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6-Methoxy-2-[2-(4-methoxyphenyl)ethyl]-2-methyl-4,4-diphenyl-1,3-benzodioxine | 936716-93-7

中文名称
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中文别名
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英文名称
6-Methoxy-2-[2-(4-methoxyphenyl)ethyl]-2-methyl-4,4-diphenyl-1,3-benzodioxine
英文别名
6-methoxy-2-[2-(4-methoxyphenyl)ethyl]-2-methyl-4,4-diphenyl-1,3-benzodioxine
6-Methoxy-2-[2-(4-methoxyphenyl)ethyl]-2-methyl-4,4-diphenyl-1,3-benzodioxine化学式
CAS
936716-93-7
化学式
C31H30O4
mdl
——
分子量
466.577
InChiKey
QXWYALUCCVPPFZ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    7.1
  • 重原子数:
    35
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    5.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.23
  • 拓扑面积:
    36.9
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    6-Methoxy-2-[2-(4-methoxyphenyl)ethyl]-2-methyl-4,4-diphenyl-1,3-benzodioxine乙腈 为溶剂, 反应 1.0h, 以86%的产率得到4-(4-甲氧苯基)-2-丁酮
    参考文献:
    名称:
    羰基化合物的新型光不稳定保护基。
    摘要:
    [反应:见正文]描述了一种用于羰基化合物的新型光保护基。保护基团很容易在一个步骤中从市售材料中获得。以优异的产率实现了将保护基安装在羰基化合物上。受保护形式的羰基化合物在各种条件下都非常稳定,并且可以高效地光化学释放。
    DOI:
    10.1021/ol070346f
  • 作为产物:
    描述:
    5-甲氧基水杨酸 在 phosphorus pentoxide 、 对甲苯磺酸magnesium 作用下, 以 乙醚 为溶剂, 反应 9.0h, 生成 6-Methoxy-2-[2-(4-methoxyphenyl)ethyl]-2-methyl-4,4-diphenyl-1,3-benzodioxine
    参考文献:
    名称:
    羰基化合物的新型光不稳定保护基。
    摘要:
    [反应:见正文]描述了一种用于羰基化合物的新型光保护基。保护基团很容易在一个步骤中从市售材料中获得。以优异的产率实现了将保护基安装在羰基化合物上。受保护形式的羰基化合物在各种条件下都非常稳定,并且可以高效地光化学释放。
    DOI:
    10.1021/ol070346f
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文献信息

  • Novel Photolabile Protecting Group for Carbonyl Compounds
    作者:Pengfei Wang、Huayou Hu、Yun Wang
    DOI:10.1021/ol070346f
    日期:2007.4.1
    [reaction: see text] A novel type of photo-protecting group for carbonyl compounds is described. The protecting group is readily accessed in one step from commercially available material. Installation of the protecting group upon the carbonyl compounds is achieved in excellent yields. The carbonyl compounds in their protected form are remarkably stable under various conditions and can be released photochemically
    [反应:见正文]描述了一种用于羰基化合物的新型光保护基。保护基团很容易在一个步骤中从市售材料中获得。以优异的产率实现了将保护基安装在羰基化合物上。受保护形式的羰基化合物在各种条件下都非常稳定,并且可以高效地光化学释放。
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