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2-Butylsulfanyl-1,2-diphenylethanone

中文名称
——
中文别名
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英文名称
2-Butylsulfanyl-1,2-diphenylethanone
英文别名
——
2-Butylsulfanyl-1,2-diphenylethanone化学式
CAS
——
化学式
C18H20OS
mdl
——
分子量
284.422
InChiKey
OLVIHVXXOWRBIQ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 反应信息
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  • 表征谱图
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  • 相关功能分类
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5.2
  • 重原子数:
    20
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.28
  • 拓扑面积:
    42.4
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    benzaldehyde dibutyldithioacetal正丁基锂 作用下, 以 四氢呋喃正己烷 为溶剂, 反应 1.0h, 以97%的产率得到2-Butylsulfanyl-1,2-diphenylethanone
    参考文献:
    名称:
    Pot-Economy Autooxidative Condensation of 2-Aryl-2-lithio-1,3-dithianes
    摘要:
    The autoxidative condensation of 2-aryl-2-lithio-1,3-dithianes is here reported. Treatment of 2-aryl-1,3-dithianes with n-BuLi in the absence of any electrophile leads to condensation of three molecules of 1,3-dithianes and formation of highly functionalized α-thioether ketones orthothioesters in 51-89% yields upon air exposure. The method was further expanded to benzaldehyde dithioacetals, affording corresponding orthothioesters and α-thioether ketones in 48-97% yields. The experimental results combined with density functional theory studies support a mechanism triggered by the autoxidation of 2-aryl-2-lithio-1,3-dithianes to yield a highly reactive thioester that undergoes condensation with two other molecules of 2-aryl-2-lithio-1,3-dithiane.
    DOI:
    10.1021/acs.joc.7b02896
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文献信息

  • US4107012A
    申请人:——
    公开号:US4107012A
    公开(公告)日:1978-08-15
  • US4141806A
    申请人:——
    公开号:US4141806A
    公开(公告)日:1979-02-27
  • US9405197B2
    申请人:——
    公开号:US9405197B2
    公开(公告)日:2016-08-02
  • [EN] PATTERN FORMING METHOD, COMPOUND USED THEREIN, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE<br/>[FR] PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, COMPOSÉ UTILISÉ DANS CE PROCÉDÉ, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
    申请人:FUJIFILM CORP
    公开号:WO2014119698A1
    公开(公告)日:2014-08-07
    There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising: (A) a resin having a group capable of decomposing by an action of an acid to produce a polar group, (C1) a compound containing a group capable of generating a first acidic functional group upon irradiation with an actinic ray or radiation and a group capable of generating a second acidic functional group different from the first acidic functional group upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C2) at least one compound containing two or more groups selected from the group consisting of the groups capable of generating the structures represented by the specific formulae upon irradiation with an actinic ray or radiation.
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