(5-Octoxy-1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl) (7,7-dimethyl-2-oxo-1-bicyclo[2.2.1]heptanyl)methanesulfonate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异喹啉及其衍生物
• 英文名称: (5-Octoxy-1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl) (7,7-dimethyl-2-oxo-1-bicyclo[2.2.1]heptanyl)methanesulfonate
• 英文别名: (5-octoxy-1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl) (7,7-dimethyl-2-oxo-1-bicyclo[2.2.1]heptanyl)methanesulfonate
• 化学式: C₃₀H₃₇NO₇S
• 分子量: 555.7
• InChiKey: LAUPWIOLGYSXIT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.6
• 重原子数：
  39
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.57
• 拓扑面积：
  115
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

文献信息

• Hydrogen barrier agent, hydrogen barrier film forming composition, hydrogen barrier film, method for producing hydrogen barrier film, and electronic element
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US10023540B2

  公开（公告）日：2018-07-17

  To provide a hydrogen barrier agent capable of imparting hydrogen barrier performance to various materials; a hydrogen barrier film forming composition including the hydrogen barrier agent; a hydrogen barrier film including the hydrogen barrier agent; a method for producing a hydrogen barrier film, which uses the hydrogen barrier film forming composition; and an electronic element provided with the hydrogen barrier film. A compound having a specific structure including an imidazolyl group is used as the hydrogen barrier agent. Furthermore, the hydrogen barrier film forming composition is prepared by blending the above-mentioned hydrogen barrier agent into the base material component. In addition, the hydrogen barrier film is formed using the hydrogen barrier film forming composition.

  提供一种能使各种材料具有氢阻隔性能的氢阻隔剂；一种包括该氢阻隔剂的氢阻隔薄膜形成组合物；一种包括该氢阻隔剂的氢阻隔薄膜；一种使用该氢阻隔薄膜形成组合物生产氢阻隔薄膜的方法；以及一种带有该氢阻隔薄膜的电子元件。氢阻隔剂使用了一种具有特定结构的化合物，其中包括咪唑基团。此外，氢阻隔膜形成组合物是通过将上述氢阻隔剂与基础材料成分混合而制备的。此外，使用氢阻隔膜形成组合物形成氢阻隔膜。
• HYDROGEN BARRIER AGENT, HYDROGEN BARRIER FILM FORMING COMPOSITION, HYDROGEN BARRIER FILM, METHOD FOR PRODUCING HYDROGEN BARRIER FILM, AND ELECTRONIC ELEMENT
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20180086717A1

  公开（公告）日：2018-03-29

  To provide a hydrogen barrier agent capable of imparting hydrogen barrier performance to various materials; a hydrogen barrier film forming composition including the hydrogen barrier agent; a hydrogen barrier film including the hydrogen barrier agent; a method for producing a hydrogen barrier film, which uses the hydrogen barrier film forming composition; and an electronic element provided with the hydrogen barrier film. A compound having a specific structure including an imidazolyl group is used as the hydrogen barrier agent. Furthermore, the hydrogen barrier film forming composition is prepared by blending the above-mentioned hydrogen barrier agent into the base material component. In addition, the hydrogen barrier film is formed using the hydrogen barrier film forming composition.
• US8680268B2
  申请人：——

  公开号：US8680268B2

  公开（公告）日：2014-03-25
• [EN] CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD FOR PRODUCING PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD FOR PRODUCING PATTERNED RESIST FILM, METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE PROVIDED WITH TEMPLATE, AND METHOD FOR PRODUCING PLATED MODELED OBJECT<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POSITIVE CHIMIQUEMENT AMPLIFIÉE, FILM SEC PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM SEC PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DE RÉSERVE À MOTIFS, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT MUNI D'UN MODÈLE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'OBJET MODÉLISÉ PLAQUÉ<br/>[JA] 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法及びめっき造形物の製造方法
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO LTD

  公开号：WO2021131538A1

  公开（公告）日：2021-07-01

  断面形状が矩形であるレジストパターンを形成しやすく、感度が良好で、且つ酸発生剤の分解を抑制することができる化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物と、当該化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物からなる感光性層を備える感光性ドライフィルム及びその製造方法と、化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物を用いるパターン化されたレジスト膜の製造方法と、鋳型付き基板の製造方法と、めっき造形物の製造方法を提供すること。　活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤（Ａ）と、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ｂ）と、酸拡散抑制剤（Ｃ）とを含む化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物であって、酸発生剤（Ａ）が活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生するノニオン系酸発生剤を含み、酸拡散抑制剤（Ｃ）が、活性光線又は放射線の照射により分解する特定構造の化合物を含む。