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N'-(2-二甲基氨基乙基)-N-[2-(2-二甲基氨基乙基-甲基氨基)乙基]-N,N'-二甲基乙烷-1,2-二胺 | 3083-11-2

中文名称
N'-(2-二甲基氨基乙基)-N-[2-(2-二甲基氨基乙基-甲基氨基)乙基]-N,N'-二甲基乙烷-1,2-二胺
中文别名
——
英文名称
2,5,8,11,14-pentamethyl-2,5,8,11,14-pentaazapentadecane
英文别名
N-(2-(Dimethylamino)ethyl)-N'-(2-((2-(dimethylamino)ethyl)methylamino)ethyl)-N,N'-dimethylethylenediamine;N'-[2-[2-[2-(dimethylamino)ethyl-methylamino]ethyl-methylamino]ethyl]-N,N,N'-trimethylethane-1,2-diamine
N'-(2-二甲基氨基乙基)-N-[2-(2-二甲基氨基乙基-甲基氨基)乙基]-N,N'-二甲基乙烷-1,2-二胺化学式
CAS
3083-11-2
化学式
C15H37N5
mdl
——
分子量
287.492
InChiKey
SZYLDXKMZNIHDQ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.4
  • 重原子数:
    20
  • 可旋转键数:
    12
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    16.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    5

SDS

SDS:f1f0027870bd53c447e6df17dbdcfb66
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上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    铜-(I)和-(II)与Me 2 NCH 2(CH 2 NMeCH 2)n CH 2 NMe 2(n = 1-4)类型的叔线性多胺配合物
    摘要:
    2,5,8,11-四甲基-2,5,8,11-四氮杂十二烷,2,5,8,11,14-五甲基-2,5,8,11,14-五氮杂十五烷和2,5,8 1,11,14,17-六甲基-2,5,8,11,14,17-六氮杂十八烷在水溶液中与Cu I形成稳定的配合物。另一方面,没有2,5,8-三甲基-2,5,8-三氮杂壬烷。这表明水溶液中叔胺配体对Cu I的稳定作用需要至少四个氮原子。电子光谱和的[CUL的电化学特性我] 2+复合物在宽的pH范围内进行了研究和电势滴定作了含有Cu的等摩尔浓度的溶液II和L我。讨论了这些解决方案中存在的配合物的性质。
    DOI:
    10.1039/dt9960002055
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文献信息

  • Near infrared radiation-absorbing composition, near infrared radiation cut-off filter and production method therefor, and camera module and production method therefor
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:US10184052B2
    公开(公告)日:2019-01-22
    An object of the present invention is to provide a near infrared radiation-absorbing composition having favorable shielding properties in a near infrared range when used to produce cured films, a near infrared radiation cut-off filter and a production method therefor, and a camera module and a production method therefor. The near infrared radiation-absorbing composition including a copper complex formed by reacting a compound (A) having two or more coordinating atoms that form bonds using unshared electron pairs with a copper component.
    本发明的目的是提供一种在用于生产固化薄膜时在近红外范围内具有良好屏蔽性能的近红外辐射吸收组合物、一种近红外辐射截止滤光片及其生产方法,以及一种相机模组及其生产方法。近红外辐射吸收组合物包括铜络合物,该铜络合物是由具有两个或两个以上配位原子的化合物(A)与铜成分反应形成的,该化合物具有两个或两个以上配位原子,这些配位原子利用未共享电子对形成键。
  • Verfahren zur Herstellung von in geschlossenen Formen geschäumten Polyurethan-Kunststoffen
    申请人:BAYER AG
    公开号:EP0012352B1
    公开(公告)日:1982-04-07
  • DISULFIDE COMPOUNDS FOR DELIVERY OF PHARMACEUTICAL AGENTS
    申请人:Tufts University
    公开号:EP2961733B1
    公开(公告)日:2021-01-13
  • Particle Removal Cleaning Method and Composition
    申请人:Beck Mark Jonathan
    公开号:US20090149364A1
    公开(公告)日:2009-06-11
    A cleaning solution and method for removing submicron particles from the surface and/or the bevel of an electronic substrate such as a hard disk media substrate, or an imprint mold used in the manufacturing of the hard disk media or a read/write head assembly part. The cleaning solution comprises a polycarboxylate polymer or an ethoxylated polyamine. The method comprises the step of contacting a surface of the substrate with a cleaning solution comprised of a polycarboxylate polymer or an ethoxylated polyamine. Additional optional steps in the method include applying acoustic energy to the cleaning solution and/or rinsing the surface with a rinsing solution with or without the application of acoustic energy to the rinsing solution.
  • Method and Composition for Cleaning Wafers
    申请人:Beck Mark Jonathan
    公开号:US20090151755A1
    公开(公告)日:2009-06-18
    A cleaning solution and method for removing submicron particles from the surface and/or the bevel of an electronic substrate such as a semiconductor wafer. The cleaning solution comprises a polycarboxylate polymer or an ethoxylated polyamine. The method comprises the step of contacting a surface of the substrate with a cleaning solution comprised of a polycarboxylate polymer or an ethoxylated polyamine. Additional optional steps in the method include applying acoustic energy to the cleaning solution and/or rinsing the surface with a rinsing solution with or without the application of acoustic energy to the rinsing solution.
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