2-Chloroethyl methyl (2-chloroethyl)phosphonate | 62516-52-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机膦酸及其衍生物
• 英文名称: 2-Chloroethyl methyl (2-chloroethyl)phosphonate
• 英文别名: 1-chloro-2-[2-chloroethyl(methoxy)phosphoryl]oxyethane
• CAS: 62516-52-3
• 化学式: C₅H₁₁Cl₂O₃P
• 分子量: 221.02
• InChiKey: MLKVNTJKBMCICU-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  279.5±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.294±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.7
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Chloroethyl methyl (2-chloroethyl)phosphonate 在 三乙胺 作用下， 生成 Vinyl-phosphonsaeure-methylester-(2-chlor-ethylester)
  参考文献：
  名称：

  Gloede,J. et al., Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1976, vol. 318, p. 1043 - 1046

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  甲醇 、 O-(β-chloroethyl)-β-chloroethylphosphonyl chloride 生成 2-Chloroethyl methyl (2-chloroethyl)phosphonate
  参考文献：
  名称：

  Gloede,J. et al., Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1976, vol. 318, p. 1043 - 1046

  摘要：

  DOI：

文献信息

• SELECTIVE REMOVAL CHEMISTRIES FOR SEMICONDUCTOR APPLICATIONS, METHODS OF PRODUCTION AND USES THEREOF
  申请人：Honeywell International Inc.

  公开号：EP1824945A1

  公开（公告）日：2007-08-29
• EP1824945A4
  申请人：——

  公开号：EP1824945A4

  公开（公告）日：2008-08-06
• Selective removal chemistries for semiconductor applications, methods of production and uses thereof
  申请人：Yellowaga L. Deborah

  公开号：US20060255315A1

  公开（公告）日：2006-11-16

  Removal chemistry solutions and methods of production thereof are described herein that include at least one fluorine-based constituent, at least one chelating component, surfactant component, oxidizing component or combination thereof, and at least one solvent or solvent mixture. Removal chemistry solutions and methods of production thereof are also described herein that include at least one low H 2 O content fluorine-based constituent and at least one solvent or solvent mixture.
• [EN] SELECTIVE REMOVAL CHEMISTRIES FOR SEMICONDUCTOR APPLICATIONS, METHODS OF PRODUCTION AND USES THEREOF<br/>[FR] PRODUITS CHIMIQUES POUR ENLÈVEMENT SÉLECTIF POUR APPLICATIONS SEMI-CONDUCTRICES, PROCÉDÉS DE FABRICATION ET UTILISATIONS IDOINES
  申请人：HONEYWELL INT INC

  公开号：WO2006054996A1

  公开（公告）日：2006-05-26

  [EN] Removal chemistry solutions are described herein that include at least one low H₂O content fluorine-based constituent and at least one solvent or solvent mixture. Removal chemistry solutions also include: hydrogen fluoride gas, and at least one solvent or solvent mixture. Methods are described herein for producing removal chemistry solutions that include providing at least one gaseous low H₂O content fluorine-based constituent, providing at least one solvent or solvent mixture, and bubbling the at least one low H₂O content fluorine-based constituent into the at least one solvent or solvent mixture to form the removal chemistry solution. Methods for producing removal chemistry solutions are also described that include: providing at least one low H₂O content fluorine-based constituent, providing at least one solvent or solvent mixture, and blending the at least one low H₂O content fluorine-based constituent into the at least one solvent or solvent mixture to form the removal chemistry solution. Additional methods of forming a removal chemistry solution include: providing at least one gaseous anhydrous fluorine-based constituent, providing at least one solvent or solvent mixture, and bubbling the at least one anhydrous fluorine-based constituent into the at least one solvent or solvent mixture to form the solution. Also, methods of forming a removal chemistry solution, as described herein include: providing hydrogen fluoride gas, providing at least one solvent or solvent mixture, and bubbling the hydrogen fluoride gas into the at least one solvent or solvent mixture to form the solution.
  [FR] L'invention décrit ici des solutions chimiques d'élimination, comprenant au moins un constituant à base de fluor à faible teneur en H₂O et au moins un solvant ou un mélange de solvants. Des solutions chimiques d'élimination englobent également : du gaz de fluorure d'hydrogène, et au moins un solvant ou un mélange de solvants. L'invention décrit des procédés de fabrication de solutions chimiques d'élimination consistant à fournir au moins un constituant à base de fluor à faible teneur en H₂O gazeux, à fournir au moins un solvant ou un mélange de solvants, et à buller l'au moins un constituant à base de fluor à faible teneur en H₂O dans l'au moins un solvant ou mélange de solvants pour constituer la solution d'élimination de produits chimiques. Elle concerne des procédés de fabrication de solutions d'élimination de produits chimiques consistant : à fournir l'au moins un constituant à base de fluor à faible teneur en H₂O, à fournir au moins un solvant ou un mélange de solvants et à mélanger l'au moins un constituant à base de fluor à faible teneur en H₂O dans au moins un solvant ou mélange de solvants pour constituer la solution d'élimination de produits chimiques. Des procédés supplémentaires de préparation d'une solution d'élimination de produits chimiques consistent : à fournir au moins un constituant à base de fluor anhydre gazeux, à fournir au moins un solvant ou un mélange de solvants, et à buller l'au moins un constituant à base de fluor anhydre dans l'au moins un solvant ou mélange de solvants pour constituer la solution. De même, l'invention porte sur des procédés de fabrication d'une solution d'élimination de produits chimiques consistant : à fournir du gaz de fluorure d'hydrogène, à fournir au moins un solvant ou un mélange de solvants, et à buller le gaz de fluorure d'hydrogène dans l'au moins un solvant ou mélange de solvants pour constituer la solution.
• [EN] SELECTIVE REMOVAL CHEMISTRIES FOR SEMICONDUCTOR APPLICATIONS, METHODS OF PRODUCTION AND USES THEREOF<br/>[FR] PRODUITS CHIMIQUES D'ÉLIMINATION SÉLECTIVE POUR APPLICATIONS DANS LE DOMAINE DES SEMI-CONDUCTEURS, PROCÉDÉS DE PRODUCTION ET UTILISATIONS DE CEUX-CI
  申请人：HONEYWELL INT INC

  公开号：WO2007095101A2

  公开（公告）日：2007-08-23

  [EN] Removal chemistry solutions and methods of production thereof are described herein that include at least one fluorine-based constituent, at least one chelating component, surfactant component, oxidizing component or combination thereof, and at least one solvent or solvent mixture. Removal chemistry solutions and methods of production thereof are also described herein that include at least one low H2O content fluorine-based constituent and at least one solvent or solvent mixture.
  [FR] L'invention concerne des solutions chimiques d'élimination et des procédés de production de celles-ci. Lesdites solutions comprennent au moins un composant à base de fluor, au moins un composant chélateur, un tensioactif, un composant oxydant ou une combinaison de ceux-ci, et au moins un solvant ou un mélange de solvants. L'invention concerne également des solutions chimiques d'élimination et des procédés de production de celles-ci, lesdites solutions comprenant au moins un composant à base de fluor à faible teneur en eau et au moins un solvant ou un mélange de solvants.