谱图
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计算性质
辛醇/水分配系数(LogP):
7.73
重原子数:
19
可旋转键数:
13
环数:
0.0
sp3杂化的碳原子比例:
1.0
拓扑面积:
0
氢给体数:
0
氢受体数:
0
反应信息
作为产物:
描述:
1-十五碳烯
在 dihydrogen hexachloroplatinate 、
三氯硅烷
作用下, 以
四氢呋喃
为溶剂, 反应 43.0h, 以62%的产率得到Pentadecyltrichlorosilane
参考文献:
名称:
硅上烷基硅氧烷自组装单层的结构:椭圆偏光法和低角度 X 射线反射率结果的比较
摘要:
硅-二氧化硅基材上的 C10-C18 烷基硅氧烷单层的厚度已用椭圆光度法和低角 X 射线反射测量。尽管对于任何给定的样品,通过两种方法测量的厚度都在实验误差范围内,但椭偏测量系统地大了大约 2 {埃}。这种差异可能是由于两种技术对二氧化硅和烷基硅氧烷单层之间界面结构的敏感性不同造成的。X 射线反射率测量提供的证据表明这些有机单层不会形成岛状结构,并证明单层平面中每个烷基的投影面积约为 {大约} 21 {加减} 3 {埃} sup 2}。初步研究表明,该技术可用于跟踪由化学转化引起的单层结构的变化。讨论了由 X 射线辐射引起的损坏对这些测量的影响。
DOI:
10.1021/ja00197a054
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