N-ethyl-2-methylbut-2-en-1-amine

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: N-ethyl-2-methylbut-2-en-1-amine
• 化学式: C₇H₁₅N
• 分子量: 113.203
• InChiKey: VXUPPHCOZMHQOZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  12
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-甲基-2-丁烯醛; 惕各醛; 顺芷醛 、 乙胺 在 imine reductase from Streptomyces ipomoeae 、 还原型辅酶II(NADPH)四钠盐 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 0.17h， 生成 N-ethyl-2-methylbut-2-en-1-amine
  参考文献：
  名称：

  利用亚胺还原酶的α-支链醛类的动力学动力学拆分合成β-手性胺

  摘要：

  亚胺还原酶（IRED）可通过酮的还原胺化一步制备旋光性仲胺和叔胺。到目前为止，通过这种方法主要制备了α-手性胺。在这项研究中，我们探索了合成β-手性胺的可能性，β-手性胺在药物中也经常被发现是结构性基序，但由于以下原因，制备难度更大：（i）醛底物已经含有手性中心，需要进行消旋，以实现完全转化。（ii）由于中间体亚胺的立体中心有两个碳原子靠近亚胺氮，因此与α-手性胺合成相比，实现高对映选择性更具挑战性。为了调查概念证明，我们首先证实，与5种不同的胺底物结合使用时，不同的IRED能够转化多种α-支链醛。来自的IRED链霉菌是促进2-苯基丙醛和取代的2-甲基-3-苯基丙醛动力学动力学拆分的合适酶：获得了相应的N-甲基化的β-手性胺，转化率> 95％，ee分别为78和95％。形成的其他胺的对映体过量较低至中等。这证明了IRED在一步法合成仲β-手性胺中的潜力，但也为鉴定所需胺产物的高选择性酶带来了挑战。

  DOI：

  10.1002/cctc.201900806

文献信息

• LIQUID COMPOSITION FOR IMPARTING ALCOHOL-REPELLENCY TO SEMICONDUCTOR SUBSTRATE MATERIAL, AND METHOD FOR TREATING SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE USING SAID LIQUID COMPOSITION
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP3404700A1

  公开（公告）日：2018-11-21

  The present invention provides a liquid composition for imparting alcohol-repellency to a semiconductor substrate material, and a method for treating the surface of a semiconductor substrate using the liquid composition, wherein the liquid composition contains: 0.01-15% by mass of a surfactant (A) having a substituent represented by formula (1) (where n is an integer of 3 to 20, inclusive), and an anionic hydrophilic group; and 0.0001-20% by mass of a compound (B) having a weight-average molecular weight of 200-500000 and having 4-30 mmol of an amino group per gram, the compound (B) being selected from the group consisting of compounds having a polyethylenimine and a substituent represented by formula (2) (where R1 and R2 are each independently hydrogen or a C1-6 alkyl, alkenyl, alkynyl, or aryl) or formula (3) (where R3 and R4 are each independently hydrogen or a C1-6 alkyl, alkenyl, alkynyl, or aryl, and X- is a fluoride ion, a chloride ion, a bromide ion, an iodide ion, a fluoroborate ion, a phosphate ion, an acetate ion, a trifluoroacetate ion, a sulfate ion, a hydrogen sulfate ion, a methane sulfate ion, a hydroxide ion, a perchlorate ion, or a nitrate ion).         CnF2n+1-     (1)

  本发明提供了一种用于赋予半导体衬底材料摈醇性的液体组合物，以及一种使用该液体组合物处理半导体衬底表面的方法，其中该液体组合物包含：0.01-15%（质量）的表面活性剂 (A)，该表面活性剂具有由式 (1) 所代表的取代基（其中 n 为 3 至 20（含）的整数）和阴离子亲水基团；以及 0.0001-20% 质量百分比的化合物 (B)，其重量-平均分子量为 200-500000，每克含 4-30 mmol 氨基，该化合物 (B) 选自具有聚乙烯亚胺和由式 (2) 代表的取代基（其中 R1 和 R2 各自独立地为氢或 C1-6 烷基、烯基、炔基、或芳基）或式 (3)（其中 R3 和 R4 各自独立地为氢或 C1-6 烷基、烯基、炔基或芳基，X- 为氟离子、氯离子、溴离子、碘离子、氟硼酸根离子、磷酸根离子、乙酸根离子、三氟乙酸根离子、硫酸根离子、硫酸氢根离子、硫酸甲烷根离子、氢氧根离子、高氯根离子或硝酸根离子）。 CnF2n+1- (1)
• Liquid composition for imparting alcohol-repellency to semiconductor substrate material, and method for treating surface of semiconductor substrate using said liquid composition
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US11094526B2

  公开（公告）日：2021-08-17

  A liquid composition for imparting alcohol-repellency to a semiconductor substrate material and a method for treating a semiconductor substrate surface using the liquid composition, are disclosed. The liquid composition contains: a surfactant (A) having a substituent of formula (1) (where n is an integer of 3 to 20), and an anionic hydrophilic group; and a compound (B) being selected from the group consisting of compounds having a polyethylenimine and a substituent of formula (2) or formula (3) (where R1, R2, R3 and R4 are each independently hydrogen or a C1-6 alkyl, alkenyl, alkynyl, or aryl, and X− is a fluoride ion, a chloride ion, a bromide ion, an iodide ion, a fluoroborate ion, a phosphate ion, an acetate ion, a trifluoroacetate ion, a sulfate ion, a hydrogen sulfate ion, a methane sulfate ion, a hydroxide ion, a perchlorate ion, or a nitrate ion).

  本发明公开了一种用于赋予半导体衬底材料摈醇性的液体组合物，以及使用该液体组合物处理半导体衬底表面的方法。液体组合物包含具有式 (1) 取代基（其中 n 为 3 至 20 的整数）的表面活性剂 (A) 和阴离子亲水基团；化合物 (B) 选自具有聚乙烯亚胺和式 (2) 或式 (3) 取代基（其中 R1、R2、R3 和 R4 各自独立地为氢或 C1-6 烷基、烯基、炔基或芳基）的化合物组、和 X- 是氟离子、氯离子、溴离子、碘离子、氟硼酸根离子、磷酸根离子、乙酸根离子、三氟乙酸根离子、硫酸根离子、硫酸氢根离子、硫酸甲烷根离子、氢氧根离子、高氯根离子或硝酸根离子）。