acetic acid acenaphthen-5-ylmethyl ester | 101093-44-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: acetic acid acenaphthen-5-ylmethyl ester
• 英文别名: Essigsaeure-acenaphthen-5-ylmethylester；1,2-Dihydroacenaphthylen-5-ylmethyl acetate
• CAS: 101093-44-1
• 化学式: C₁₅H₁₄O₂
• 分子量: 226.275
• InChiKey: SVCGIRONGALNSA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.27
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  5-苊醛 在 aluminum isopropoxide 、 异丙醇 作用下， 生成 acetic acid acenaphthen-5-ylmethyl ester
  参考文献：
  名称：

  Dannenberg; Dannenberg-v. Dresler, Chemische Berichte, 1956, vol. 89, p. 1326,1328

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Monomer, polymer, resist composition, and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US10023674B2

  公开（公告）日：2018-07-17

  A monomer having a substituent group capable of polarity switch under the action of acid is provided. A useful polymer is obtained by polymerizing the monomer. A resist composition comprising the polymer has improved development properties and is processed to form a negative pattern having high resolution and etch resistance which is insoluble in alkaline developer.

  本发明提供了一种单体，其取代基在酸的作用下可进行极性转换。通过聚合该单体可获得有用的聚合物。包含该聚合物的抗蚀剂组合物具有更好的显影性能，经加工可形成具有高分辨率和抗蚀刻性的阴图，且不溶于碱性显影剂。
• 5-Acenaphtheneacetic Acid
  作者：Henry J. Richter

  DOI：10.1021/ja01107a516

  日期：1953.6
• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20170226252A1

  公开（公告）日：2017-08-10

  A monomer having a substituent group capable of polarity switch under the action of acid is provided. A useful polymer is obtained by polymerizing the monomer. A resist composition comprising the polymer has improved development properties and is processed to form a negative pattern having high resolution and etch resistance which is insoluble in alkaline developer.
• Dannenberg; Dannenberg-v. Dresler, Chemische Berichte, 1956, vol. 89, p. 1326,1328
  作者：Dannenberg、Dannenberg-v. Dresler

  DOI：——

  日期：——