Bis-(n-hexyldimethylsilyl)amin | 25942-79-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: Bis-(n-hexyldimethylsilyl)amin
• 英文别名: 1-Hexyl-N-[hexyl(dimethyl)silyl]-1,1-dimethylsilanamine；1-[[[hexyl(dimethyl)silyl]amino]-dimethylsilyl]hexane
• CAS: 25942-79-4
• 化学式: C₁₆H₃₉NSi₂
• 分子量: 301.663
• InChiKey: SJXRYSFPMDJANJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.15
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  12
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Bis-(n-hexyldimethylsilyl)amin 、 三氟乙酸酐 生成 Hexyldimethylsilyl trifluoroacetate
  参考文献：
  名称：

  Liquid chemical for forming protecting film

  摘要：

  本发明涉及一种液体化学品，用于在清洗具有表面微细不均匀图案并且至少包含硅的不均匀图案的晶片时，在凹陷部分的表面上形成防水保护膜。该液体化学品包含一种由通式表示的硅化合物A：R1aSi(H)bX4-a-b和一种酸A，其中酸A至少选自以下组 consisting of trimethylsilyl trifluoroactate，trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate，dimethylsilyl trifluoroactate，dimethylsilyl trifluoromethanesulfonate，butyldimethylsilyl trifluoroactate，butyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate，hexyldimethylsilyl trifluoroacetate，hexyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate，octyldimethylsilyl trifluoroactate，octyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate，decyldimethylsilyl trifluoroacetate和decyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate。

  公开号：

  US09228120B2
• 作为产物：
  描述：

  二甲基己基氯硅烷 在 氨 作用下， 生成 Bis-(n-hexyldimethylsilyl)amin
  参考文献：
  名称：

  Lavygin, I. A.; Izmailov, B. A.; Zhdanov, A. A., Journal of applied chemistry of the USSR, 1980, vol. 53, # 5, p. 915 - 919

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Liquid chemical for forming protecting film
  申请人：Kumon Soichi

  公开号：US09228120B2

  公开（公告）日：2016-01-05

  Disclosed is a liquid chemical for forming a water-repellent protecting film at least on a surface of a recessed portion of an uneven pattern at the time of cleaning a wafer having a finely uneven pattern at its surface and containing silicon at least a part of the uneven pattern. This liquid chemical contains a silicon compound A represented by the general formula: R1aSi(H)bX4-a-b and an acid A, the acid A being at least one selected from the group consisting of trimethylsilyl trifluoroactate, trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate, dimethylsilyl trifluoroactate, dimethylsilyl trifluoromethanesulfonate, butyldimethylsilyl trifluoroactate, butyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate, hexyldimethylsilyl trifluoroacetate, hexyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate, octyldimethylsilyl trifluoroactate, octyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate, decyldimethylsilyl trifluoroacetate and decyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate.

  本发明涉及一种液体化学品，用于在清洗具有表面微细不均匀图案并且至少包含硅的不均匀图案的晶片时，在凹陷部分的表面上形成防水保护膜。该液体化学品包含一种由通式表示的硅化合物A：R1aSi(H)bX4-a-b和一种酸A，其中酸A至少选自以下组 consisting of trimethylsilyl trifluoroactate，trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate，dimethylsilyl trifluoroactate，dimethylsilyl trifluoromethanesulfonate，butyldimethylsilyl trifluoroactate，butyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate，hexyldimethylsilyl trifluoroacetate，hexyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate，octyldimethylsilyl trifluoroactate，octyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate，decyldimethylsilyl trifluoroacetate和decyldimethylsilyl trifluoromethanesulfonate。
• Liquid precursors for formation of materials containing alkali metals
  申请人：President and Fellows of Harvard College

  公开号：US06994800B1

  公开（公告）日：2006-02-07

  Volatile liquid precursors are provided for use in the formation of alkali metal-containing materials. The compound includes an alkali metal and an amide ligand and is a liquid at a temperature of less than about 70° C.

  提供挥发性液态前体，用于制备含碱金属材料。该化合物包括碱金属和酰胺配体，并在低于约70°C的温度下为液态。
• Addition of silicon hydrides to olefinic double bonds. XII. Use of aminosilicon hydrides and silazane hydrides
  作者：William E. Dennis、J. L. Speier

  DOI：10.1021/jo00836a065

  日期：1970.11
• LAVYGIN I. A.; IZMAJLOV B. A.; ZHDANOV A. A.; MYAKUSHEV V. D.; SKOROXODOV+, ZH. PRIKL. XIMII, 1980, 53, HO 5, 1155-1160
  作者：LAVYGIN I. A.、 IZMAJLOV B. A.、 ZHDANOV A. A.、 MYAKUSHEV V. D.、 SKOROXODOV+

  DOI：——

  日期：——
• Lavygin, I. A.; Izmailov, B. A.; Zhdanov, A. A., Journal of applied chemistry of the USSR, 1980, vol. 53, # 5, p. 915 - 919
  作者：Lavygin, I. A.、Izmailov, B. A.、Zhdanov, A. A.、Myakushev, V. D.、Skorokhodov, I. I.、Migalina, V. M.

  DOI：——

  日期：——