N,N'-di-(2,6-difluorobenzenesulfonyloxy)-4,4'-(phenylene-1,3-dioxy)dinaphthalene-1,8;1',8'-tetracarboxylic imide | 1130761-18-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异喹啉及其衍生物
• 英文名称: N,N'-di-(2,6-difluorobenzenesulfonyloxy)-4,4'-(phenylene-1,3-dioxy)dinaphthalene-1,8;1',8'-tetracarboxylic imide
• 英文别名: [6-[3-[2-(2,6-Difluorophenyl)sulfonyloxy-1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-6-yl]oxyphenoxy]-1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl] 2,6-difluorobenzenesulfonate；[6-[3-[2-(2,6-difluorophenyl)sulfonyloxy-1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-6-yl]oxyphenoxy]-1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl] 2,6-difluorobenzenesulfonate
• CAS: 1130761-18-0
• 化学式: C₄₂H₂₀F₄N₂O₁₂S₂
• 分子量: 884.753
• InChiKey: JTAOQAQMTFRCMJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  8.2
• 重原子数：
  62
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  9.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  197
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  16

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  N,N'-dihydroxy-4,4'-(phenylene-1,3-dioxy)-dinaphthalene-1,8;1',8'-tetracarboxylic imide 、 2,6-二氟苯磺酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以23%的产率得到N,N'-di-(2,6-difluorobenzenesulfonyloxy)-4,4'-(phenylene-1,3-dioxy)dinaphthalene-1,8;1',8'-tetracarboxylic imide
  参考文献：
  名称：

  Non-ionic photo-acid generators for applications in two-photon lithography

  摘要：

  我们设计并合成了用于双光子光刻技术（TPL）的非离子光酸发生器（PAGs）。这些新型 PAG 中的发色团通过柔性连接与可光裂解基团共价连接。研究人员对它们的热稳定性、溶解性以及在单光子和双光子激发下产生酸的效率进行了表征。在两种负色调抗蚀剂体系中，利用自由基/阳离子聚合或阳离子引发的交联反应等不同机制测试了这些 PAG 在 TPL 方面的潜力。与市售的光引发剂异丙基硫杂蒽酮和光酸发生剂 N-hydroxynaphthalimide triflate 相比，这些 PAG 聚合所需的阈值功率更低。制造出的微结构分辨率为 0.6 微米，聚合阈值功率低于 2 毫瓦。

  DOI：

  10.1039/b816434g

文献信息

• Non-ionic photo-acid generators for applications in two-photon lithography
  作者：Lorenz Steidl、Shalin J. Jhaveri、Ramakrishnan Ayothi、Jing Sha、Jesse D. McMullen、Sin Yee Cindy Ng、Warren R. Zipfel、Rudolf Zentel、Christopher K. Ober

  DOI：10.1039/b816434g

  日期：——

  Non-ionic photoacid generators (PAGs) have been designed and synthesized for use in two-photon lithography (TPL). The chromophores in these new PAGs are covalently linked to the photocleavable group by a flexible joint. Their thermal stability, solubility and efficiency to produce acid under both one- and two-photon excitation were characterized. The potential of these PAGs for TPL was tested in two negative-tone resist systems relying on different mechanisms: free-radical/cationic polymerization or a cationically initiated cross-linking reaction. These PAGs needed lower threshold power for polymerization compared to a commercially available photoinitiator, isopropylthioxanthone, and a photoacid generator, N-hydroxynaphthalimide triflate. Microstructures with a resolution of 0.6 µm were fabricated and the threshold power for polymerization was found to be below 2 mW.

  我们设计并合成了用于双光子光刻技术（TPL）的非离子光酸发生器（PAGs）。这些新型 PAG 中的发色团通过柔性连接与可光裂解基团共价连接。研究人员对它们的热稳定性、溶解性以及在单光子和双光子激发下产生酸的效率进行了表征。在两种负色调抗蚀剂体系中，利用自由基/阳离子聚合或阳离子引发的交联反应等不同机制测试了这些 PAG 在 TPL 方面的潜力。与市售的光引发剂异丙基硫杂蒽酮和光酸发生剂 N-hydroxynaphthalimide triflate 相比，这些 PAG 聚合所需的阈值功率更低。制造出的微结构分辨率为 0.6 微米，聚合阈值功率低于 2 毫瓦。