N-[(4-hydroxyphenyl)methyl]-2,2-dimethylbutanamide

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: N-[(4-hydroxyphenyl)methyl]-2,2-dimethylbutanamide
• 化学式: C₁₃H₁₉NO₂
• 分子量: 221.29
• InChiKey: IKHSUIFGYCJDEZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.46
• 拓扑面积：
  49.3
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID GENERATOR
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20180149973A1

  公开（公告）日：2018-05-31

  A resist composition including a base component which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, and a compound (B1) having an anion moiety and a cation moiety and being represented by general formula (b1) (wherein R 01 to R 014 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent, or two or more of R 01 to R 014 may be mutually bonded to form a ring structure, provided that at least two of R 01 to R 014 are mutually bonded to form a ring structure, and at least one of R 01 to R 014 has an anion group, and the anion moiety as a whole forms an anion having a valency of n; n represents an integer of 1 or more; represents an integer of 1 or more; and M m+ represents an organic cation having a valency of m).

  一种抗蚀组合物，包括在酸的作用下在显影溶液中表现出改变溶解度的基础组分，以及一种具有阴离子基团和阳离子基团的化合物（B1），其由一般式（b1）表示（其中R01至R014分别独立地表示氢原子或可能具有取代基的碳氢基团，或者R01至R014中的两个或两个以上可能相互键合形成环结构，前提是至少两个R01至R014相互键合形成环结构，至少一个R01至R014具有阴离子基团，整体上阴离子基团形成带有价数n的阴离子；n表示1或更多的整数；表示1或更多的整数；Mm+表示具有价数m的有机阳离子）。
• US20140255853A1
  申请人：——

  公开号：US20140255853A1

  公开（公告）日：2014-09-11
• US9017924B2
  申请人：——

  公开号：US9017924B2

  公开（公告）日：2015-04-28