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6-(丁基氨基)-5,8-二羟基-2,3-二氢萘-1,4-二酮 | 101663-60-9

中文名称
6-(丁基氨基)-5,8-二羟基-2,3-二氢萘-1,4-二酮
中文别名
——
英文名称
6-butylamino-2,3-dihydro-5,8-dihydroxynaphthalene-1,4-dione
英文别名
6-(Butylamino)-5,8-dihydroxy-2,3-dihydronaphthalene-1,4-dione
6-(丁基氨基)-5,8-二羟基-2,3-二氢萘-1,4-二酮化学式
CAS
101663-60-9
化学式
C14H17NO4
mdl
——
分子量
263.293
InChiKey
XVOWBFCPVRPKBK-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    549.8±50.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.349±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.7
  • 重原子数:
    19
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.43
  • 拓扑面积:
    86.6
  • 氢给体数:
    3
  • 氢受体数:
    5

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    2-(丁基氨基)-5,8-二羟基萘-1,4-二酮sodium carbonate 作用下, 以 乙醇 为溶剂, 以52.4%的产率得到6-(丁基氨基)-5,8-二羟基-2,3-二氢萘-1,4-二酮
    参考文献:
    名称:
    5,8-dihydroxy naphthalene-1,4-dione derivative and a hair dye
    摘要:
    一种萘衍生物,其一般式为:##STR1## 其中R代表氢,具有1至8个碳原子的烷基,R.sup.1 O(CH.sub.2).sub.n基团,或苄基,R.sup.1代表氢或较低的烷基,n代表2或3的整数。在还原态下,该化合物可以稳定地分离,并在中等条件下氧化产生强烈而快速的颜色。该化合物可以优势地包含在染发组合物中,该组合物能够在中等条件下稳定而安全地染发,并具有良好和稳定的颜色。
    公开号:
    US04605419A1
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文献信息

  • ——
    作者:KIKUCHI MASASHI、 MATSUOKA MASAHIRO
    DOI:——
    日期:——
  • PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:US20200392344A1
    公开(公告)日:2020-12-17
    Provided is a photosensitive composition including a radically polymerizable compound, a photoradical polymerization initiator, and at least one selected from a chain transfer agent or a radical trapping agent.
  • US4605419A
    申请人:——
    公开号:US4605419A
    公开(公告)日:1986-08-12
  • [EN] PHOTOSENSITIVE COMPOSITION<br/>[FR] COMPOSITION PHOTOSENSIBLE<br/>[JA] 感光性組成物
    申请人:FUJIFILM CORP
    公开号:WO2019188652A1
    公开(公告)日:2019-10-03
    ラジカル重合性化合物と、光ラジカル重合開始剤と、連鎖移動剤およびラジカルトラップ剤から選ばれる少なくとも1種と、を含む感光性組成物。
  • [EN] RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING RADICAL TRAPPING AGENT<br/>[FR] COMPOSITION FILMOGÈNE DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE CONTENANT UN AGENT DE PIÉGEAGE DE RADICAUX<br/>[JA] ラジカルトラップ剤を含むレジスト下層膜形成組成物
    申请人:NISSAN CHEMICAL CORP
    公开号:WO2020166635A1
    公开(公告)日:2020-08-20
    半導体製造におけるリソグラフィープロセスにおいて使用される、保存安定性に優れたレジスト下層膜形成組成物を提供する。主鎖中にジスルフィド結合を含むポリマーと、ラジカルトラップ剤、及び溶剤を含む、レジスト下層膜形成組成物である。前記ラジカルトラップ剤が、好ましくは環構造又はチオエーテル構造を有する化合物である。前記環構造が、好ましくは炭素原子数6~40の芳香環構造又は2,2,6,6-テトラメチルピペリジン構造である。
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