异丙基硫代呫吨酮 | 75081-21-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 硫色烯
• 中文名称: 异丙基硫代呫吨酮
• 中文别名: 异丙基-9H-噻吨-9-酮；(1-甲基乙基)-9H-噻吨-9-酮；4-(1-甲基乙基)-9H-噻吨-9-酮
• 英文名称: Isopropylthioxanthone
• 英文别名: 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one
• CAS: 75081-21-9
• 化学式: C₁₆H₁₄OS
• 分子量: 254.3
• InChiKey: YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.19
• 拓扑面积：
  42.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• WGK Germany：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-羟基环己基苯基甲酮 、 diphenyl-(2,4,6-trimethoxybenzeneformyl)phosphine oxide 、 异丙基硫代呫吨酮 生成 二苯甲酮
  参考文献：
  名称：

  INK COMPOSITION, INKJET RECORDING METHOD AND PROCESS FOR PRODUCING MOLDED PRINTED MATERIAL

  摘要：

  提供了一种墨水组合物，包括（组分a）一种开链和/或环状醚键含有单官能基（甲基）丙烯酸酯，（组分b）一种或多种单官能基乙烯基不饱和化合物，所述化合物选自包含多环脂肪族基的单官能基（甲基）丙烯酸酯和N-乙烯基-2-己内酰胺的群组，（组分c）一种聚合引发剂，（组分e）一种多官能基（甲基）丙烯酸酯，相对于墨水组合物不大于10重量％，以及（组分f）一种含有氟代烃基或硅氧烷结构的聚合物，其中（组分a）/（组分b）的重量比为0.7到1.9。还提供了一种喷墨记录方法，包括（a1）通过喷墨方法排放墨水组合物形成记录介质上的图像形成步骤和（b1）通过照射获得的图像进行光致固化的固化步骤，从而在记录介质上获得固化图像，以及一种生产模塑印刷材料的过程，包括（a2）通过喷墨方法排放墨水组合物形成记录介质上的图像形成步骤，（b2）通过照射获得的图像进行光致固化的固化步骤，从而在记录介质上获得具有固化图像的印刷材料，以及（c2）模塑印刷材料的模塑步骤。

  公开号：

  US20110242191A1

文献信息

• XANTHENE-BASED COMPOUND AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING SAME
  申请人：LG CHEM, LTD.

  公开号：US20200262807A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present specification provides a compound represented by Chemical Formula 1, a colorant composition, a resin composition, a photosensitive material, a color filter and a display device comprising the same.

  当前规格书提供了一种由化学公式1表示的化合物，一种着色剂组合物，一种树脂组合物，一种光敏材料，以及包含该化合物的彩色滤光器和显示设备。
• [EN] LOW-EXTRACTABLE THIOXANTHONES<br/>[FR] THIOXANTHONES FAIBLEMENT EXTRACTIBLES
  申请人：LAMBERTI SPA

  公开号：WO2012062692A1

  公开（公告）日：2012-05-18

  3-Esters and 3-amides of thioxanthone bearing alkyl chains of appropriate length and can be used as photoinitiators or sensitizers in photopolymerizable systems, in particular for the preparation of coatings compatible with the food use.

  3-硫代二苯酮的3-酯和3-酰胺，带有适当长度的烷基链，可用作光引发剂或感光剂，特别适用于制备与食品接触兼容的涂层。
• ALKALI-DEVELOPABLE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND BETA-DIKETONE COMPOUND
  申请人：Yamada Takashi

  公开号：US20100129753A1

  公开（公告）日：2010-05-27

  An alkali developable photosensitive resin composition contains (J) a photopolymerizable unsaturated compound having a structure resulting from the addition reaction of (B) a compound having a β-diketone moiety or a compound having a β-ketoester group to the (meth)acryloyl group of (A) a compound having at least two (meth)acryloyl groups and a hydroxyl group and subsequent esterification of the hydroxyl group of the resulting addition product with (C) a polybasic acid anhydride. The compound having a β-diketone moiety is preferably a novel β-diketone compound represented by general formula (I): wherein R 1 is a C1-C20 alkyl group; R 2 represents R 11 , OR 11 , COR 11 , SR 11 , CONR 12 R 13 , or CN; R 11 , R 12 , and R 13 are each hydrogen, a C1-C20 alkyl group, etc.; a is 0 to 3; and b is 0 to 4.

  一种可由碱显影的光敏树脂组合物，含有（J）一种光聚合不饱和化合物，该化合物的结构是由（B）含β-二酮基团或含β-酮酯基团的化合物与（A）含至少两个(甲基)丙烯酰基团和一个羟基的化合物中的(甲基)丙烯酰基团发生加成反应，并随后将所得加成产物的羟基与（C）多元酸酐进行酯化反应得到的。含β-二酮基团的化合物最好是表示为通用公式（I）的一种新型β-二酮化合物：其中R1是C1-C20烷基团；R2代表R11、OR11、COR11、SR11、CONR12R13或CN；R11、R12和R13分别是氢、C1-C20烷基团等；a是0到3；b是0到4。
• [EN] RADIATION CURABLE INKJET INK FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARDS<br/>[FR] ENCRE POUR JET D'ENCRE DURCISSABLE PAR RAYONNEMENT POUR LA FABRICATION DE CARTES DE CIRCUITS IMPRIMÉS
  申请人：AGFA GEVAERT NV

  公开号：WO2020109132A1

  公开（公告）日：2020-06-04

  A radiation curable inkjet ink comprising a polymerizable compound and a photoinitiator, characterized in that the photoinitiator comprises a functional group selected from the group consisting of an aliphatic thio-ether and an aliphatic or a (hetero)aromatic disulfide.

  一种辐射固化喷墨墨水，包括可聚合化合物和光引发剂，其特征在于所述光引发剂包括从由脂肪族硫醚和脂肪族或（杂）芳基二硫化物组成的群中选择的官能团。
• DIARYLSULFIDE BACKBONE CONTAINING PHOTOLABILE PROTECTING GROUPS
  申请人：Stengele Klaus-Peter

  公开号：US20120258891A1

  公开（公告）日：2012-10-11

  The present disclosure relates to photoactivable protecting groups containing a diarylsulfide chromophore, a method for the synthesis thereof and their use as photoactivable protecting groups using maskless photolithography based array synthesis.

  本公开涉及含有二芳基硫醚色团的光活化保护基团，以及它们的合成方法和它们作为光活化保护基团在基于无掩模光刻阵列合成中的应用。