1,2-Di-α-naphthyl-disulfon | 10409-08-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1,2-Di-α-naphthyl-disulfon
• 英文别名: 1-Naphthalen-1-ylsulfonylsulfonylnaphthalene
• CAS: 10409-08-2
• 化学式: C₂₀H₁₄O₄S₂
• 分子量: 382.461
• InChiKey: MOGPXYHUALQXHD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  85
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-萘磺酰氯 在 吡啶 、 硝酸 作用下， 反应 19.0h， 生成 1,2-Di-α-naphthyl-disulfon
  参考文献：
  名称：

  Eine einfache und allgemeine Methode zur Herstellung von α-Disulfonen (R¹SO₂SO₂R²)

  摘要：

  一种简便通用的α-二砜制备方法 α-二砜（R1SO2SO2R2）的二烷基、二芳基及烷基芳基二砜可以通过硝酸氧化N,N′-二磺酰肼来轻松制备。该方法适用于硫原子上多种取代基（R1，R2）。

  DOI：

  10.1055/s-1993-25891

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。
• CYCLIC COMPOUND, PRODUCTION PROCESS THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Takasuka Masaaki

  公开号：US20120282546A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Disclosed are: a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent, is highly sensitive, enables the formation of a resist pattern having a good shape, and rarely causes resist pattern collapse; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the cyclic compound; and a resist pattern formation method using the composition. Specifically disclosed are: a cyclic compound having a specific structure; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the compound; and a resist pattern formation method using the composition.

  本发明涉及一种具有高溶解度、高灵敏度、能够形成良好形状的抗蚀图案，且很少引起抗蚀图案崩塌的环状化合物；一种制备该环状化合物的方法；一种含有该环状化合物的辐射敏感组合物；以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。具体揭示了一种具有特定结构的环状化合物，制备该环状化合物的方法，含有该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。
• COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Echigo Masatoshi

  公开号：US20130122423A1

  公开（公告）日：2013-05-16

  The object is to provide a compound having high dissolvability in a safe solvent and high sensitivity, and also capable of obtaining a good resist pattern shape, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition. For this purpose, a compound (B) obtained by reaction between a polyphenol based cyclic compound (A) and a compound (C) having a particular structure, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition are provided.

  本发明的目的是提供一种在安全溶剂中具有高溶解度和高灵敏度的化合物，同时还能获得良好的抗蚀图案形状，包含该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。为此，提供了通过多酚基环状化合物（A）和具有特定结构的化合物（C）反应得到的化合物（B），包含该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。
• Verfahren zur Herstellung von 1,2-Disulfon-Verbindungen
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0331905A1

  公开（公告）日：1989-09-13

  Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von 1,2-Disulfon-Verbindungen durch Oxidation entsprechender 1,2-Disulfonylhydrazin-Verbindungen mit Hilfe von konzen­trierter Salpetersäure als Oxidationsmittel.

  本发明涉及一种以浓硝酸为氧化剂，通过氧化相应的 1,2-二磺酰肼化合物来制备 1,2-二砜化合物的工艺。