tetrasupersilyldithallane | 174809-85-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: tetrasupersilyldithallane
• CAS: 174809-85-9
• 化学式: C₄₈H₁₀₈Si₄Tl₂
• 分子量: 1206.49
• InChiKey: VWPZHONBWKZBRU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  18.76
• 重原子数：
  54.0
• 可旋转键数：
  5.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tetrasupersilyldithallane 以 二氯甲烷-D2 为溶剂， 生成 disupersilylthallonium tetrachloroaluminate
  参考文献：
  名称：

  R*4Tl3Cl and R*6Tl6Cl2 (R*=SitBu3)—The First Compounds with Larger Clusters Containing Covalently Linked Thallium Atoms

  摘要：

  DOI：

  10.1002/1521-3773(20010401)40:7<1232::aid-anie1232>3.0.co;2-f
• 作为产物：
  描述：

  环戊二烯铊 、 以 正戊烷 为溶剂， 生成 tetrasupersilyldithallane
  参考文献：
  名称：

  Wiberg, Nils; Blank, Thomas; Amelunxen, Kerstin, European Journal of Inorganic Chemistry

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Supersilyltrielane R _nEHal_3-n (E = Triel, R = SitBu₃): Synthesen, Charakterisierung, Reaktionen, Strukturen [1] / Supersilyltrielanes R _nEHal_3-n (E = Triel, R = SitBu₃): Syntheses, Characterization, Reactions, Structures [1]
  作者：Nils Wiberg、Kerstin Amelunxen、Thomas Blank、Hans-Wolfram Lerner、Kurt Polborn、Heinrich Nöth、Ralf Littger、Manfred Rackl、Martin Schmidt-Amelunxen、Holger Schwenk-Kircher、Markus Warchold

  DOI：10.1515/znb-2001-0712

  日期：2001.7.1

  Water- and oxygen-sensitive compounds R*EHal₂•D, R*EHal₂ and R*₂EHal (R* = SitBu₃; E = B, Al, Ga, In, TI; Hal = F, Cl, Br, I; D = OR₂, NR₃) have been synthesized by reaction of EHal₃ with NaR* in the absence or presence of donors as well as by substitution of D, Hal or R* by other substituents, or by reaction of R*₂E-ER*₂ (E = Al, In) with I₂, H₂, AgF₂ or HBr. Thermal decomposition of the compounds in solution or in the gas phase leads to elimination of D from R*EHal₂•D, or of R*Hal from R*EHal₂ and R*₂EHal, respectively. The dihalides R*EHal₂ act as Lewis acids with respect to donors OR₂ or NR₃ (formation of adducts R*EHal₂•D), the monohalides R*₂EHal as Lewis bases with respect to acceptors EHal₃ (formation of R*₂E⁺ EHal₄ ^-). Dehalogenations of R*₂EHal and R*EHal₂ with alkali metals or NaR* leads to compounds R*₄E₂ (E = AI, In, Tl), R*₃E₂• (E = AI, Ga), R*₄E₃ ^• (E = Al, Ga), R*₄E₄ (E = AI, Ga), R*₆Ga₈, R*₈In₁₂, (R*₂B^- ), R*₂A^- , R*₃Ga₂ ^-, R*₄Ga₃ ^-, R*₄Ga₄ ^2-, R*₄Tl₃Cl, or R*₆Tl₆Cl₂. The structures of R*BBr₂•Py, R*AlBr₂•NEtMe₂, (R*AlClOBu)₂, R*₂BF as well as R*₂ECl (E = B, Al, Ga, Tl) have been determined by X-ray structure analyses.

  水和氧敏感化合物 R*EHAl₂•D、R*EHAl₂ 和 R*₂EHAl（R* = SitBu₃；E = B，Al，Ga，In，TI；Hal = F，Cl，Br，I；D = OR₂，NR₃）已通过 EHAl₃ 与 NaR* 在存在或不存在供体的情况下反应合成，或通过 D、Hal 或 R* 被其他取代基取代，或通过 R*₂E-ER*₂（E = Al，In）与 I₂、H₂、AgF₂ 或 HBr 反应合成。这些化合物在溶液中或气相中的热分解导致 R*EHAl₂•D 中的 D 或 R*EHAl₂ 和 R*₂EHAl 中的 R*Hal 被消除。二卤化物 R*EHAl₂ 与供体 OR₂ 或 NR₃ 作为 Lewis 酸（形成加合物 R*EHAl₂•D），而单卤化物 R*₂EHAl 与受体 EHAl₃ 作为 Lewis 碱（形成 R*₂E⁺ EHAl₄^-）。用碱金属或 NaR* 去卤化 R*₂EHAl 和 R*EHAl₂ 会导致化合物 R*₄E₂（E = AI，In，Tl），R*₃E₂•（E = AI，Ga），R*₄E₃^•（E = Al，Ga），R*₄E₄（E = AI，Ga），R*₆Ga₈，R*₈In₁₂，（R*₂B^-），R*₂A^-，R*₃Ga₂^-，R*₄Ga₃^-，R*₄Ga₄^2-，R*₄Tl₃Cl，或 R*₆Tl₆Cl₂。R*BBr₂•Py、R*AlBr₂•NEtMe₂、（R*AlClOBu）₂、R*₂BF 以及 R*₂ECl（E = B，Al，Ga，Tl）的结构已通过 X 射线结构分析确定。
• Tetrasupersilyldiindium(In–In) and Tetrasupersilyldithallium(TlTl):(tBu3Si)2MM(SitBu3)2(M= In, Tl)
  作者：Nils Wiberg、Kerstin Amelunxen、Heinrich Nöth、Martin Schmidt、Holger Schwenk

  DOI：10.1002/anie.199600651

  日期：1996.1.19