摘要 合成了三种新型Bn 保护的三环多(脲)分子,并通过 1 H NMR、 13 C NMR、FT-IR 和元素分析对其进行了表征。通过X射线单晶衍射分析进一步表征了Bn保护的三环三(脲)和双(脲)分子的结构,表明脲羰基对分子构象和化学反应性有很大影响。通过B3LYP/6-311G(d,p)方法研究了所得晶体结构电子密度等值面上的静电势,并进行了Hirshfeld表面分析,以识别和量化晶体中的相互作用性质和比例。
申请人:AGENCY FOR DEFENSE DEVELOPMENT 국방과학연구소(319980058262) BRN ▼314-83-03869
公开号:KR101553876B1
公开(公告)日:2015-09-17
본 발명은 신규 분자화약의 주요 골격구조로 사용될 수 있는 하기 화학식 (I)로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물 및 이의 제조방법에 관한 것이다: [화학식 I] 상기 식 중, R은 H, 산소, 질소, 황, 할로겐 등의 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 아릴알킬 또는 아릴이고; X는 H2, O 또는 S이다.