9-Methylene-7-oxa-1-thiaspiro<4.5>decan-8-one | 73321-78-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 噻烷
• 英文名称: 9-Methylene-7-oxa-1-thiaspiro<4.5>decan-8-one
• 英文别名: 3-methylene-1-oxa-8-thiaspiro<4.5>decan-2-one；3-Methylene-1-oxa-8-thiaspiro[4.5]decan-2-one；3-methylidene-1-oxa-8-thiaspiro[4.5]decan-2-one
• CAS: 73321-78-5
• 化学式: C₉H₁₂O₂S
• 分子量: 184.259
• InChiKey: GESUDRQDCQVZQB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  51.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  四氢噻喃-4-酮 、 2-溴甲基丙烯酸乙酯 在 硫酸 、 锌 作用下， 生成 9-Methylene-7-oxa-1-thiaspiro<4.5>decan-8-one
  参考文献：
  名称：

  Synthesis and stereochemistry of thiaspiro-.alpha.-methylene-.gamma.-butyrolactones. Single-crystal x-ray diffraction analysis of 2,2,6,6-tetramethyl-9-methylene-7-oxa-1-thiaspiro[4.5]decan-8-one

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00334a037

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYMER AND COMPOUND
  申请人：JSR Corporation

  公开号：US20130216951A1

  公开（公告）日：2013-08-22

  A radiation-sensitive resin composition includes a polymer, an acid generating agent, and an organic solvent. The polymer includes a first structural unit derived from a compound represented by a formula (1), and a second structural unit derived from a compound represented by a formula (2). R 1 represents an organic group having a valency of (a+2) that represents a ring structure having 3 to 8 carbon atoms together with the carbon atom constituting a lactone ring. R 2 represents a fluorine atom, a hydroxyl group, an organic group having 1 to 20 carbon atoms or the like.

  一种辐射敏感的树脂组合物，包括聚合物、产生酸的剂和有机溶剂。聚合物包括从公式（1）表示的化合物衍生的第一结构单元和从公式（2）表示的化合物衍生的第二结构单元。R1代表具有价数为（a+2）的有机基团，该有机基团与构成内酯环的碳原子一起形成具有3到8个碳原子的环结构。R2代表氟原子、羟基、具有1到20个碳原子的有机基团或类似物。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYMER, AND COMPOUND
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP2623558A1

  公开（公告）日：2013-08-07

  A radiation-sensitive resin composition includes: a polymer having a first structural unit derived from a compound represented by a formula (1), and a second structural unit derived from a compound represented by a formula (2); an acid generator; and an organic solvent. In the formula (1), R1 represents a ring structure having 3 to 8 carbon atoms taken together with a carbon atom constituting a lactone ring; R2 represents a fluorine atom, a hydroxyl group or an organic group having 1 to 20 carbon atoms; and a is an integer of 0 to 6. In a case where a is 2 or greater, a plurality of R2s are identical or different, or represent a ring structure taken together with each other. At least one group of R1 and R2 has a hetero atom or a halogen atom.

  一种辐射敏感树脂组合物包括：一种聚合物，其第一结构单元由式（1）表示的化合物衍生而来，第二结构单元由式（2）表示的化合物衍生而来；一种酸发生器；以及一种有机溶剂。在式 (1) 中，R1 代表具有 3 至 8 个碳原子的环结构，与一个碳原子一起构成内酯环；R2 代表氟原子、羟基或具有 1 至 20 个碳原子的有机基团；a 为 0 至 6 的整数。在 a 为 2 或更大的情况下，多个 R2 相同或不同，或彼此代表一个环结构。R1 和 R2 中至少有一个基团具有杂原子或卤原子。
• Satyamurthy, Nagichettiar; Berlin, K. Darrell; Powell, Douglas R., Phosphorus and Sulfur and the Related Elements, 1984, vol. 19, p. 137 - 154
  作者：Satyamurthy, Nagichettiar、Berlin, K. Darrell、Powell, Douglas R.、Helm, Dick van der

  DOI：——

  日期：——
• US20140255854A1
  申请人：——

  公开号：US20140255854A1

  公开（公告）日：2014-09-11
• US9229323B2
  申请人：——

  公开号：US9229323B2

  公开（公告）日：2016-01-05

表征谱图