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4-(2-aminoethylamino)butanol | 137020-06-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-(2-aminoethylamino)butanol
英文别名
1-Butanol, 4-[(2-aminoethyl)amino]-;4-(2-aminoethylamino)butan-1-ol
4-(2-aminoethylamino)butanol化学式
CAS
137020-06-5
化学式
C6H16N2O
mdl
——
分子量
132.206
InChiKey
BREALZQYMJKZGJ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    253.8±20.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    0.960±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -1.1
  • 重原子数:
    9
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    58.3
  • 氢给体数:
    3
  • 氢受体数:
    3

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    4-(2-aminoethylamino)butanol月桂酸乙酯正己烷 为溶剂, 以66.7%的产率得到1-(4-Hydroxybutyl)-2-undecyl-2-imidazoline
    参考文献:
    名称:
    Compositions and method comprising heterocyclic compounds containing two
    摘要:
    一种用于增强人类和动物皮肤和黏膜对经皮设备或制剂中局部或全身使用的局部应用生理活性药物的吸收的方法和组合物,包括治疗有效量的药用活性剂和公式I的非毒性、有效量的渗透增强剂:##STR1## 其中R是具有1至19个碳原子的饱和或不饱和、直链或支链、环状或非环状的烃基,烷氧基烷基,卤代烷基,特别是三氟甲基,烷氧基,氨基,烷基氨基和酰氨基;R'和R"是氢,烷基,三氟甲基,烷氧基烷基,氨基烷基,烷基和酰氨基烷基,羧基,羧酸烷氧基,羟基烷基或其较低烷基酯;X是O或NR.sub.1,其中R.sub.1是氢,烷基,烯烃基,烷氧基烷基,羧酸烷氧基烷基,氨基烷基,烷基和酰氨基烷基,羟基烷基或羟基烷氧基烷基及其较低烷基酯;n为2或3。
    公开号:
    US05030629A1
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文献信息

  • Amphotere oberflächenaktive Aminoetherverbindungen und Verfahren zu ihrer Herstellung
    申请人:Henkel Kommanditgesellschaft auf Aktien
    公开号:EP0005446A1
    公开(公告)日:1979-11-28
    Ein Gemisch aus amphoteren, oberflächenaktiven Aminoetherverbindungen wird dadurch erhalten, daß man einen Glycidylether der Formel in der R' einen primären C8-22-Fettalkoholrest, einen primären ungesättigten C12-22-Fettalkoholrest oder einen in 2-Stellung verzweigten C10-36-Guerbetalkoholalkylrest, R2 ein Wasserstoffatom oder einen Methylrest und p eine ganze Zahl von 0 - 3 bedeuten, mit einem im Überschuß vorhandenen N-Hydroxy-C2-4-alkyl-C2-6-alkylendiamin umsetzt, den Diaminüberschuß entfernt und den erhaltenen Aminoether mit einer Halogen-C2-4-alkancarbonsäure, einer Halogen-C2-4-alkansulfonsäure oder einer Halogenhydroxy-C3-4- alkansulfonsäure unter alkalischen Bedingungen umsetzt Die neuen oberflächenaktiven Aminoetherverbindungen eignen sich insbesondere als Haarshampookomponente; sie zeichnen sich durch besondere Hydrolysestabilität und starke hydrophile Eigenschaften aus.
    一种两性表面活性氨基醚化合物的混合物是由式如下的缩水甘油醚反应得到的 其中 R'是伯羟基 C8-22 脂肪醇基、伯羟基不饱和 C12-22 脂肪醇基或在 2 位支化的 C10-36 格尔伯特醇烷基,R2 是氢原子或甲基,p 是 0-3 的整数,与过量的 N-羟基-C2-4-烷基-C2-6-烷基二胺反应、除去过量的二胺,然后在碱性条件下将得到的氨基醚与卤代-C2-4-烷基羧酸、卤代-C2-4-烷基磺酸或卤代羟基-C3-4-烷基磺酸反应。 这种新型表面活性氨基醚化合物特别适合用作洗发水成分;它们具有特别的水解稳定性和较强的亲水性。
  • Salt free phosphobetaines
    申请人:MONA INDUSTRIES, INC.
    公开号:EP0131908A2
    公开(公告)日:1985-01-23
    New phosphobetaine compounds of the formula Wherein A is selected from OH, OM and OYR B is selected from OH and OM R is an imidazoline reactant moiety of the formula Wherein R3 is alkyl, alkenyl, alkoxy, hydroxyalkyl or hydroxyalkenyl of 2 to 20 carbon atoms each or R3 is aryl or akylaryl or cycloaliphatic of up to 20 carbon atoms each. R, and R2 are individually selected from hydrogen, propionic acid, propionitrile, propionamide, propionate esters of C1-C12 alkyl, alkylaryl or alkylcycloaliphatic or alkali metal or alkaline earth metal salts or amine salts of propionic acid with the proviso that when R, is hydrogen R2 must be a propionate derivative. Y is alkylene of 2 to 12 carbon atoms optionally interrupted by up to 3 oxygen atoms. M is hydrogen, alkali metal, alkaline earth metal, amine or RY are highly stable and posses interesting properties as surfactants and hydrotropes.
