piperidinium tosylate | 14034-66-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 哌啶类
• 英文名称: piperidinium tosylate
• 英文别名: piperidine; toluene-4-sulfonate；Piperidin; Toluol-4-sulfonat；piperidinium toluene-4-sulfonate；p-Toluenesulfonate piperidinium；4-methylbenzenesulfonate;piperidin-1-ium
• CAS: 14034-66-3
• 化学式: C₅H₁₁N*C₇H₈O₃S
• 分子量: 257.354
• InChiKey: ZHBMGKRWRNEMOQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  130 °C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.0
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  74.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 海关编码：
  2933399090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  piperidinium tosylate 在 三聚氯氰 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 0.5h， 生成 对甲苯磺酰氯
  参考文献：
  名称：

  使用氰尿酰氯从伯胺和仲胺衍生的磺酸盐一锅法合成磺酰胺

  摘要：

  描述了一种方便，温和且有效的一锅合成新磺酰胺的方法。在室温下，在氰尿酰氯，三乙胺为碱和无水乙腈为溶剂的情况下，伯胺或仲胺衍生的磺酸盐的反应以良好或优异的收率得到相应的磺酰胺。 一锅反应-磺酰胺-胺磺酸盐-氰尿酰氯-三乙胺

  DOI：

  10.1055/s-0029-1217020
• 作为产物：
  描述：

  哌啶 、 对甲苯磺酸 以 丙酮 为溶剂， 反应 0.5h， 以97%的产率得到piperidinium tosylate
  参考文献：
  名称：

  2,2,6,6-三甲基四氟甲基哌啶鎓（TMPT）：一种高度选择性和自分离的酯化催化剂

  摘要：

  发现一种环保且易于获得的三氟甲磺酸2,2,6,6-四甲基哌啶鎓是在无溶剂条件下酯化的高选择性和自分离催化剂。X射线晶体学显示它形成了一个“疏水壁”，可以有效地消除反应位点产生的水。而且，它可以以优异的回收率（> 99％）从反应体系中沉淀出来，可以重复使用十次而活性没有任何显着损失。

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2016.09.061

文献信息

• Substituted benzopyranones as telomerase inhibitors
  申请人：——

  公开号：US20020160983A1

  公开（公告）日：2002-10-31

  The present invention relates to benzopyranone derivatives, to methods for treating telomerase-modulated diseases, in particular cancers, with said derivatives, to a process for their preparation, to their use as medicaments and to pharmaceutical compositions comprising them.

  本发明涉及苯并吡喃酮衍生物，涉及使用所述衍生物治疗端粒酶调节疾病的方法，特别是癌症，涉及它们的制备过程，它们作为药物的使用，以及包含它们的药物组合物。
• [EN] PHARMACEUTICALLY ACCEPTABLE SALTS OF 2-{4-[(3S)-PIPERIDIN-3- YL]PHENYL} -2H-INDAZOLE-7-CARBOXAMIDE<br/>[FR] SELS PHARMACEUTIQUEMENT ACCEPTABLES DE 2-{4-[(35)-PIPÉRIDIN-3-YL]PHÉNYL)-2H-INDAZOLE-7-CARBOXAMIDE
  申请人：MERCK SHARP & DOHME

  公开号：WO2009087381A1

  公开（公告）日：2009-07-16

  The present invention relates to pharmaceutically acceptable salts of an amide substituted indazole which are inhibitors of the enzyme poly(ADP-ribose)polymerase (PARP), previously known as poly(ADP-ribose)synthase and poly(ADP-ribosyl)transferase. The compounds of the present invention are useful as mono-therapies in tumors with specific defects in DNA-repair pathways and as enhancers of certain DNA -damaging agents such as anticancer agents and radiotherapy. Further, the compounds of the present invention are useful for reducing cell necrosis (in stroke and myocardial infarction), down regulating inflammation and tissue injury, treating retroviral infections and protecting against the toxicity of chemotherapy.

  本发明涉及一种酰胺取代吲唑的药用可接受盐，它们是酶聚(ADP-核糖)聚合酶（PARP）的抑制剂，此前被称为聚(ADP-核糖)合酶和聚(ADP-核糖)转移酶。本发明的化合物可用作特定DNA修复途径缺陷肿瘤的单独治疗，以及作为某些DNA损伤剂（如抗癌剂和放疗）的增效剂。此外，本发明的化合物可用于减少细胞坏死（在中风和心肌梗死中）、下调炎症和组织损伤、治疗逆转录病毒感染以及保护免受化疗毒性的影响。
• Photoacid generators and photoresists comprising same
  申请人：Shipley Company, L.L.C.

  公开号：US20020009663A1

  公开（公告）日：2002-01-24

  New photoacid generator compounds (“PAGs”) are provided and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, non-ionic substituted disulfone compounds PAGS are provided, including disulfone PAGs that contain a diazo, substituted methylene or hydrazine moiety interposed between substituted sulfone groups. Also provided are positive- and negative-acting chemically amplified resists that contain such PAGs and that are preferably imaged with sub-300 nm or sub-200 nm radiation such as 248 nm, 193 nm, or 157 nm radiation.

  提供了新的光酸发生剂化合物（“PAGs”），以及包含这些化合物的光刻胶组合物。具体提供了非离子取代二砜化合物PAGS，包括含有二硫代磺酰基团之间的重氮基团、取代亚甲基或肼基团的二砜PAGs。还提供了包含这些PAGs的正向和负向化学增感光刻胶，最好使用小于300纳米或小于200纳米的辐射进行成像，例如248纳米、193纳米或157纳米辐射。
• Base reactive photoacid generators and photoresists comprising same
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：EP2452932A2

  公开（公告）日：2012-05-16

  This invention relates to new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, the invention relates to photoacid generator compounds that comprise base-cleavable groups.

  本发明涉及新的光酸发生剂化合物和包含这种化合物的光刻胶组合物。具体而言，本发明涉及包含可基裂解基团的光酸发生剂化合物。
• Lactone photoacid generators and resins and photoresists comprising same
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：EP2452941A1

  公开（公告）日：2012-05-16

  New lactone-containing photoacid generator compounds ("PAGs") and photoresist compositions that comprise such PAG compounds are provided. These photoresist compositions are useful in the manufacture of electronic devices

  提供了含有新的内酯类光酸发生剂化合物（“PAGs”）和包含这种PAG化合物的光刻胶组合物。这些光刻胶组合物在电子器件的制造中有用。