申请人:BASF Aktiengesellschaft
公开号:US05101053A1
公开(公告)日:1992-03-31
Radiation sensitive sulfonium salts which contain (1) a sulfonium initiator portion, (2) a spacer portion, and (3) a reactive group portion. The spacer portion has the formula "-o-w- x-z-" wherein "w" is a single bond or one of --C(O)--, --C(O)O--, --C(O)S--, --C(O)NH-- --C(O)N(alkyl)--, --C(S)--, --C(S)S--,--S(O)--, --S(O)(O)--, or --S(O)(O)O--; "X" is an unsubstituted or substituted alkylene radical; and "Z" is --O--, --NH--, --N(C,--C.sub.6 -alkyl)--, or --N(phenyl)--. The reactive group portion is --CH.dbd.CH.sub.2 or --C(O)--C(Y).dbd.CH.sub.2 wherein "Y" is H, C.sub.1 -.sub.6 -alkyl, or phenyl. The sulfonium salts find use in curing monomers which can be subjected to cationic polymerization.
含有辐射敏感性硫鎓盐的化合物,包括(1)硫鎓引发剂部分,(2)间隔部分,和(3)反应基团部分。其中间隔部分的式子为“-o-w-x-z-”,其中"w"是单键或者是--C(O)--、--C(O)O--、--C(O)S--、--C(O)NH--、--C(O)N(烷基)--、--C(S)--、--C(S)S--、--S(O)--、--S(O)(O)--或者--S(O)(O)O--之一;"X"是未置换或置换的烷基亚基;"Z"是--O--、--NH--、--N(C,--C.sub.6 -烷基)--或者--N(苯基)--之一。反应基团部分为--CH.dbd.CH.sub.2或者--C(O)--C(Y).dbd.CH.sub.2,其中"Y"是H、C.sub.1-.sub.6-烷基或者苯基。这些硫鎓盐可用于固化可以进行阳离子聚合的单体。