5-Methacryloylamino-1-naphthol | 27931-11-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 5-Methacryloylamino-1-naphthol
• 英文别名: N-(5-Hydroxynaphthalen-1-yl)-2-methylprop-2-enamide
• CAS: 27931-11-9
• 化学式: C₁₄H₁₃NO₂
• 分子量: 227.263
• InChiKey: NYJIXHQKWMNVNP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.07
• 拓扑面积：
  49.3
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-氨基-5-萘酚 、 甲基丙烯酰氯 、 在 4-甲氧基苯酚 水 、 甲醇 、 盐酸 、 乙醇 作用下， 以 吡啶 为溶剂， 反应 4.5h， 以to give 210 g of N-(5-hydroxy-α-naphthyl)methacrylamide having a melting point of 223°-224° C.的产率得到5-Methacryloylamino-1-naphthol
  参考文献：
  名称：

  Positive photosensitive planographic printing plates containing specific

  摘要：

  公开了一种正的光敏平版印刷版，其具有包含特定的o-萘醌二氮杂磺酸酯和具有特定结构单元的树脂的光敏层的组合。所述光敏层还可以包含诺伍拉克树脂和/或有机酸。

  公开号：

  US05182183A1

文献信息

• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140045123A1

  公开（公告）日：2014-02-13

  A polymer comprising recurring units derived from a (meth)acrylate monomer of tertiary ester type having branched alkyl on alicycle is used to form a resist composition. When subjected to exposure, PEB and organic solvent development, the resist composition is improved in dissolution contrast.

  一种聚合物，包括由具有支链烷基的萜酸酯单体衍生的重复单元，用于形成抗蚀组合物。在经过曝光、PEB和有机溶剂显影处理后，抗蚀组合物在溶解对比度方面得到改善。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND BARIUM, CESIUM AND CERIUM SALTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170115566A1

  公开（公告）日：2017-04-27

  A resist composition comprising a base resin comprising acid labile group-containing recurring units and preferably acid generator-containing recurring units, and a sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, strontium, yttrium, cesium, barium or cerium salt of α-fluorinated sulfonic acid bonded to an alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl group exhibits a high resolution and sensitivity and forms a pattern of satisfactory profile with minimal LWR after exposure and development.

  一种抗蚀组合物包括基树脂，其中包含含酸敏感基团的重复单元，最好包含含酸发生剂的重复单元，以及与烷基、烯基、炔基或芳基结合的α-氟磺酸的钠、镁、钾、钙、铷、锶、钇、铯、钡或铈盐，表现出高分辨率和灵敏度，并在曝光和显影后形成具有最小LWR的满意轮廓图案。
• Photosensitive composition
  申请人：Konishiroku Photo Industry Co., Ltd.

  公开号：US04229514A1

  公开（公告）日：1980-10-21

  A composition containing a photosensitive polymer which becomes insoluble by a light exposure and particularly to a highly photosensitive composition which comprises a photosensitive polymer having in the structure as photosensitive groups both an a,B-unsaturated ketone group having a cyano group at the a-position and an azide group.

  这是一种含有光敏聚合物的组合物，该聚合物在光曝露后变得不溶，特别是一种高度光敏的组合物，其结构中含有具有光敏基团的a，B-不饱和酮基团，在a-位置具有氰基团和叠氮基团。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20130029269A1

  公开（公告）日：2013-01-31

  A positive resist composition comprising a polymer having carboxyl groups substituted with an acid labile group having formula (1) exhibits a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure, a high resolution, a good pattern profile and minimal edge roughness. In formula (1), A is —(CR 2 2 ) m —, B is —(CR 5 2 ) n —, R 2 and R 5 are hydrogen or alkyl, m and n are 1 or 2, R 3 is alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl, R 6 is alkyl, alkoxy, alkanoyl, alkoxycarbonyl, hydroxyl, nitro, aryl, halogen, or cyano, and p is 0 to 4.

  具有以下化学式（1）的酸敏聚合物，其羧基被酸敏基取代的正性光刻胶组合物，在曝光前后呈现高对比度的碱性溶解速率、高分辨率、良好的图案轮廓和最小的边缘粗糙度。在化学式（1）中，A为—（CR22）m—，B为—（CR52）n—，R2和R5为氢或烷基，m和n为1或2，R3为烷基、烯基、炔基或芳基，R6为烷基、烷氧基、烷酰基、烷氧羰基、羟基、硝基、芳基、卤素或氰基，p为0至4。
• Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0184044A2

  公开（公告）日：1986-06-11

  Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch und ein daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Druckplatten und Photoresists beschrieben, das ein 1, 2-Chinondiazid oder eine Kombination aus 1.) einer unter Einwirkung von atkinischer Strahlung eine starke Säure bildenden Verbindung und 2.) einer Verbindung mit mindestens einer spaltbaren C-O-C-Bindung enthält, deren Löslichkeit in einem flüssigen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, und als Bindemittel ein Polymeres mit seitenständigen vernetzenden Gruppen der Formel -CH20R enthält, worin R ein Wasserstoffatom, eine niedere Alkyl-, Acyl- oder Hydroxyalkylgruppe ist. Das Gemisch läßt sich nach dem Belichten und Entwickeln thermisch härten und ergibt eine Bildschablone mit sauberem Hintergrund.

  辐射敏感混合物、用其制备的记录材料和生产耐热浮雕记录的工艺 本文描述了一种辐射敏感混合物及其制备的记录材料，用于生产印版和光刻胶，该混合物包括 1, 2-重氮醌或其组合 1.) 在阿特金酸辐射下会形成强酸的化合物，以及 2.) 具有至少一个可裂解 C-O-C 键的化合物，其在液体显影剂中的溶解度在酸的作用下会增加、 并含有一种聚合物作为粘合剂，该聚合物具有-CH20R 式的悬垂交联基团，其中 R 为氢原子、低级烷基、酰基或羟烷基。该混合物在曝光和显影后可进行热固化，并生成具有干净背景的图像模板。