    式中的新型磷脂酰基化合物 其中 A 选自 OH、OM 和 OYR B 选自 OH 和 OM R 是式中的咪唑啉反应物分子 其中 R3 是碳原子数分别为 2 至 20 的烷基、烯基、烷氧基、羟基烷基或羟基烯基,或者 R3 是碳原子数分别不超过 20 的芳基、烷芳基或环脂族。 R 和 R2 分别选自氢、丙酸、丙腈、丙酰胺、C1-C12 烷基、烷芳基或环脂族烷基的丙酸酯或丙酸的碱金属盐或碱土金属盐或胺盐,但当 R 为氢时,R2 必须是丙酸酯衍生物。 Y 是 2 至 12 个碳原子的亚烷基,可选择被最多 3 个氧原子打断。 M 为氢、碱金属、碱土金属、胺或 RY 具有高度稳定性,并具有作为表面活性剂和氢化剂的有趣特性。
  • Composition for film formation, method of film formation, and insulating film
    申请人:JSR Corporation
    公开号:EP1088868A2
    公开(公告)日:2001-04-04
    A polyorganosiloxane-based composition for film formation which gives a film having low dielectric constant and high modulus of elasticity and useful as an interlayer insulating film in semiconductor devices and the like. The composition for film formation comprises: (A) a product of hydrolysis and condensation obtained by hydrolyzing and condensing, in the presence of an alkali catalyst, at least one member selected from the group consisting of compounds (1) represented by RaSi(OR1)4-a (wherein R represents hydrogen, fluorine, or a monovalent organic group; R1 represents a monovalent organic group; and a Is an integer of 1 or 2), compounds (2) represented by Si(OR2)4 (wherein R2 represents a monovalent organic group), and compounds (3) represented by R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c [wherein R3 to R6 may be the same or different and each represent a monovalent organic group; b and c may be the same or different and each are an integer of 0 to 2; R7 represents oxygen, phenylene, or a group represented by -(CH2)n-, wherein n is an integer of 1 to 6; and d is 0 or 1]; and (B) a product of hydrolysis and condensation obtained by hydrolyzing and condensing, in the presence of a metal chelate compound catalyst, at least one member selected from the group consisting of the compounds (1), (2), and (3).
    一种用于成膜的聚有机硅氧烷基组合物,可生成具有低介电常数和高弹性模量的薄膜,可用作半导体器件等的层间绝缘膜。 成膜组合物包括(A) 通过在碱催化剂存在下水解和缩合得到的水解和缩合产物,该产物至少有一个成员选 自由 RaSi(OR1)4-a(其中 R 代表氢、氟或一价有机基团;R1 代表一价有机基团;且 a 是 1 或 2 的整数)、由 Si(OR2)4(其中 R2 代表一价有机基团)代表的化合物 (2) 以及由 R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c 代表的化合物 (3) [其中 R3 至 R6 可以相同或不同,且各自代表一价有机基团;b和c可以相同或不同,且各自为0至2的整数;R7代表氧、亚苯基或由-(CH2)n-代表的基团,其中n为1至6的整数;d为0或1];以及 (B) 在金属螯合物催化剂存在下,通过水解和缩合得到的至少一种水解和缩合产物,该产物选自由化合物(1)、(2)和(3)组成的组。
  • Composition for film formation, method of film formation, and silica-based film
    申请人:JSR Corporation
    公开号:EP1127929A2
    公开(公告)日:2001-08-29
    A composition for film formation which is capable of giving a silica-based coating film having an exceeding low dielectric constant and improved mechanical strength and useful as an interlayer insulating film in semiconductor devices and the like, a process for producing the composition, and a silica-based film obtained from the composition. The composition comprises (A) a product of hydrolysis and condensation obtained by hydrolyzing and condensing one or more silane compounds, and (B) an organic solvent.
    一种用于成膜的组合物,该组合物能够生成具有超低介电常数和更高机械强度的硅基涂膜,并可用作半导体器件等的层间绝缘膜;一种生产该组合物的工艺;以及一种由该组合物生成的硅基涂膜。该组合物包括 (A) 通过水解和缩合一种或多种硅烷化合物而得到的水解和缩合产物,以及 (B) 有机溶剂。
  • COMPOSITION FOR FORMING INSULATING FILM, METHOD FOR PRODUCING SAME, SILICA INSULATING FILM AND METHOD FOR FORMING SAME
    申请人:JSR Corporation
    公开号:EP1705208A1
    公开(公告)日:2006-09-27
    An insulating-film-forming composition of the invention includes: a hydrolysis-condensation product obtained by hydrolyzing and condensing a hydrolyzable-group-containing silane monomer (A) in the presence of a polycarbosilane (B) and a basic catalyst (C); and an organic solvent.
    本发明的绝缘成膜组合物包括:在聚碳硅烷(B)和碱性催化剂(C)存在下,通过水解和缩合含可水解基团的硅烷单体(A)而得到的水解缩合产物;以及有机溶剂。
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