manganese bis(N,N’-diisopropylacetamidinate) | 635680-45-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: manganese bis(N,N’-diisopropylacetamidinate)
• 英文别名: manganese bis(N,N'-diisopropylacetamidinate)；[Mn2(μ-(i)Pr-MeAMD)2(η2-(i)Pr-MeAMD)2]；manganese(2+);(C-methyl-N-propan-2-ylcarbonimidoyl)-propan-2-ylazanide
• CAS: 635680-45-4
• 化学式: C₃₂H₆₈Mn₂N₈
• 分子量: 674.822
• InChiKey: VAYNDZOKJSIRFJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  None
• 重原子数：
  None
• 可旋转键数：
  None
• 环数：
  None
• sp3杂化的碳原子比例：
  None
• 拓扑面积：
  None
• 氢给体数：
  None
• 氢受体数：
  None

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  N,N'-二异丙基碳二亚胺 生成 manganese bis(N,N’-diisopropylacetamidinate)
  参考文献：
  名称：

  在 1-丁基-3-甲基咪唑鎓离子液体和碳酸丙烯酯中由金属脒酸盐前体合成金属纳米颗粒和金属氟化物纳米颗粒。

  摘要：

  过渡金属脒盐的分解 [M{MeC(Ni Pr ) 2 } n ] [M(AMD) n ; M=Mn II、Fe II、Co II、Ni II，n= 2；Cu I , n= 1) 在离子液体 (IL) 1-丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸盐 ([BMIm][BF 4 ])、1-丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸盐 ([BMIm][PF) 中通过微波加热诱导6 ])、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸盐（三氟甲磺酸盐）([BMIm][TfO]) 和 1-丁基-3-甲基咪唑鎓甲苯磺酸盐 ([BMIm][Tos]) 或在碳酸亚丙酯 (PC) 中产生过渡非氟介质中的金属纳米颗粒 (M-NPs)（例如 [BMIm][Tos] 和 PC）或 [ BMIm][BF 4中的 M=Mn、Fe 和 Co 的金属氟化物纳米颗粒 (MF 2 ‐NPs) ]。FeF 2 ‐NPs 可以通过 Fe(AMD) 2分解在[BMIm][BF

  DOI：

  10.1002/open.201600105

文献信息

• Synthesis and Characterization of Volatile, Thermally Stable, Reactive Transition Metal Amidinates
  作者：Booyong S. Lim、Antti Rahtu、Jin-Seong Park、Roy G. Gordon

  DOI：10.1021/ic0345424

  日期：2003.12.1

  A series of homoleptic metal amidinates of the general type [M(R-R'AMD)(n)](x) (R = (i)Pr, (t)Bu, R' = Me, (t)Bu) has been prepared and structurally characterized for the transition metals Ti, V, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Ag, and La. In oxidation state 3, monomeric structures were found for the metals Ti(III), V(III), and La(III). Bridging structures were observed for the metals in oxidation state 1. Cu(I)

  一系列一般类型的[M（R-R'AMD）（n）]（x）（R =（i）Pr，（t）Bu，R'= Me，（t）Bu）制备了过渡金属Ti，V，Mn，Fe，Co，Ni，Cu，Ag和La，并对其结构进行了表征。在氧化态3下，发现了金属Ti（III），V（III）的单体结构，和La（III）。观察到处于氧化态1的金属的桥连结构。Cu（I）和Ag（I）保持在桥接的二聚体中，Ag（I）也形成了与二聚体共结晶的三聚体。处于氧化态2的金属以单体或二聚体形式出现。离子半径较小的金属（Co，Ni）是单体金属。较大的金属（Fe，Mn）仅与较大的叔丁基取代的mid基化物形成单体结构，而较小的异丙基取代的mid基化物形成二聚体。发现这些新化合物具有非常适合用作薄膜原子层沉积（ALD）的前体的性能。它们具有高挥发性，高热稳定性，并且与分子氢，沉积纯金属或水蒸气，沉积金属氧化物具有高且适当的自限反应性。
• Solution Layer Deposition: A Technique for the Growth of Ultra-Pure Manganese Oxides on Silica at Room Temperature
  作者：Jérémy Cure、Kilian Piettre、Yannick Coppel、Eric Beche、Jérôme Esvan、Vincent Collière、Bruno Chaudret、Pierre Fau

  DOI：10.1002/anie.201509715

  日期：2016.2.24

  named Solution Layer Deposition (SLD). The growth of a pure manganese oxide film by SLD takes place through the decoordination of ligands from a metal–organic complex in mild conditions, and coordination of the resulting metal atoms on a silica surface. The mechanism of this chemical liquid route has been elucidated by solid‐state 29Si MAS NMR, XPS, SIMS, and HRTEM.

  随着微电子器件的日益小型化，需要新的沉积技术来形成高纯度的金属氧化物层。在本文中，我们报告了一种液体途径，可以在硅基板上专门生产薄且保形的非晶态氧化锰层，该层可以转化为硅酸锰层。通过称为溶液层沉积（SLD）的溶液金属有机化学方法，可以避免不希望的碳插入功能层。SLD可以使纯锰氧化物膜生长，这是通过在温和条件下使配体与金属-有机配合物解配位，以及使二氧化硅表面上的金属原子配位而实现的。固态已阐明了这种化学液体路径的机理29Si MAS NMR，XPS，SIMS和HRTEM。