[DE] NEUE TENSIDE MIT NIEDRIGER CMC SOWIE TENSIDSYSTEME UND WASCHMITTEL ENTHALTEND DIESE<br/>[EN] NOVEL SURFACTANTS WITH LOWER CMC, AND SURFACTANT SYSTEMS AND DETERGENTS CONTAINING SAID SURFACTANTS<br/>[FR] NOUVEAUX TENSIOACTIFS À FAIBLE CMC, SYSTÈMES DE TENSIOACTIFS ET DÉTERGENTS LES CONTENANT
申请人:HENKEL AG & CO KGAA
公开号:WO2014117973A1
公开(公告)日:2014-08-07
Tenside der Formel (I), in der R1 für –H oder –CH3 steht, R2, R3, R4, R5, R6 unabhängig voneinander für –H, –CH3, –CH2CH3, -CH2CH2CH3, -CH(CH3)2, –CH2CH2CH2CH3, –CH2CH(CH3)2, –CH(CH3)CH2CH3, -C(CH3)3, –OH, –OCH3, –OCH2CH3, -OCH2CH2CH3, –OCH(CH3)2, einen linearen oder verzweigten Alkylrest mit 8 bis 20 C-Atomen oder – SO3- X+ stehen, X für ein einwertiges Kation oder den n-ten Teil eines n-wertigen Kations steht, genau ein Rest R2, R3, R4, R5, R6 für –SO3- X+ steht und - genau ein Rest R2, R3, R4, R5, R6 für einen linearen oder verzweigten Alkylrest mit 8 bis 20 C-Atomen steht,